JPH0724291B2 - Integrated circuit container and manufacturing method thereof - Google Patents
Integrated circuit container and manufacturing method thereofInfo
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- JPH0724291B2 JPH0724291B2 JP16839787A JP16839787A JPH0724291B2 JP H0724291 B2 JPH0724291 B2 JP H0724291B2 JP 16839787 A JP16839787 A JP 16839787A JP 16839787 A JP16839787 A JP 16839787A JP H0724291 B2 JPH0724291 B2 JP H0724291B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体チップを搭載するための集積回路容器
およびその製造方法に関する。さらに詳しくは、金属材
料を素材とする特にリード4方向取出しタイプに適する
集積回路容器およびその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit container for mounting a semiconductor chip and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention relates to an integrated circuit container made of a metal material, which is particularly suitable for a four-way lead-out type, and a manufacturing method thereof.
(従来の技術およびその問題点) 現在使用されているセラミックス製集積回路容器は、第
1図(a)および(b)に示す2つのタイプがあり、第
1図(a)は平面形状が長方形、第1図(b)は正方形
の場合を示す。長方形のものは、第2図(a)に斜視図
で示すリード2方向取出しタイプのパッケージに使用さ
れ、長辺側からリード30が取出される。正方形のもの
は、第2図(b)に示すリード4方向取出しタイプのパ
ッケージに使用され、4辺からリード30が取出される。
リード4方向取出しタイプは、2方向取出しタイプより
も多数のリードを取出すことができる。(Prior Art and Problems Thereof) There are two types of ceramics integrated circuit containers currently used, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). FIG. 1 (a) shows a rectangular planar shape. , FIG. 1 (b) shows the case of a square. The rectangular one is used for a lead two-way lead-out type package shown in a perspective view in FIG. 2 (a), and the lead 30 is taken out from the long side. The square one is used for a lead four-direction lead-out type package shown in FIG. 2B, and the lead 30 is taken out from four sides.
The 4-way lead type can take out a larger number of leads than the 2-way lead type.
ところで、第1図(b)に示すように、従来のリード4
方向取出しタイプのセラミックス製容器は、正方形のセ
ラミックス板1の中央部に正方形の凹み部2を有し、半
導体チップは該凹み部2にガラスまたは貴金属層を介し
て搭載される。リードフレームはこの凹み部を取り囲む
周面部3上に付着ガラスを介して搭載され、上記半導体
チップのリードと接続される。容器4と同様に、凹み部
とその凹み部を取り囲む周面部を有する容器蓋を、容器
の凹み部、周面部と対向せしめて、第2図(b)の如く
封着する。この容器蓋4′も容器4と同様にセラミック
ス製の焼結体である。By the way, as shown in FIG.
The direction extraction type ceramics container has a square recess 2 at the center of a square ceramic plate 1, and a semiconductor chip is mounted in the recess 2 via a glass or noble metal layer. The lead frame is mounted on the peripheral surface portion 3 surrounding the recessed portion via the attached glass and is connected to the leads of the semiconductor chip. Similar to the container 4, a container lid having a recessed portion and a peripheral surface portion surrounding the recessed portion is opposed to the recessed portion and the peripheral surface portion of the container and sealed as shown in FIG. 2 (b). Like the container 4, this container lid 4'is also a sintered body made of ceramics.
しかしながら、セラミックス製容器には次の欠点があ
る。However, the ceramic container has the following drawbacks.
衝撃に弱いため、搬送工程中に、お互いに衝突して欠
けを生ずる危険が大きい。焼結が不完全な場合には、熱
衝撃によってクラックが発生することもある。Since they are vulnerable to impact, there is a great risk that they may collide with each other to cause chipping during the transportation process. If sintering is incomplete, cracks may occur due to thermal shock.
熱放散性が不十分であるため、半導体チップの集積度
が高く、発熱が大きい場合には誤動作が生じ易くなる。Since the heat dissipation property is insufficient, malfunction is likely to occur when the degree of integration of the semiconductor chips is high and the heat generation is large.
焼成時の収縮が大きく、寸法精度が劣る。Large shrinkage during firing and poor dimensional accuracy.
焼成後の冷却過程で反りが発生し易く、平坦度に問題
がある。Warpage is likely to occur in the cooling process after firing, and there is a problem in flatness.
これらの欠点を解消するため、本出願人は、既に実願昭
60-146527号において、金属を用いた容器を提案した。
容器を金属で構成する場合には、リードフレームと接触
する恐れがある部位を電気絶縁層で覆う必要がある。電
気絶縁層としては金属酸化物が適当であり、本出願人
は、既に特願昭62-68642号において金属酸化物層を備え
た集積回路容器とその製造方法を提案した。In order to overcome these drawbacks, the applicant has already made
In No. 60-146527, we proposed a container using metal.
When the container is made of metal, it is necessary to cover a portion that may come into contact with the lead frame with an electrically insulating layer. A metal oxide is suitable for the electrically insulating layer, and the applicant has already proposed in Japanese Patent Application No. 62-68642 an integrated circuit container provided with a metal oxide layer and a method for manufacturing the same.
それによれば、酸化物を形成する金属で金属芯材を周面
被覆した、容器巾の長尺板状材料を所定長さに切断し、
第3図(a)および(b)に示すように中央部に凹み部
7を成形し、ついで被覆金属層5bを酸化処理して容器5
となすのである。この場合、切口ロ−ロ、切口ハ−ハで
は金属芯材5aが露出するので、第1図(a)に示すリー
ド2方向取出しタイプの容器に限定される。もちろん、
第4図(a)に示すように、板状の金属芯材6aを、外形
が正方形で、かつ中央部に凹み部7を有する半成品8を
製作した後、同(b)に示す断面図のように、メッキあ
るいは蒸着によって被覆金属層6bを形成し、ついで酸化
処理して全周面に電気絶縁性を付与することも可能であ
る。しかし、この方法では、1つ1つの半成品8に被覆
金属層を形成する工程が非能率であり、生産性が低いの
である。According to this, a metal core material is coated with a metal forming an oxide on the peripheral surface, and a long plate-shaped material having a container width is cut into a predetermined length,
As shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), a recessed portion 7 is formed in the central portion, and then the coated metal layer 5b is subjected to an oxidation treatment to obtain a container
It is said that In this case, since the metal core material 5a is exposed at the cut roll and the cut ha, the lead is limited to the two-way lead-out type container shown in FIG. 1 (a). of course,
As shown in FIG. 4 (a), after the plate-shaped metal core material 6a is manufactured into a semi-finished product 8 having a square outer shape and a recessed portion 7 at the center, the cross-sectional view shown in FIG. As described above, it is also possible to form the coating metal layer 6b by plating or vapor deposition and then oxidize it to impart electrical insulation to the entire peripheral surface. However, in this method, the step of forming the coating metal layer on each semi-finished product 8 is inefficient and the productivity is low.
かくして、本発明の目的はかかる従来技術の欠点を排除
して、効率的な生産が可能となる金属材料を素材とする
集積回路容器、特にリード4方向取出しタイプに適する
集積回路容器およびその製造方法を提供することであ
る。Thus, the object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the prior art and to make an integrated circuit container made of a metal material that enables efficient production, particularly an integrated circuit container suitable for a lead 4-direction extraction type and a manufacturing method thereof. Is to provide.
(問題点を解決するための手段) ここに、本発明の要旨とするところは、半導体チップを
搭載するための凹み部と、該凹み部を取り囲む、リード
フレームを搭載するための周面部とを備え、該周面部の
外縁がリードを取り出す4つの辺で構成される集積回路
容器であって、中央部に容器凹み部と同一平面寸法の透
孔をあけた一辺が他辺よりも小さく少なくとも前記周面
部および短辺側外縁部を金属酸化物で覆った金属製の上
層板と、一辺が他辺より小さく少なくとも短辺側外縁部
を金属酸化物で覆った透孔のない金属製の下層板とがそ
れぞれ下記の(1)式を満たし、前記上層板と下層板と
を、該上層板の短辺側が下層板の長辺側の外側に位置す
るように配置し、両者を接着材層を介して十字形に接合
して構成した集積回路容器である。(Means for Solving Problems) Here, the gist of the present invention is to provide a recess for mounting a semiconductor chip, and a peripheral surface part for mounting a lead frame surrounding the recess. An integrated circuit container having an outer edge of the peripheral surface portion formed of four sides for taking out leads, wherein one side having a through hole of the same plane size as the container recess in the central portion is smaller than the other side and at least the above A metal upper layer plate whose periphery and short side outer edge are covered with metal oxide, and a metal lower layer plate which has one side smaller than the other side and at least the short side outer edge is covered with metal oxide and has no through holes. Respectively satisfy the following formula (1), and the upper layer plate and the lower layer plate are arranged such that the short side of the upper layer plate is located outside the long side of the lower layer plate, and both are bonded with an adhesive layer. It is an integrated circuit container configured by being joined in a cross shape through.
b>l′かつb′>l・・・(1) b :上層板の長辺長さ、l :上層板の短辺長さ b′:下層板の長辺長さ、l′:下層板の短辺長さ さらに、別の面からは、本発明は、半導体チップを搭載
するための凹み部と、該凹み部を取り囲む、リードフレ
ームを搭載するための周面部とを備え、該周面部の外縁
がリードを取出す4つの辺で構成される集積回路容器の
製造方法であって、下記(2)式を満たすように、板状
の金属芯材の周面を他の金属で被覆した、前記集積回路
容器の幅寸法に同じ長尺板状材料を素材とし、該幅寸法
よりも短い長さを有し、中央部に容器凹み部と同一平面
寸法の透孔をあけた矩形状の上層板を加工する工程と、
幅寸法より短い長さを有し、透孔のない下層板を加工す
る工程と、該上層板、下層板の被覆金属層に酸化被膜を
形成する工程と、該上層板、下層板の両方あるいは一方
の一面に接着材層を形成する工程と、該接着材層をはさ
んで、該上層板の短辺側が下層板の長辺側の外側に位置
するように、両者を十字形に接合する工程とを備えるこ
とを特徴とする集積回路容器の製造方法である。b> l ′ and b ′> l (1) b: long side length of upper layer plate, l: short side length of upper layer plate b ′: long side length of lower layer plate, l ′: lower layer plate Further, from another aspect, the present invention includes a recess for mounting a semiconductor chip and a peripheral surface for surrounding the recess for mounting a lead frame. Is a method for manufacturing an integrated circuit container whose outer edge is composed of four sides for taking out leads, wherein a peripheral surface of a plate-shaped metal core material is covered with another metal so as to satisfy the following expression (2): A rectangular upper layer made of a long plate-shaped material having the same width as the integrated circuit container, having a length shorter than the width, and having a through hole of the same plane dimension as the container recess in the center. The process of processing the plate,
A step of processing a lower layer plate having a length shorter than a width dimension and having no through hole; a step of forming an oxide film on a coating metal layer of the upper layer plate, the lower layer plate; both of the upper layer plate and the lower layer plate; or A step of forming an adhesive layer on one surface and joining the adhesive layers in a cross shape so that the short side of the upper layer plate is located outside the long side of the lower layer plate with the adhesive layer sandwiched therebetween. And a step of manufacturing the integrated circuit container.
b>l′かつb′>l・・・(2) b :上層板の長辺長さ、l :上層板の短辺長さ b′:下層板の長辺長さ、l′:下層板の短辺長さ これらの上層板と下層板とは一般にはほぼ同一平面寸法
を有する。b> l ′ and b ′> l (2) b: long side length of upper layer plate, l: short side length of upper layer plate b ′: long side length of lower layer plate, l ′: lower layer plate The short side length of these upper and lower layers generally have substantially the same plane dimension.
(作用) 次に、添付図面を参照しながら、本発明の集積回路容器
およびその製造方法について詳しく説明する。(Operation) Next, an integrated circuit container of the present invention and a method for manufacturing the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第5図(a)、(b)、(c)は、本発明に従う集積回
路容器の構造を示す。容器9は上層板10、下層板11の二
層構造で、接着材層12で接合されている。容器9の中央
部には、半導体チップ搭載のための凹み部7が設けられ
ており、凹み部7の内壁7bは上層板10、その底面7aは下
層板11で構成される。すなわち、上層板10には、凹み部
7の平面寸法に等しい透孔があけられている。凹み部7
の深さdは、上層板10の厚さtaと接着材層12の厚さtcと
の和に等しい。5 (a), (b) and (c) show the structure of the integrated circuit container according to the present invention. The container 9 has a two-layer structure of an upper layer plate 10 and a lower layer plate 11 and is joined by an adhesive layer 12. A recess 7 for mounting a semiconductor chip is provided in the center of the container 9. An inner wall 7b of the recess 7 is an upper plate 10 and a bottom surface 7a thereof is a lower plate 11. That is, the upper layer plate 10 has a through hole equal to the plane dimension of the recess 7. Recess 7
Depth d is equal to the sum of the thickness ta of the upper plate 10 and the thickness tc of the adhesive layer 12.
凹み部7の周囲にはリードフレーム(図示せず)を搭載
するための周面部14が設けられている。Around the concave portion 7, a peripheral surface portion 14 for mounting a lead frame (not shown) is provided.
上層板10と下層板11は、共に矩形状であり、一辺とそれ
と直交する辺の長さが僅かに異なる長方形である。各々
の辺長については後述する。上層板10と下層板11は、第
5図(a)に示すように、平面図でみてもわずかに十字
形となるように重なって接合されている。Both the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11 have a rectangular shape, and each side has a slightly different length from the side orthogonal thereto. Each side length will be described later. As shown in FIG. 5 (a), the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11 are overlapped and joined so as to have a slightly cross shape in a plan view.
上層板10、下層板11の上下面と短辺エッジは電気絶縁層
10b、11bで被覆されている。The upper and lower surfaces of the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11 and the short side edges are electrically insulating layers.
It is covered with 10b and 11b.
以下、上層板10、下層板11の製造加工工程をそれぞれ説
明する。Hereinafter, manufacturing process steps of the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11 will be described respectively.
第6図は上層板10を製造する途中工程の一例を示したも
のである。矩形状の上層板10の長辺長さbに等しい幅の
長尺板状素材16は、板状の金属芯材16aの周面を、後工
程で酸化物を形成する金属層16bで被覆されている。長
尺板状素材16の製造方法としては、円形断面の棒状クラ
ッド材を圧延する方法、狭巾板状の金属芯材にメッキあ
るいは蒸着で金属被覆を行う方法がある。FIG. 6 shows an example of an intermediate process for manufacturing the upper layer plate 10. A long plate-shaped material 16 having a width equal to the long side length b of the rectangular upper layer plate 10 is formed by coating the peripheral surface of the plate-shaped metal core material 16a with a metal layer 16b which forms an oxide in a later step. ing. As a method of manufacturing the long plate-shaped material 16, there are a method of rolling a rod-shaped clad material having a circular cross section and a method of coating a narrow-width plate-shaped metal core material with metal by plating or vapor deposition.
第6図は、長尺板状素材16に半導体チップが搭載される
凹み部7(第5図参照)の平面寸法に等しい透孔17が、
上層板10の短辺長さlのピッチであけられた状態を示
し、この後、破線イ−イに沿ってこの長尺板状素材16を
切断分離し、上層板半成品18とする。もちろん、先に長
さlに切断し、ついで透孔17を加工しても良い。透孔17
の加工は打抜きで行われる。なお、長尺板状の金属芯材
16aを素材とし、透孔17を所定ピッチであけた後にメッ
キあるいは蒸着によって被覆金属層16bを形成し、しか
る後に破線イ−イに沿ってこの長尺素材を切断分離する
方法もある。FIG. 6 shows a through hole 17 having the same plane dimension as the recess 7 (see FIG. 5) in which the semiconductor chip is mounted on the long plate-shaped material 16.
A state in which the upper side plate 10 is opened at a pitch of a short side length l is shown, and thereafter, the long plate-shaped material 16 is cut and separated along a broken line EE to obtain an upper layer plate semi-finished product 18. Of course, it is also possible to first cut into the length l and then process the through hole 17. Through hole 17
Is processed by punching. In addition, a long plate-shaped metal core material
There is also a method in which 16a is used as a material, through holes 17 are formed at a predetermined pitch, and then a coating metal layer 16b is formed by plating or vapor deposition, and then this long material is cut and separated along the broken line EE.
第7図は下層板11の長尺板状素材19を示す。幅は下層板
11の長辺長さb′に等しい。長尺板状素材19は板状の金
属芯材19aの周面を、後工程で酸化物を形成する金属層1
9bで被覆されている。この素材19の製造方法は上層板10
の長尺板状素材16と同様である。素材19を下層板11の短
辺長l′に等しいピッチの破線ロ−ロの位置で切断し、
下層板半成品20となす。FIG. 7 shows a long plate-shaped material 19 of the lower layer plate 11. Width is lower plate
It is equal to the long side length b'of 11. The long plate-shaped material 19 is a metal layer 1 which forms an oxide on the peripheral surface of a plate-shaped metal core material 19a in a later step.
It is coated with 9b. The manufacturing method of this material 19 is the upper layer plate 10
It is similar to the long plate-shaped material 16. The material 19 is cut at the position of the broken line with a pitch equal to the short side length l'of the lower layer plate 11,
Lower plate half-finished product 20.
なお、上層板半成品18、下層板半成品20の平面寸法はb
>l′、b′>lの関係にあるようにする。In addition, the plane dimensions of the upper layer half-finished product 18 and the lower layer half-finished product 20 are b
> L 'and b'> l.
l、l′はリード取出しに必要十分な長さとする。4辺
から同数のリードを取出す場合は、l=l′である。b
とb′は必ずしも同一にする必要はない。The lengths l and l'are required and sufficient for lead extraction. When taking the same number of leads from the four sides, l = 1 '. b
And b'need not necessarily be the same.
b>l′、b′>lとする理由は、金属芯材が露出する
第6図の切口イ−イ、第7図の切口ロ−ロと、後述する
ように搭載されるリードフレームの折り曲げられた足の
間隙を広くとり、接触しないようにするためである。Δ
=(b−l′)/2、Δ′=(b′−l)/2とすると、
Δ、Δ′が大きいほど接触しにくいことは当然である。
本発明者の経験によれば、Δ≧2tb、Δ′≧taであれば
実用上問題ない。The reason for b> l 'and b'> l is that the metal core material is exposed to the cut end in FIG. 6 and the cut roll in FIG. 7 and the bending of the lead frame mounted as described later. This is to ensure a wide gap between the legs so that they will not come into contact with each other. Δ
= (B-l ') / 2 and Δ' = (b'-l) / 2,
As a matter of course, the larger Δ and Δ ′ are, the more difficult it is to make contact.
According to the experience of the present inventor, if Δ ≧ 2tb and Δ ′ ≧ ta, there is no practical problem.
ところで、第5図に示す集積回路容器9は、全体の線膨
張係数がリードフレームの線膨張係数と実質的に等しく
なるようにする必要がある。これは、容器とリードフレ
ームの間で熱応力を発生させないためである。熱応力が
発生すると、容器とリードフレームを封着するガラス等
の接着材層に亀裂が生ずる危険がある。そのために、長
尺板状素材16の芯材16a、長尺板状素材19の芯材19aに
は、例えばリードフレームと同一と金属が使用される。By the way, in the integrated circuit container 9 shown in FIG. 5, the linear expansion coefficient of the whole needs to be substantially equal to the linear expansion coefficient of the lead frame. This is because no thermal stress is generated between the container and the lead frame. When thermal stress is generated, there is a risk of cracks in the adhesive layer such as glass that seals the container and the lead frame. Therefore, for the core material 16a of the long plate-shaped material 16 and the core material 19a of the long plate-shaped material 19, for example, the same metal as the lead frame is used.
被覆金属層16b、19bとしては、電気絶縁皮膜の形成、接
着材(ガラス)との密着性、コスト面を総合するとアル
ミニウムが適当である。皮膜の厚さは、本発明者の経験
によれば5〜30μmで十分である。Aluminum is suitable for the coating metal layers 16b and 19b in terms of formation of an electric insulating film, adhesion with an adhesive (glass), and cost. According to the experience of the present inventor, a film thickness of 5 to 30 μm is sufficient.
次に、上層板半成品18、下層板半成品20の被覆金属層を
酸化処理して電気絶縁性を付与し、上層板10、下層板11
とする。酸化処理の一例をあげれば、電気化学的に行わ
れる陽極酸化処理がある。Next, the coated metal layers of the upper layer plate semi-finished product 18 and the lower layer plate semi-finished product 20 are subjected to an oxidation treatment to impart electrical insulation properties, and the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11
And An example of the oxidation treatment is anodization treatment that is performed electrochemically.
次に、上層板10、下層板11を第5図の如くわずかに十字
形となるように積層して接着する。この接着には気密性
が要求される。これは、凹み部7に半導体チップを搭載
し、後述するように容器蓋を封着した後の半導体チップ
を外気から完全に遮断するためである。この場合の接着
材の一例をあげれば、リードフレームの封着用ガラスと
同一のものがある。まず、ガラス粉末を上層板10の接合
面にスクリーン印刷し、下層板11と重ねて焼成し、接着
材層12を形成する。もちろん、下層板11の接合面にもガ
ラス粉末をスクリーン印刷で塗布しておいてもよいが、
後述するように、半導体チップを貴金属を介して搭載す
る場合には、凹み部底面7aを除いて塗布する必要があ
る。接着材層12の厚さtcは、本発明者の経験によれば30
〜100μmでよい。Next, the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11 are laminated and adhered so as to have a slightly cross shape as shown in FIG. Airtightness is required for this adhesion. This is because the semiconductor chip is mounted on the recess 7 and the semiconductor chip after sealing the container lid is completely shielded from the outside air as described later. An example of the adhesive material in this case is the same as the glass for sealing the lead frame. First, glass powder is screen-printed on the bonding surface of the upper layer plate 10, and the lower layer plate 11 is laminated and fired to form the adhesive layer 12. Of course, the glass powder may be applied to the bonding surface of the lower layer plate 11 by screen printing,
As will be described later, when a semiconductor chip is mounted via a noble metal, it is necessary to apply it except for the bottom surface 7a of the recess. The thickness tc of the adhesive material layer 12 is 30 according to the experience of the present inventor.
-100 μm is enough.
上層板10の厚さtaは、前述したように凹み部7の深さ
d、接着材層12の厚さtcから決められる。一例をあげれ
ば、d=0.4mm、tc=0.1mm、ta=0.3mmである。下層板1
1の厚さtbは半導体チップに発生する熱の放散性の点か
らは薄い方がよいが、チップ搭載部としての剛性を考慮
すれば0.1〜0.3mmが適当である。The thickness ta of the upper layer plate 10 is determined by the depth d of the recess 7 and the thickness tc of the adhesive layer 12 as described above. As an example, d = 0.4 mm, tc = 0.1 mm, ta = 0.3 mm. Lower plate 1
The thickness tb of 1 is preferably thin from the viewpoint of heat dissipation of the semiconductor chip, but 0.1-0.3 mm is appropriate in consideration of the rigidity of the chip mounting portion.
以上、本発明にかかる集積回路容器およびその製造方法
について説明してきたが、これらの容器への半導体チッ
プ、リードフレームの搭載および容器蓋との封着につい
てさらに説明する。The integrated circuit containers and the manufacturing method thereof according to the present invention have been described above. Mounting of the semiconductor chip and the lead frame on these containers and sealing with the container lid will be further described.
まず、半導体チップの搭載であるが、第8図(a)、
(b)に示すように、容器9の凹み部7の底面に貴金属
からなる半導体チップ25の接着材層24を形成する。貴金
属の代りにガラスを使用することもあり、その場合、上
層板10と下層板11を接着するガラス層の接着材層12と同
一でもよい。そして下層板11の接合面全体にガラス層の
接着材層12を形成しておけばよい。First, as for mounting a semiconductor chip, as shown in FIG.
As shown in (b), the adhesive layer 24 of the semiconductor chip 25 made of a noble metal is formed on the bottom surface of the recess 7 of the container 9. Glass may be used instead of the noble metal, and in that case, it may be the same as the adhesive layer 12 of the glass layer for bonding the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11. Then, the adhesive layer 12 which is a glass layer may be formed on the entire bonding surface of the lower layer plate 11.
次に、容器9の凹み部7を取り囲む周面部14の金属酸化
物層10b上にガラス粉末をスクリーン印刷し、仮焼成を
行って第8図に示すように封着用ガラス層23を形成す
る。なお、封着ガラスの印刷、焼成は、前述した上層板
10、下層板11を接着するガラスの印刷、焼成と同一時期
に実施することができる。半導体チップ25は接着材層24
を加熱溶融させることにより、またリードフレーム30は
封着ガラス層23を加熱溶融させることにより搭載され
る。第8図(a)は、第5図のイ−イ断面、同(b)は
ロ−ロ断面でリードフレーム30が搭載された状態を示
す。半導体チップ25のリードとリードフレーム30は配線
26で接続される。Next, glass powder is screen-printed on the metal oxide layer 10b on the peripheral surface portion 14 surrounding the recessed portion 7 of the container 9 and pre-baked to form the glass layer 23 for sealing as shown in FIG. The sealing glass is printed and fired by the above-mentioned upper layer plate.
10. The printing and firing of the glass for adhering the lower plate 11 can be performed at the same time. The semiconductor chip 25 has an adhesive layer 24.
Is melted by heating, and the lead frame 30 is mounted by melting the sealing glass layer 23 by heating. FIG. 8 (a) shows a state in which the lead frame 30 is mounted in the section ii in FIG. 5 and in the section (b) in FIG. Wiring the leads of the semiconductor chip 25 and the lead frame 30
Connected at 26.
ここに、本発明によれば第8図(a)、(b)に示すよ
うに上層板10と下層板11との間には各辺においてΔまた
はΔ′の段差が設けられており、これによりリードフレ
ームとの接触が効果的に阻止されている。According to the present invention, as shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), a step of Δ or Δ ′ is provided on each side between the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11. This effectively prevents contact with the lead frame.
次に容器蓋について補足説明する。Next, the container lid will be supplementarily described.
第9図(a)、(b)は例えば第8図に示す本発明にか
かる容器にかぶせられる容器蓋9′の一例を示す。平面
寸法はl×l′(l:容器上層板10の長さ、l′:容器下
層板11の長さ)である。中央部には容器と同様に凹み部
7′を有し、上層板10′、下層板11′が例えばガラスで
ある接着材層12′で接着されている。上層板10′、下層
板11′共に板状金属芯材16′a、19′aの上下面が金属
酸化物層10′b、11′bで覆われているが、外周端面部
27は電気絶縁性が要求されないので、金属酸化物層は不
要である。なお、金属芯材の耐食性が不十分な場合に
は、外周端面部27に防錆塗料をコーティングしてもよ
い。防錆処置は第8図に示す容器9で金属芯材が露出す
る上層板10、下層板11の長辺端面21、22にも必要に応じ
て施してもよい。9 (a) and 9 (b) show an example of a container lid 9'overlaid on the container according to the present invention shown in FIG. 8, for example. The plane dimension is l × l '(l: the length of the container upper layer plate 10, l': the length of the container lower layer plate 11). Similar to the container, it has a recessed portion 7'in the center, and an upper layer plate 10 'and a lower layer plate 11' are adhered to each other by an adhesive layer 12 'which is, for example, glass. Both the upper layer plate 10 'and the lower layer plate 11' are covered with metal oxide layers 10'b, 11'b on the upper and lower surfaces of the plate-shaped metal core materials 16'a, 19'a.
Since 27 does not require electrical insulation, a metal oxide layer is unnecessary. When the corrosion resistance of the metal core material is insufficient, the outer peripheral end face portion 27 may be coated with a rust preventive paint. If necessary, the anticorrosion treatment may be applied to the long side end faces 21 and 22 of the upper layer plate 10 and the lower layer plate 11 in which the metal core material is exposed in the container 9 shown in FIG.
容器蓋9′の凹み部7′を取り囲む周面部14′には、例
えば封着用のガラス層が形成され、第8図に示す容器9
にお互いの凹み部が向い合うように封着され、半導体チ
ップのパッケージを構成する。A glass layer for sealing, for example, is formed on the peripheral surface portion 14 'surrounding the recessed portion 7'of the container lid 9', and the container 9 shown in FIG.
Are sealed so that their recesses face each other to form a semiconductor chip package.
(発明の効果) 本発明にかかる集積回路容器は金属を主材として構成さ
れているから衝撃に強く、熱を速やかに逃すことがで
き、今日強く要望されている半導体チップの高集積度化
に対応できる。容器を構成する金属板は、金属芯材の周
面を被覆した長尺材料から能率的に製造することができ
る。また被覆金属層を酸化処理した矩形板を十字形に積
層した構造であるため、4方向に取り出されるリードフ
レームとの十分な電気絶縁性が得られる。(Effects of the Invention) The integrated circuit container according to the present invention is made of metal as a main material, so that it is resistant to impacts and can quickly dissipate heat, which contributes to high integration of semiconductor chips, which is strongly demanded today. Can handle. The metal plate that constitutes the container can be efficiently manufactured from a long material that covers the peripheral surface of the metal core material. In addition, since the rectangular plates obtained by subjecting the coated metal layer to the oxidation treatment are laminated in a cross shape, sufficient electrical insulation with the lead frames taken out in four directions can be obtained.
第1図(a)、(b)は、従来のセラミックス製集積回
路容器の略式説明図; 第2図(a)、(b)は、同じく略式斜視図; 第3図(a)、(b)および第4図(a)、(b)は、
先きに提案した金属製集積回路容器の略式説明図; 第5図(a)、(b)、(c)は、本発明にかかる金属
製集積回路容器の略式説明図; 第6図および第7図は、それぞれ、上層板および下層板
の略式斜視図; 第8図は、本発明にかかる金属製集積回路容器に半導体
チップおよびリードフレームの搭載の様子を示す略式断
面図;および 第9図(a)、(b)は、前記金属製集積回路容器の容
器蓋の略式説明図である。 7:凹み部、9:容器 10:上層板、11:下層板 12:接着材層、14:周面部FIGS. 1 (a) and 1 (b) are schematic explanatory views of a conventional ceramic integrated circuit container; FIGS. 2 (a) and 2 (b) are schematic perspective views, respectively; FIGS. 3 (a) and 3 (b). ) And FIGS. 4 (a) and (b),
FIG. 5 (a), (b), and (c) are schematic explanatory views of the metal integrated circuit container proposed earlier; FIG. 6 and FIG. 7 is a schematic perspective view of an upper layer plate and a lower layer plate, respectively; FIG. 8 is a schematic sectional view showing how a semiconductor chip and a lead frame are mounted on a metal integrated circuit container according to the present invention; (A), (b) is a schematic explanatory drawing of the container lid of the said metal integrated circuit container. 7: Recessed part, 9: Container 10: Upper layer plate, 11: Lower layer plate 12: Adhesive layer, 14: Peripheral surface part
Claims (2)
該凹み部を取り囲む、リードフレームを搭載するための
周面部とを備え、該周面部の外縁がリードを取り出す4
つの辺で構成される集積回路容器であって、中央部に容
器凹み部と同一平面寸法の透孔をあけた一辺が他辺より
も小さく少なくとも前記周面部および短辺側外縁部を金
属酸化物で覆った金属製の上層板と、一辺が他辺より小
さく、少なくとも短辺側外縁部を金属酸化物で覆った透
孔のない金属製の下層板とがそれぞれ下記の(1)式を
満たし、前記上層板と下層板とを、該上層板の短辺側が
下層板の長辺側の外側に位置するように配置し、両者を
接着材層を介して十字形に接合して構成した集積回路容
器。 b>l′かつb′>l・・・(1) b :上層板の長辺長さ、l :上層板の短辺長さ b′:下層板の長辺長さ、l′:下層板の短辺長さ1. A recess for mounting a semiconductor chip,
A peripheral surface portion surrounding the recessed portion for mounting a lead frame, and an outer edge of the peripheral surface portion takes out the lead 4
In an integrated circuit container composed of two sides, one side in which a through hole having the same plane size as the container recess is opened in the center is smaller than the other side, and at least the peripheral surface portion and the outer edge portion on the short side are metal oxide. The metal upper layer plate covered with and the metal lower layer plate having one side smaller than the other side and at least the outer edge of the short side covered with metal oxide and having no through hole satisfy the following formula (1). An integrated structure in which the upper layer plate and the lower layer plate are arranged such that the short side of the upper layer plate is located outside the long side of the lower layer plate, and the two are joined in a cross shape via an adhesive layer. Circuit container. b> l ′ and b ′> l (1) b: long side length of upper layer plate, l: short side length of upper layer plate b ′: long side length of lower layer plate, l ′: lower layer plate Short side length of
該凹み部を取り囲む、リードフレームを搭載するための
周面部とを備え、該周面部の外縁がリードを取出す4つ
の辺で構成される集積回路容器の製造方法であって、下
記(2)式を満たすように、板状の金属芯材の周面を他
の金属で被覆した、前記集積回路容器の幅寸法に同じ長
尺板状材料を素材とし、該幅寸法よりも短い長さを有
し、中央部に容器凹み部と同一平面寸法の透孔をあけた
矩形状の上層板を加工する工程と、幅寸法より短い長さ
を有し、透孔のない下層板を加工する工程と、該上層
板、下層板の被覆金属層に酸化被膜を形成する工程と、
該上層板、下層板の両方あるいは一方の一面に接着材層
を形成する工程と、該接着材層をはさんで、該上層板の
短辺側が下層板の長辺側の外側に位置するように、両者
を十字形に接合する工程とを備えることを特徴とする集
積回路容器の製造方法。 b>l′かつb′>l・・・(2) b :上層板の長辺長さ、l :上層板の短辺長さ b′:下層板の長辺長さ、l′:下層板の短辺長さ2. A recess for mounting a semiconductor chip,
A method for manufacturing an integrated circuit container, comprising: a peripheral surface portion for mounting a lead frame, the peripheral surface portion surrounding the recessed portion; So that the peripheral surface of a plate-shaped metal core material is covered with another metal, a long plate-shaped material having the same width dimension as the integrated circuit container is used as a raw material, and the length is shorter than the width dimension. Then, a step of processing a rectangular upper layer plate having a through hole of the same plane dimension as the container recessed portion in the center part, and a step of processing a lower layer plate having a length shorter than the width dimension and having no through hole, A step of forming an oxide film on the coating metal layer of the upper plate and the lower plate,
A step of forming an adhesive layer on one or both surfaces of the upper layer plate and the lower layer plate, and sandwiching the adhesive layer so that the short side of the upper layer plate is located outside the long side of the lower layer plate. And a step of joining both of them in a cross shape. b> l ′ and b ′> l (2) b: long side length of upper layer plate, l: short side length of upper layer plate b ′: long side length of lower layer plate, l ′: lower layer plate Short side length of
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16839787A JPH0724291B2 (en) | 1987-07-06 | 1987-07-06 | Integrated circuit container and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16839787A JPH0724291B2 (en) | 1987-07-06 | 1987-07-06 | Integrated circuit container and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6412558A JPS6412558A (en) | 1989-01-17 |
| JPH0724291B2 true JPH0724291B2 (en) | 1995-03-15 |
Family
ID=15867361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16839787A Expired - Lifetime JPH0724291B2 (en) | 1987-07-06 | 1987-07-06 | Integrated circuit container and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0724291B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW258829B (en) * | 1994-01-28 | 1995-10-01 | Ibm |
-
1987
- 1987-07-06 JP JP16839787A patent/JPH0724291B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6412558A (en) | 1989-01-17 |
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