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JPH07123153B2 - Method for manufacturing lead frame for semiconductor device - Google Patents
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JPH07123153B2 - Method for manufacturing lead frame for semiconductor device - Google Patents

Method for manufacturing lead frame for semiconductor device

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Publication number
JPH07123153B2
JPH07123153B2 JP61269297A JP26929786A JPH07123153B2 JP H07123153 B2 JPH07123153 B2 JP H07123153B2 JP 61269297 A JP61269297 A JP 61269297A JP 26929786 A JP26929786 A JP 26929786A JP H07123153 B2 JPH07123153 B2 JP H07123153B2
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JP
Japan
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plating
lead frame
strip
stripe
manufacturing
Prior art date
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茂 弓野
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C25D5/12Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はストライプめっき条をプレス加工して製造する
半導体装置用リードフレームの製造方法に関する、特に
3端子IC用レギュレーター用中出力、大出力用の半導体
装置用リードフレームの製造方法に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device, which is manufactured by pressing a striped plated strip, and particularly for a medium output and a large output for a regulator for a three-terminal IC. The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device lead frame.

[従来の技術] 従来、ストライプめっき条をプレス加工して半導体装置
用リードフレームの製造方法、特に3端子IC用レギュレ
ーター用中出力、大出力用リードフレームの製造方法と
しては、第5図(a),(b)及び(c)に示すよう
に、使用するストライプめっき条としては、銅又は銅合
金条1に全面ニッケルめっき3を施し、その上に長手方
向に所定の位置で連続的に部分ストライプめっき(銀ス
トライプめっき2)を施し、ダイボンディングエリア及
びワイヤボンディングエリアをこの部分ストライプめっ
き条に同一面として形成したものを用いる。第5図
(c)はリードフレームを両サイドで2条に配置するの
に用いるストライプめっき条の斜視図である。
[Prior Art] Conventionally, as a method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device by pressing a striped strip, particularly a method for manufacturing a medium output and a large output lead frame for a regulator for a three-terminal IC, FIG. ), (B) and (c), the striped strip to be used is a copper or copper alloy strip 1 which is entirely nickel-plated 3 on which a continuous portion is formed at predetermined positions in the longitudinal direction. Stripe plating (silver stripe plating 2) is applied, and a die bonding area and a wire bonding area are formed on this partial stripe plating strip as the same surface. FIG. 5 (c) is a perspective view of a strip plating strip used for arranging the lead frame in two strips on both sides.

この際部分ストライプめっきとしては半田付性、ワイヤ
ボンディング性を考慮して銀めっきが主流となる。
At this time, silver plating is mainly used as the partial stripe plating in consideration of solderability and wire bonding.

第6図は第5図のストライプめっき条(a),(b),
(c)等を用いてプレス加工を行い製造した3端子IC用
中出力レギュレーターリードフレームを示す。
FIG. 6 shows the stripe plating strips (a), (b),
The middle output regulator lead frame for 3-terminal IC manufactured by pressing using (c) etc. is shown.

第8図は6端子IC用大出力レギュレーターリードフレー
ムの平面図、第7図(a)はそれに用いるストライプめ
っき条の側面図、(b)はリードフレームを両サイドで
2個取りするのに用いるストライプめっき条の斜視図で
ある。(b)図において、4は異形銅合金条でその上に
ニッケルめっき3を全面に施し更にその上に銀めっき条
2を配したストライプめっき条である。
FIG. 8 is a plan view of a large output regulator lead frame for a 6-terminal IC, FIG. 7 (a) is a side view of a stripe plating strip used for it, and FIG. 8 (b) is used for taking two lead frames on both sides. It is a perspective view of a strip plating strip. In FIG. 2 (b), reference numeral 4 is a striped copper alloy strip on which nickel plating 3 is applied over the entire surface, and a silver plated strip 2 is further arranged thereon.

[発明が解決しようとする問題点] しかるに従来の製造方法はその使用するストライプめっ
き条としてダイボンディングエリアとワイヤボンディン
グエリアを同一の銀めっきストライプによって形成した
ものを使用し、これをプレス加工により打ち抜いてリー
ドフレームを製造していたので次の問題点を有してい
た。
[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional manufacturing method, however, the stripe plating strips used are die-bonding areas and wire-bonding areas formed by the same silver-plated stripes, which are punched by press working. Since the lead frame was manufactured by the above method, it had the following problems.

即ち、 (1) ダイボンディング時に使用するペレット付用の
半田が同一銀めっき面を介して(伝わって)流れ出し、
清浄な面を要求されるワイヤボンディングパッド部まで
流れ込みワイヤ接続作業を困難とする。ペレット付が行
なわれるダイボンディングエリアは、通常パッケージン
グが終了するまでは製造上の問題からその一部をリード
部分に連結して支持する必要がある。
That is, (1) The solder with pellets used at the time of die bonding flows out (transmits) through the same silver-plated surface,
A clean surface flows into the required wire bonding pad, making wire connection difficult. Due to manufacturing problems, it is necessary to support a part of the die bonding area where the pellets are attached by connecting it to the lead portion until the packaging is completed.

(2) ワイヤボンディングは出来ても、半田が流れ込
むと高温度において合金化して接続部がもろくなり強度
的に不安で長期信頼性に欠ける。
(2) Even if wire bonding is possible, when solder flows in, it alloys at high temperature and the connection becomes brittle, which makes the strength uneasy and lacks long-term reliability.

(3) 半田流れ出し防止として、ダイボンディングパ
ッド周辺に溝やVノッチ等のプレス加工を行うが、(実
開昭58−44858号、特開昭60−4246号、実開昭60−99547
号、特開昭60−103651号各公報参照)ある範囲内に納め
る必要があるため自ずと加工には制限がある。
(3) In order to prevent the solder from flowing out, press working such as grooves and V notches is performed around the die bonding pad (see JP 58-44858 A, JP 60-4246 JP 60-99547 JP).
No. 60-103651, JP-A No. 60-103651). There is a limit to the processing because it must be contained within a certain range.

(4) めっき面の表面状況のバラツキ(結晶粒の大き
さ)が即半田流れに影響し、半田流れを調節するために
はリードフレームの品質におけるめっき結晶粒のコント
ロール要因が大きくなる。
(4) The variation of the surface condition of the plated surface (size of crystal grains) immediately affects the solder flow, and in order to adjust the solder flow, the control factor of the plated crystal grains in the quality of the lead frame becomes large.

本発明の目的は前記した従来技術の問題点を解消し、ダ
イボンディングエリアにおける半田がワイヤボンディン
グ部へ流れるのを防止し、プレス加工及びワイヤ接続作
業が容易,確実で、めっき面の結晶粒の大きさに関係な
く、信頼性の高い製造得率の良い半導体装置用リードフ
レームの製造方法を提供することにある。
The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, prevent the solder in the die bonding area from flowing to the wire bonding portion, and make the press working and wire connecting work easy and reliable, and to prevent the crystal grains on the plated surface It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device, which has high reliability and high manufacturing yield regardless of the size.

[問題点を解決するための手段] 本発明の要旨は、使用するストライプめっき条として半
導体のシリコンチップを乗せるダイボンディングエリア
用ストライプめっきとワイヤを接続するワイヤボンディ
ングエリア用ストライプめっきを分離して有するものを
使用したことにある。
[Means for Solving the Problems] The gist of the present invention has, as stripe plating strips to be used, stripe plating for a die bonding area on which a silicon chip of a semiconductor is mounted and stripe plating for a wire bonding area for connecting wires, separately. I used it.

即ち本発明は、予めダイボンディングエリア及びワイヤ
ボンディングエリアを含む長手方向部位にストライプ状
のめっきを施してなるストライプめっき条をプレス加工
により打ち抜いて半導体装置用リードフレームを製造す
る方法において、該ストライプめっき条として、ダイボ
ンディングエリア用ストライプめっきと、ワイヤボンデ
ィングエリア用ストライプめっきとを分離して有するも
のを使用したことを特徴とする半導体装置用リードフレ
ームの製造方法を要旨としている。
That is, the present invention relates to a method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device by punching a stripe plating strip, which is obtained by performing stripe-shaped plating in advance in a longitudinal direction region including a die bonding area and a wire bonding area, by press working, to obtain the stripe plating. The gist of the method is a method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device, characterized in that stripe plating for die bonding area and stripe plating for wire bonding area are separately used.

本発明において使用するストライプめっき条としては、
例えば銅又は銅合金条の上に全面ニッケルめっきをした
ものに部分めっきストライプとして半田付性、ワイヤボ
ンディング性を考慮して銀めっきを用いる。ダイボンデ
ィングエリア用ストライプめっきとワイヤボンディング
エリア用ストライプめっきとを分離するということは換
言すれば、お互いに独立したストライプを作ることであ
り、両ストライプの間隔として0.5〜1.5mmの範囲が用い
られる。
The striped strip used in the present invention includes:
For example, a copper or copper alloy strip which is entirely nickel-plated is used as a partial plating stripe, and silver plating is used in consideration of solderability and wire bonding. In other words, separating the stripe plating for the die bonding area and the stripe plating for the wire bonding area is to form stripes independent of each other, and the interval between both stripes is in the range of 0.5 to 1.5 mm.

[作 用] 本発明はストライプめっき条をプレス加工して半導体装
置用リードフレームを製造する方法において、該ストラ
イプめっき条としてダイボンディングエリア用ストライ
プめっきとワイヤボンディングエリア用ストライプめっ
きとを分離して有するものを使用したことによりダイボ
ンディング時の半田流れがワイヤボンディングエリアに
流れ込むことがなくなり、それによって、プレス加工、
ワイヤ接続作業が容易確実に行うことが出来、又めっき
面の結晶粒のコントロールも必要なくなり信頼性の高い
製造得率の良いリードフレームの製作が可能となるので
ある。
[Operation] The present invention is a method of manufacturing a lead frame for a semiconductor device by pressing a stripe plating strip, wherein the stripe plating strip has a die plating area stripe plating and a wire bonding area stripe plating separately. The solder flow during die bonding does not flow into the wire bonding area because of the use of the one, which enables press working,
Wire connection work can be performed easily and reliably, and it is not necessary to control the crystal grains on the plated surface, and it is possible to manufacture a highly reliable lead frame with a high manufacturing yield.

[実施例] 本発明の実施例を図に用いて説明する。第2図,第4図
は本発明により製作したリードフレームの平面図であり
第1図,第3図はそれぞれ第2図,第4図に使用したス
トライプめっき条の斜視図である。
Example An example of the present invention will be described with reference to the drawings. 2 and 4 are plan views of the lead frame manufactured according to the present invention, and FIGS. 1 and 3 are perspective views of the strip plating strips used in FIGS. 2 and 4, respectively.

第1図において、銅または銅合金条1に全面ニッケルめ
っき3を施したものにダイボンディングエリア用ストラ
イプめっきとして約5mm幅の銀ストライプめっき6aを1
本施し、さらに1mm幅の間隔をあけて、さらにワイヤボ
ンディング用ストライプめっきとして約3mm幅の銀スト
ライプめっき5aを施した。ストライプ間の間隔1mm幅の
寸法交差は±0.2mm以内としたものである。第2図は第
1図のストライプめっき条を使用して製作した3端子IC
用中出力レギュレーター用リードフレームである。
Referring to FIG. 1, copper or copper alloy strip 1 which is entirely plated with nickel 3 is provided with silver stripe plating 6a having a width of about 5 mm as stripe plating for the die bonding area.
This was applied, and a 1 mm wide space was provided, and about 3 mm wide silver stripe plating 5a was further applied as wire bonding stripe plating. The dimensional intersection with a 1 mm width between stripes is within ± 0.2 mm. Fig. 2 shows a 3-terminal IC manufactured using the strip plating strip shown in Fig. 1.
This is a lead frame for medium-duty output regulator.

第4図は3端子IC用大出力(パワー)レギュレーター用
リードフレームの平面図であり第3図はその製造に使用
するストライプめっき条の斜視図である。
FIG. 4 is a plan view of a lead frame for a large output (power) regulator for a three-terminal IC, and FIG. 3 is a perspective view of a strip plating strip used for manufacturing the lead frame.

第3図において異形銅合金条4に全面ニッケルめっき3
を施しその後ダイボンディングエリア(半田付け部)用
めっきストライプとして約7mm幅の銀ストライプめっき6
bを左右対象に2本施しさらにその外側に夫々1mm幅のス
トライプで隙間をあけてさらにワイヤボンディング用ス
トライプめっきとして約3.5mm幅の銀ストライプめっき5
bを1本宛施した例である。このストライプめっき条を
使用して左右対象に2ケの3端子IC用大出力レギュレー
ター用リードフレームを製作することが出来る。
In FIG. 3, the entire surface is nickel-plated on the deformed copper alloy strip 4.
After that, silver stripe plating with a width of about 7 mm is used as a plating stripe for the die bonding area (soldered part) 6
Apply two b to the left and right, and make a gap with a 1 mm wide stripe on each of the outer sides, and further, as a stripe plating for wire bonding, a silver stripe plating of about 3.5 mm width 5
This is an example in which one b is applied. Using this striped plating strip, it is possible to manufacture two lead-frames for large output regulators for 3-terminal ICs on the left and right.

[発明の効果] 本発明の効果として次の事項を列挙することが出来る。[Effects of the Invention] The following items can be listed as effects of the present invention.

(1) ダイボンディング時に使用する半田が所定のエ
リアから外へ流れ出ることがなくなった。
(1) Solder used during die bonding did not flow out from a predetermined area.

(2) ワイヤボンディングエリアがダイボンディング
エアリよりの半田により侵されることがないため半導体
装置の特性、品質の向上が図れた。
(2) Since the wire bonding area is not attacked by the solder from the die bonding air, the characteristics and quality of the semiconductor device can be improved.

(3) プレス時、半田流れ防止用の溝を過度に深くし
たり、数を増やす必要もないためプレス加工が容易とな
った。
(3) During pressing, it is not necessary to excessively deepen the grooves for preventing solder flow or to increase the number, which facilitates pressing.

(4) 半田流れ止めの刻印やV溝を浅くすることが出
来るため、特に全面にニッケルめっきを施したタイプで
は裏背面でのNiめっき割れも防止することが出来る。
(4) Since the marking of the solder flow stop and the V groove can be made shallow, it is also possible to prevent Ni plating cracks on the back and back surfaces, especially in the case where the entire surface is nickel plated.

(5) めっき表面のバラツキ(結晶粒の大きさ)のコ
ントロールが不必要になり、工程が安定した。
(5) It became unnecessary to control the variation (size of crystal grains) on the plating surface, and the process was stabilized.

以上の如く、本発明によって、リードフレームの製造が
容易確実となり更に品質上信頼性が向上し更に得率向
上、コスト低減にも貢献した。
As described above, according to the present invention, the manufacturing of the lead frame becomes easy and reliable, the reliability in quality is further improved, the yield is further improved, and the cost is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図,第3図は本発明の半導体装置用リードフレーム
の製造方法に係るストライプめっき条の一実施例の斜視
図、第2図,第4図は夫々第1図,第3図のストライプ
めっき条を使用した製造方法により製作した夫々中出
力、大出力レギュレーターリードフレームの実施例の平
面図、第5図,第7図は従来の製造方法に用いる連続部
分めっき条の断面図及び斜視図、第6図,第8図は夫々
第5図,第7図の連続部分めっき条を使用した製作方法
により製作した夫々中出力レギュレーター、大出力レギ
ュレーター用リードフレームの平面図である。 1:銅又は銅合金条、 2:銀ストライプめっき、 3:ニッケルめっき、 4:異形銅合金条、 5a,5b:ワイヤボンディング用銀ストライプめっき、 6a,6b:ダイボンディング用銀ストライプめっき。
1 and 3 are perspective views of an embodiment of a stripe plating strip according to the method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device of the present invention, and FIGS. 2 and 4 are the stripes of FIGS. 1 and 3, respectively. FIGS. 5 and 7 are cross-sectional views and perspective views of continuous partial plating strips used in a conventional manufacturing method, respectively, showing a plan view of an embodiment of a medium-power and high-power regulator lead frame manufactured by a plating strip manufacturing method. 6 and 8 are plan views of the lead frames for the medium output regulator and the large output regulator, respectively, which are manufactured by the manufacturing method using the continuous partial plating strips of FIGS. 5 and 7. 1: Copper or copper alloy strip, 2: Silver stripe plating, 3: Nickel plating, 4: Deformed copper alloy strip, 5a, 5b: Silver stripe plating for wire bonding, 6a, 6b: Silver stripe plating for die bonding.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】予めダイボンディングエリア及びワイヤボ
ンディングエリアを含む長手方向部位にストライプ状の
めっきを施してなるストライプめっき条をプレス加工に
より打ち抜いて半導体装置用リードフレームを製造する
方法において、該ストライプめっき条としてダイボンデ
ィングエリア用ストライプめっきとワイヤボンディング
エリア用ストライプめっきとを分離して有するものを使
用したことを特徴とする半導体装置用リードフレームの
製造方法。
1. A method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device by punching a stripe plating strip, which is obtained by performing stripe-shaped plating in advance in a longitudinal direction portion including a die bonding area and a wire bonding area, by press working, the stripe plating being performed. A method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device, characterized in that a strip plating for die bonding area and a strip plating for wire bonding area are separately used as strips.
JP61269297A 1986-11-12 1986-11-12 Method for manufacturing lead frame for semiconductor device Expired - Lifetime JPH07123153B2 (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
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JPS63122254A JPS63122254A (en) 1988-05-26
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JPS5322365A (en) * 1976-08-13 1978-03-01 Hitachi Ltd Resin mold type semiconductor device and its production
JPS6270596A (en) * 1985-09-20 1987-04-01 Toshiba Corp Method for plating copper alloy substrate containing tin with silver

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