JPH07119895B2

JPH07119895B2 - ビ−ムスプリッタ

Info

Publication number: JPH07119895B2
Application number: JP3130696A
Authority: JP
Inventors: 良幸大竹; 豊溝渕; 広次村木
Original assignee: Hamamatsu Photonics KK
Current assignee: Hamamatsu Photonics KK
Priority date: 1991-05-02
Filing date: 1991-05-02
Publication date: 1995-12-20
Anticipated expiration: 2010-12-20
Also published as: JPH04331910A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はビ−ムスプリッタに関す
るものであり、さらに詳しくは一定の波長の入射光に対
し透過光と反射光の強度比を変化させることができるよ
うにしたビ−ムスプリッタに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ビ−ムスプリッタとは、入射光を二つに
分ける光学素子であり、種々の型があるが、その一つと
して一対の直角プリズムを用いたものが知られている。
これは、一対の直角プリズムの斜面どうしを張り合わ
せ、その斜面間に光の一部を反射し残りを透過させる膜
を形成させたものである。このタイプのビ−ムスプリッ
タ３０を図６に示す。入射光３５は、直角プリズム３１
に入射すると反射・透過膜３３で一部が反射され、残り
が透過して他の直角プリズム３２に至る。そして、反射
光３６がプリズム３１より、また透過光３７がプリズム
３２より、互いに直角の方向に出射して、入射光の分離
が行われる。

【０００３】かかるビ−ムスプリッタでは、斜面間に形
成される反射・透過膜として通常多層膜が用いられる。
この多層膜は、使用する入射光の波長、入射角度に合わ
せて所望の透過光と入射光の強度比を得られるように材
質、厚さ等が決められている。したがって、特定のビ−
ムスプリッタに対しては、透過率と反射率の比が入射光
の波長に対して一義的に決まってしまう。そこで、入射
光の波長および得ようとする透過率と反射率の比にあわ
せて反射・透過膜を変更した種々のビ−ムスプリッタが
作製され各種用途に供されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のビ
−ムスプリッタでは、入射光の波長に対して透過光と反
射光の強度比が決まってしまう。したがって、一定の波
長の入射光に対し透過光と反射光の強度比を変更したい
場合には、ビ−ムスプリッタ自体を交換しなければなら
なかった。また、強度比を一定に保ちつつ使用する入射
光の波長を変更する場合にも、ビ−ムスプリッタ自体を
交換しなければならなかった。このため、入射光の波長
および所望の反射光と透過光の強度比に対応した数のビ
−ムスプリッタを用意しておかなければならず、コスト
がかさんでいた。また、入射光の波長および得ようとす
る反射光と透過光の強度比を変更する度に、ビ−ムスプ
リッタを交換しなければならず、不便であった。

【０００５】一方、図６に示すような従来のビ−ムスプ
リッタでも、入射光の入射角を変更すれば、一定の入射
光の波長に対しても反射光と透過光の強度比を変更する
ことができる。しかし、この場合には、透過光および反
射光の出射方向が変化してしまうため受光素子の位置を
変更しなければならなかった。かかる位置変更は微妙な
ものであるため、面倒であり、位置変更のための装置が
複雑なものとなってしまう。

【０００６】更に、入射角を変更することなく反射光と
透過光の強度比を変化させる方法として、偏光ビ−ムス
プリッタと１／２波長板を組み合わせたものがある。こ
れは、偏光ビ−ムスプリッタと光源との間に１／２波長
板を配置し、１／２波長板を回転させることにより入射
光の偏光面を回転させ、偏光ビ−ムスプリッタからの透
過光（ｐ偏光）と反射光（ｓ偏光）の強度比を変化させ
るものである。しかし、かかる偏光ビ−ムスプリッタを
用いる場合には、入射光は直線偏光でなくてはならず、
また、１／２波長板と組み合わせて用いねばならず、装
置が大型・複雑化しコストがかさむことになっていた。

【０００７】従って本発明の目的は、上述した問題点を
解決するためになされたもので、簡単な構成で、一定の
波長の入射光に対し透過光と反射光の強度比を変化させ
ることができるビ−ムスプリッタを提供することであ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明のビームスプリッタは、それぞれの面と面を対向
配置した一対の光学ブロックと、該面と面との間の光ビ
ームの光路部分を除いた領域にのみ設けられた弾性体
と、該弾性体に該面と垂直な方向へ力を加える手段とを
有し、該面間距離を変化させることによって透過光と反
射光の強度比を変化させるようにしたことを特徴とす
る。

【０００９】ここで、光学ブロックの各々の面の間の光
ビームの光路部分には、光学ブロックより屈折率が低い
層が設けられており、その光学ブロックに入射した入射
光がその光学ブロックの該一の面に対し全反射条件を満
たしながら出射するようになっている。

【００１０】この低屈折率層は、その光学ブロックの屈
折率より低い屈折率を有するのであれば、空気でもよ
い。

【００１１】

【作用】入射光が、一方の光学ブロックに入射しその後
該一の面に対し全反射条件を満たしながら出射する場合
には、その面で全反射をする。しかし、このとき同時
に、エバネッセント波がその面の向こう側、すなわち、
その光学ブロックの外側に生じる。かかるエバネッセン
ト波の電界は、当該面から距離が離れるにしたがって指
数関数的に減少する性質を有する。しかして、他方の光
学ブロックの該一の面がその光学ブロックのその面に対
向させて配置されている。したがって、この面間距離に
対応した量の電界を有するエバネッセント波が該他方の
光学ブロックに捉えられ、透過光としてその光学ブロッ
ク内を伝搬し出射することになる。そして、この光学ブ
ロックに捉えられなかったエバネッセント波は、最初の
光学ブロックの該一の面で反射された反射光となってそ
の光学ブロック内を伝搬し出射する。

【００１２】該一対の光学ブロックの各々の面の間に設
けられた弾性体にこれらの面に対して垂直な方向へ力を
加えると、この弾性体に弾性変形が生じ、光学ブロック
の面間距離を可逆的に変化させることができる。ここ
で、この面間距離に対応した電界を有するエバネッセン
ト波が透過光として伝搬することになり、反射光の強度
も変化する。したがって、透過光と反射光の強度比が変
化することになる。

【００１３】本発明では、このように面間距離の変更を
弾性体の弾性変形により行うことにしたので、面間距離
を連続的に変更することができる。ゆえに、面間距離を
微妙に変化させることにより、そのわずかな変動で指数
関数的に急激に減少するエバネッセント波の電界の変化
をとらえることが可能となり、透過光の強度を変化させ
ることができる。

【００１４】したがって、本発明のビ−ムスプリッタに
よれば、簡易な構成で一定波長の入射光に対して反射光
と透過光の強度比を変更させることができる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の実施例について図を参照して
詳細に説明する。

【００１６】図１は本発明の第一の実施例たるビ−ムス
プリッタ２０を説明する図である。ビ−ムスプリッタ２
０は、それぞれの斜面１ａ及び２ａを対向させて配置さ
れた一対の直角プリズム１及び２と、これら斜面間に設
けられたＬＢ膜（Langmuir-Blodgett膜）３と、これら
プリズムを保持するためのホルダ−４とからなる。この
ホルダ−４は、支持枠１０とこれに支持されてプリズム
１及び２をそれぞれ挟持する挟持部８ｂ及び８ａとから
なる。そして、この挟持部８ａには支持枠１０に螺合さ
れたネジ９が接合されている。

【００１７】直角プリズム１及び２の斜面１ａ及び２ａ
の一方または両方には、光路となる中心部分を除きＬＢ
膜３を形成してある。ホルダ−４の挟持部８ｂ及び８ａ
が、プリズム１及び２の直角部分１ｂ及び２ｂをそれぞ
れ挟持している。このうち、挟持部８ｂは、ホルダ−４
の支持枠１０に固着されている。一方、挟持部８ａはネ
ジ９に接合されており、このネジ９が支持枠１０に形成
されたネジ孔に螺合されている。このネジ９はプリズム
の斜面１ａ及び２ａに対し垂直な方向に延びており、そ
の回転により斜面１ａ及び２ａに対し垂直な方向に移動
する。かかるネジ９及び挟持部８ａの移動によりプリズ
ム２を介してＬＢ膜３に引張力または圧縮力が加えられ
る。その結果、ＬＢ膜３が弾性変形し、斜面１ａと２ａ
の距離を変化させることができる。この面間距離の変化
は、ＬＢ膜の弾性変形を利用しているものであるため、
可逆的であり、かつ、微妙な変化が可能である。

【００１８】ビ−ムスプリッタ２０は、入射光５がプリ
ズム１にその入射面１ｃを通して入射し、斜面１ａに至
るように配置される。また、入射光５が斜面１ａにおい
て全反射条件を満たすように、プリズムの材質が選択さ
れている。すなわち、入射光５の波長に対し、プリズム
１の屈折率をｎ₁、斜面１ａおよび２ａの間に形成され
た層の屈折率をｎ₂とし、かつ、斜面１ａへの入射光の
入射角をθ₁とすると、下記の数式１となっている。な
お、本実施例においては、斜面１ａと２ａの間の光路部
分には何も設けられていないので、ビ−ムスプリッタ２
０を空気中に置いた場合にはそこには空気が満たされて
いることになる。ゆえに、ｎ₂は約１である。また、入
射光５がプリズム１の入射面１ｃに垂直に入射するよう
にビ−ムスプリッタ２０が配置されているので、入射角
θ₁は４５度である。以上より、ｎ₁は下記の数式２を満
たすものでなければならない。そこで、本実施例におい
ては、プリズム１及び２として、屈折率ｎ₁が入射光の
広い波長の範囲に対して１．５より大きいＢＫ７ガラス
（光学ガラスの一種であるホウケイ酸塩クラウンガラス
の一つ）を使用している。したがって、種々の波長の入
射光に対して全反射条件を満足させることができる。

【００１９】

【数１】ｎ₁ｓｉｎθ₁＞ｎ₂

【００２０】

【数２】ｎ₁＞２^1/2ｎ₂＝２^1/2

【００２１】本第一実施例によれば、ＬＢ膜３の弾性変
形に基づいてプリズムの斜面１ａと２ａの間の距離を変
化させ、透過光と反射光の強度比を変化させる。以下、
この原理について説明する。

【００２２】入射光５が全反射条件を満たして斜面１ａ
に達すると、図３Ａに示されるように、エバネッセント
波が斜面１ａの向こう側、すなわちプリズム１の外側に
生じる。従って、プリズム２が存在しない場合には、入
射光５は、エバネッセント波を生じさせた後、反射光６
として再びプリズム１内を伝搬して出射面１ｄより射出
する。このエバネッセント波の電界Ｅは、図３Ｂに示さ
れるように斜面１ａから離れるにしたがって指数関数的
に減少する性質を有し、下記の数式３で与えられる。こ
こで、ｘは斜面１ａからの距離、Ｅ₀は入射光５の電
界、ｎ₂はプリズム１の斜面１ａの外側の屈折率、λは
入射光５の真空における波長である。

【００２３】

【数３】Ｅ＝Ｅ₀ｅｘｐ（−２πｎ₂ｘ／λ）

【００２４】エバネッセント波が生じているところに、
図３Ａに示されるように、プリズム２を近づけていく
と、その斜面２ａにおいてエバネッセント波の一部がプ
リズム２に捉えられる。そして、プリズム２内を透過光
として伝搬して、出射面２ｃより出射することになる。
この透過光の電界は、斜面２ａの位置におけるエバネッ
セント波の電界に等しい。したがって、透過光の電界
は、図３Ｂにおいて、ｘを斜面１ａ及び２ａの間隔とし
た場合の電界Ｅと等しく、上記の数式３で与えられる。
また、透過光の強度Ｉ₁は、電界の２乗に等しいため、
下記の数式４で与えられる。

【００２５】

【数４】Ｉ₁＝｜Ｅ｜²＝Ｅ₀ ²ｅｘｐ（−４πｎ₂ｘ／
λ）

【００２６】一方、透過光としてプリズム２に捉えられ
なかったエバネッセント波は、図３Ａに示されるよう
に、反射光６としてプリズム１中を伝搬し出射面１ｄよ
り出射することになる。ここで、入射光の強度がＩ
₀（＝｜Ｅ₀｜²）とすると、反射光の強度Ｉ₂は、下記の
数式５で与えられる。したがって、透過光と反射光の強
度比Ｉ₁／Ｉ₂は、下記の数式６で与えられる。

【００２７】

【数５】Ｉ₂＝Ｉ₀−Ｉ₁＝Ｅ₀ ²｛１−ｅｘｐ（−４πｎ₂
ｘ／λ）｝

【００２８】

【数６】Ｉ₁／Ｉ₂＝Ｅ₀ ²ｅｘｐ（−４πｎ₂ｘ／λ）／
Ｅ₀ ²｛１−ｅｘｐ（−４πｎ₂ｘ／λ）｝＝ｅｘｐ（−
４πｎ₂ｘ／λ）／｛１−ｅｘｐ（−４πｎ₂ｘ／λ）｝

【００２９】このように、透過光と反射光の強度比は斜
面１ａ及び２ａの間の距離ｘに従って変化する。つま
り、斜面間距離ｘを小さくすればするほど、透過光の強
度が大きくなり、反射光の強度が小さくなる。また、逆
に斜面間距離を大きくすればするほど、透過光の強度が
小さくなり、反射光の強度が大きくなる。

【００３０】本発明においては、斜面１ａおよび２ａの
間に形成された弾性体たるＬＢ膜３にネジ９の回転によ
り力を加えそれを弾性変形させることによって、斜面間
距離を変化させる。ネジ９を支持枠１０に対し締め付け
る方向へ回転させると、透過光の強度が次第に大きくな
り、反射光の強度が小さくなる。逆に、ネジ９を支持枠
１０に対し、弱める方向に回転させると透過光の強度が
次第に小さくなり、反射光の強度が大きくなる。

【００３１】本実施例においては、このように、ＬＢ膜
３の弾性変形によって斜面間距離を変動させることにし
たので、距離の微妙な調整が可能である。また、ネジ９
を用いて膜に力を与えることにしたので、連続的に力
を、ひいては面間距離を変化させることができる。ま
た、弾性変形は可逆的なものであるため、いったん圧縮
力を与えて圧縮させ斜面間距離を減少させた後、その力
を小さくしていけば、弾性膜は確実に延びて斜面間距離
を増大させることができる。さらに、加える力と圧縮量
は、弾性変形においては一対一で決定されるから、加え
る力を調整することで、斜面間距離を調整することがで
き、もって、所望の透過光と反射光の強度比が得られ
る。

【００３２】ここで、本実施例のＬＢ膜３は、アラキジ
ン酸カドミウム（（Ｃ₁₉Ｈ₃₉ＣＯＯ）₂Ｃｄ）より形成
されたラングミュア−ブロジェット膜（ＬＢ膜）であ
り、屈折率が１．５２で、厚さは、例えば、２．７５[n
m]である。かかるアラキジン酸カドミウムのＬＢ膜３
は、適当な弾性係数を有するため、本発明のビ−ムスプ
リッタ２０に用いると、ネジ９の回転に対応して、微妙
に弾性変形を起こす。したがって、プリズム１および２
の斜面１ａ・２ａ間の距離ｘを微妙に変化させることが
できる。よって、透過光７と反射光６の強度比を連続的
に変化させることができる。

【００３３】本発明者らは、この図１のビ−ムスプリッ
タ２０による透過光と反射光の強度比の変化の様子につ
いて以下の実験を行った。ここで、直角プリズム１、２
としては、直角をはさむ各面が一辺３１[mm]の正方形で
あるＢＫ７の直角プリズムを用いた。また、入射光の光
源としては、Ｈｅ−Ｎｅレ−ザを用いた。この光源によ
り得られる入射光の波長は６３２．８[nm]で、入射パワ
−は、３．２[mW]であった。アラキジン酸カドミウムの
ＬＢ膜を、図４Ａに示されるように、プリズム１・２の
斜面１ａ及び２ａのそれぞれの上に２．７５[nm]の厚さ
に形成した。したがって、ＬＢ膜３の実際の厚さは、
５．５[nm]であった。

【００３４】かかる図１のビ−ムスプリッタにおいて、
ネジ９を最初に締めていき、次にゆるめていった。この
実験結果を表１及び図４Ｂに示す。

【００３５】

【表１】

【００３６】この表１及び図４Ｂから明かなように、ネ
ジを締めてＬＢ膜３に与える圧縮力を大きくしていくと
透過率が増大し反射率が減少した。逆に、ネジをゆるめ
てＬＢ膜３に与える圧縮力を小さくしていくと透過率が
減少し反射率が増大した。すなわち、ネジを回転させて
ＬＢ膜３に加える力を変化させることにより、透過光と
反射光の強度比が変化することが証明された。

【００３７】次に本発明の第２実施例について図２を参
照して説明する。第２実施例にかかるビ−ムスプリッタ
２０は、第１実施例のビ−ムスプリッタ２０とほぼ同様
の構成から成る。なお、第１実施例の構成要素と同様の
構成要素については同一の参照番号を付して説明する。

【００３８】第２実施例のビ−ムスプリッタ２０は、第
１実施例のビ−ムスプリッタ２０と同様、一対の直角プ
リズム１及び２とこれを保持するホルダ−４とを有して
いる。弾性体たるＬＢ膜３’がプリズムの斜面１ａと２
ａの両方または一方の上に設けられている。ここで、こ
のＬＢ膜３’は、第１実施例のＬＢ膜３とは異なり、斜
面１ａ及び／または２ａの全面に形成されている。

【００３９】かかる場合には、入射光５がプリズム１と
ＬＢ膜３’の界面たる斜面１ａで全反射をするように、
プリズム１およびＬＢ膜３’の材料を選択する。たとえ
ば、プリズム１としてＳＦＳ１ガラス（光学ガラスの一
種であるフリントガラスの一つ）を、ＬＢ膜３’として
パーフルオロ型ＬＢ膜を用いる。ＳＦＳ１ガラスは、広
い波長領域の入射光に対して屈折率ｎ_１が１．９より大
きいものである。一方、パーフルオロ型ＬＢ膜３’と
は、第１実施例のアラキジン酸カドミウムのＨ−基をＦ
−基に置換したもの（（Ｃ_１９Ｆ_３９ＣＯＯ）_２Ｃｄ）
を使用して作製したＬＢ膜である。パーフルオロ型ＬＢ
膜３’は、第１実施例のＬＢ膜３とほぼ同程度の厚さを
有している。このＬＢ膜３’は、光が十分透過するもの
である。また、その屈折率ｎ_２は約１．３である。した
がって、入射光５が入射角４５度で斜面１ａに入射した
場合には、全反射条件（下記の数式７）を満足すること
になる。

【００４０】

【数７】ｎ₁＞２^1/2ｎ₂

【００４１】したがって、入射光５が斜面１ａに入射す
るとＬＢ膜３’内にエバネッセント波が生じ、その一部
が斜面２ａでプリズム２に捉えられ透過光７としてプリ
ズム２内を伝搬すると同時に、残りがプリズム１内を反
射光６として伝搬することになる。透過光７の電界は、
斜面２ａにおけるエバネッセント波の電界に等しい。エ
バネッセント波の電界Ｅは、既述のように下記の数式８
で与えられる。したがって、斜面１ａおよび２ａ間の距
離ｘに応じて透過光と反射光の強度比が変化することに
なる。

【００４２】

【数８】Ｅ＝Ｅ₀ｅｘｐ（−２πｎ₂ｘ／λ）

【００４３】本第２実施例においても、第１実施例と同
様、この斜面間距離は、ＬＢ膜３’に弾性変形を生じさ
せることによって変化させる。すなわち、本実施例のパ
−フルオロ型ＬＢ膜３’も適当な弾性係数を有するた
め、ホルダ−４のネジ９を回転させプリズム２を介して
これに力を加えることにより、弾性変形が生じ斜面間距
離ｘを微妙にかつ連続的に変化させることができる。こ
の距離の変化に応じて透過光と反射光の強度比が変化す
るのである。

【００４４】なお、本発明のビ−ムスプリッタは、上記
実施例に限定されず、種々の変形が可能である。たとえ
ば、プリズムの斜面間に設ける弾性体は、力を加えるこ
とにより弾性的に変形するものであれば良い。たとえ
ば、弾性材料からなる粒状物、例えばビ−ズを１個また
は複数個配置してもよい。

【００４５】また、プリズム１・２についても、直角プ
リズムに限られず、反射面たる平面１ａ及び入射面たる
平面２ａを有するものであれば、さまざまな光学ブロッ
クが使用できる。例えば、ガラス板でもよい。

【００４６】さらに、全反射を起こさせるために斜面１
ａと２ａとの間に介在させるものは、空気やＬＢ膜には
限定されず、プリズム１より低い屈折率の層であればよ
い。

【００４７】また、プリズム１、２間に設けられた弾性
体に力を加える手段としても、ネジ９を回転させプリズ
ムを押すことによって弾性体に力を与えるものに限られ
ない。連続的に力を変化させることができるものであれ
ば良い。また、必要に応じて、不連続的に力を変化させ
るものによって弾性体に不連続的な変形を与えるのでも
良い。

【００４８】本発明のビ−ムスプリッタは、さらに、入
射光の波長が変化した場合に透過光と反射光の強度比を
一定に保つための制御装置に利用することができる。こ
の制御装置について図５を参照して説明する。

【００４９】この制御装置４５は、光源４１と間隔コン
トロ−ラ４２と本発明のビ−ムスプリッタ２０とから成
る。光源４１は、ビ−ムスプリッタ２０に光を入射させ
るものである。光源４１からは、その波長についての情
報が間隔コントロ−ラ４２に入力される。この間隔コン
トロ−ラ４２にはあらかじめ入射光の波長とビ−ムスプ
リッタ２０に加えるべき力との関係についてのルックア
ップテ−ブルが記憶されている。そして、この間隔コン
トロ−ラ４２は、そのルックアップテ−ブルにしたがっ
てビ−ムスプリッタ２０のホルダ−４上のネジ９を回転
させてその斜面１ａ・２ａの間隔を変化させる。

【００５０】かかる制御装置４５によれば、入射光の波
長が変化しても、ビ−ムスプリッタの斜面間隔をそれに
あわせて調整することができる。したがって、異なる波
長の入射光に対しても透過光と反射光の強度比を一定に
維持することができる。

【００５１】尚、本発明は上述した実施例に限定される
ことなく本発明の趣旨から逸脱することなく種々の変更
が可能となる。

【００５２】

【発明の効果】このように、本発明のビ−ムスプリッタ
によれば、一対の光学ブロックの相対向する斜面間に設
けられた弾性体に弾性変形を与えて、斜面間距離を可逆
的に変化させることにより、一定の波長の入射光に対し
透過光と反射光の強度比を変化させることができる。ま
た、弾性体に弾性変形を与えることによって一対のプリ
ズム間の距離を変化させるようにしたので、その距離を
微妙にかつ連続的に変化させることができ、よって、強
度比を微妙にかつ連続的に変化させることができる。更
に、このように距離をわずかに変化させることが可能で
あるため、短い波長領域の入射光に対してもその透過光
と反射光の強度比を変化させることができる。

【００５３】さらに、本発明のビ−ムスプリッタを用い
れば、入射光の波長が変動しても透過光と反射光の強度
比を一定に維持することができる制御装置を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例のビ−ムスプリッタの説明
図である。

【図２】本発明の第２実施例のビ−ムスプリッタの説明
図である。

【図３Ａ】本発明のビ−ムスプリッタの動作の説明図で
ある。

【図３Ｂ】全反射をなす境界面からの距離とエバネッセ
ント波の電界との関係を示す図である。

【図４Ａ】実験に供せられたビ−ムスプリッタのＬＢ膜
の形成状態についての説明図である。

【図４Ｂ】透過率と反射率の変化の様子について示す実
験結果の図である。

【図５】本発明のビ−ムスプリッタを用いた制御装置の
図である。

【図６】従来のビ−ムスプリッタの説明図である。

【符号の説明】

１直角プリズム２直角プリズム３ＬＢ膜３’ パ−フルオロ型ＬＢ膜４ホルダ− ９ネジ２０ビ−ムスプリッタ４５制御装置４１光源４２間隔コントロ−ラ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】それぞれの面と面を対向配置した一対の
光学ブロックと、該面と面との間の光ビームの光路部分
を除く領域にのみ設けられた弾性体と、該弾性体に該面
と垂直な方向へ力を加える手段とを有し、該面間距離を
変化させることによって透過光と反射光の強度比を変化
させるようにしたことを特徴とするビームスプリッタ。
【請求項２】前記一対の光学ブロックの前記面と面と
の間の光ビームの光路部分に、前記一対の光学ブロック
の屈折率より低い屈折率を有する層を設けたことを特微
とする請求項１記載のビームスプリッタ。
【請求項３】前記弾性体がＬＢ膜よりなることを特徴
とする請求項１または２記載のビームスプリッタ。
【請求項４】前記光学ブロックが直角プリズムよりな
ることを特徴とする請求項１乃至３記載のビームスプリ
ッタ。