JPH0733009B2 - 遺跡・遺構の保存方法 - Google Patents
遺跡・遺構の保存方法Info
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- JPH0733009B2 JPH0733009B2 JP4265691A JP4265691A JPH0733009B2 JP H0733009 B2 JPH0733009 B2 JP H0733009B2 JP 4265691 A JP4265691 A JP 4265691A JP 4265691 A JP4265691 A JP 4265691A JP H0733009 B2 JPH0733009 B2 JP H0733009B2
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- Japan
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- Chemical And Physical Treatments For Wood And The Like (AREA)
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は遺跡・遺構の保存方法に
関し、より詳しくはポリアルキレングリコール付加シリ
コーン化合物、またはこれとシリコーン系硬化性組成物
を併用することによる遺跡・遺構の保存方法に関する。
関し、より詳しくはポリアルキレングリコール付加シリ
コーン化合物、またはこれとシリコーン系硬化性組成物
を併用することによる遺跡・遺構の保存方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】日本列島には数万年前より人が住み、縄
文時代・弥生時代から近代に到るまでの住居跡、農耕地
跡、墳墓跡、貝塚、寺院跡、たたら跡や、焼物、銅鏡、
鋳物等の製造場跡等多くの遺跡・遺構が残されている。
これらの遺跡・遺構は我々の祖先が残した貴重な文化財
であり、それが崩壊することなく、将来に向かって保存
・活用するために、原形のまま保存することが強く望ま
れている。これまでの遺跡・遺構は水田、原野、山林、
湖沼、河川等の地中に埋蔵され、その土や水によって保
護されてきたので、数千年という長い期間を経過した現
在においても、良好な保存状態で原形をとどめてきた。
文時代・弥生時代から近代に到るまでの住居跡、農耕地
跡、墳墓跡、貝塚、寺院跡、たたら跡や、焼物、銅鏡、
鋳物等の製造場跡等多くの遺跡・遺構が残されている。
これらの遺跡・遺構は我々の祖先が残した貴重な文化財
であり、それが崩壊することなく、将来に向かって保存
・活用するために、原形のまま保存することが強く望ま
れている。これまでの遺跡・遺構は水田、原野、山林、
湖沼、河川等の地中に埋蔵され、その土や水によって保
護されてきたので、数千年という長い期間を経過した現
在においても、良好な保存状態で原形をとどめてきた。
【０００３】しかしながら、近年、社会基盤の整備等に
より道路、住宅、工場、運動場、店舗、農耕地等を造る
ため、大地を掘り起こす機会が増大し、新たに埋蔵遺跡
が多数発見されている。一旦掘り起こされた遺構・遺跡
はそのままにしておくと風雨による風化、土中水の変化
による収縮亀裂、植物・蘚苔類等の繁茂、人畜による破
壊により急速に原形が消滅し、保存活用上大きな問題と
なっている。
より道路、住宅、工場、運動場、店舗、農耕地等を造る
ため、大地を掘り起こす機会が増大し、新たに埋蔵遺跡
が多数発見されている。一旦掘り起こされた遺構・遺跡
はそのままにしておくと風雨による風化、土中水の変化
による収縮亀裂、植物・蘚苔類等の繁茂、人畜による破
壊により急速に原形が消滅し、保存活用上大きな問題と
なっている。
【０００４】これまで遺跡の保存と展示公開を目的とし
て、遺跡全体を保護棟で覆い、見学者はガラス窓ごしに
観察するような、いわゆる考古館等が造られていた。こ
れによって、風雨の影響、人畜による破壊はなくなった
が、遺跡の表面にカビや蘚苔類が繁茂し、これらを食料
とする虫が発生し、遺跡・遺構に穴をあけたりする被害
が発生している。この対策として毎月１回程度、ホルマ
リン水やグラムキソン等の生物防除剤を散布していた
が、生物被害の防止効果があまりなく、人体への影響も
あり、新しい生物防除法が望まれている。一方、遺跡の
保護棟による保存は温室化による土壌水分の蒸発（２０
℃前後で１ｍ2 ／日あたり約８００ｃｃの水が蒸発す
る）が激しく、遺跡が乾燥して亀裂が発生したり、一部
で砂漠化する現象がみられる。また、乾燥等によって炉
跡の焼土の判別ができなくなることや、土壌水分の蒸発
により遺跡の一部に可溶性塩類の析出がみられること
や、遺構に亀裂・崩壊が起こること等の不都合がある。
これらの対策として、ポリエチレングリコール、アクリ
ルアミド、アクリル酸マグネシウム、酢酸ビニルエマル
ジョン等で遺跡表面に保護膜を作り保護してきた。しか
し、ポリエチレングリコールは処理後１週間程度はかな
り安定しているが、その後土中水に溶けて拡散してしま
い数週間で効果が失われ、アクリルアミドはゲル化した
保護膜が乾燥するに従い収縮を起こし、土壌表面を引き
剥がしながら鱗片状にめくれあがり、そしてアクリル酸
マグネシウムもまた経年劣化して鱗片状に剥がれる問題
がある。
て、遺跡全体を保護棟で覆い、見学者はガラス窓ごしに
観察するような、いわゆる考古館等が造られていた。こ
れによって、風雨の影響、人畜による破壊はなくなった
が、遺跡の表面にカビや蘚苔類が繁茂し、これらを食料
とする虫が発生し、遺跡・遺構に穴をあけたりする被害
が発生している。この対策として毎月１回程度、ホルマ
リン水やグラムキソン等の生物防除剤を散布していた
が、生物被害の防止効果があまりなく、人体への影響も
あり、新しい生物防除法が望まれている。一方、遺跡の
保護棟による保存は温室化による土壌水分の蒸発（２０
℃前後で１ｍ2 ／日あたり約８００ｃｃの水が蒸発す
る）が激しく、遺跡が乾燥して亀裂が発生したり、一部
で砂漠化する現象がみられる。また、乾燥等によって炉
跡の焼土の判別ができなくなることや、土壌水分の蒸発
により遺跡の一部に可溶性塩類の析出がみられること
や、遺構に亀裂・崩壊が起こること等の不都合がある。
これらの対策として、ポリエチレングリコール、アクリ
ルアミド、アクリル酸マグネシウム、酢酸ビニルエマル
ジョン等で遺跡表面に保護膜を作り保護してきた。しか
し、ポリエチレングリコールは処理後１週間程度はかな
り安定しているが、その後土中水に溶けて拡散してしま
い数週間で効果が失われ、アクリルアミドはゲル化した
保護膜が乾燥するに従い収縮を起こし、土壌表面を引き
剥がしながら鱗片状にめくれあがり、そしてアクリル酸
マグネシウムもまた経年劣化して鱗片状に剥がれる問題
がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、遺跡・遺構
の表面にカビ・蘚苔類が発生しないようにすること、そ
してこれに加えて遺跡土壌表面を引き剥がしたり、亀裂
を発生させたり、砂漠化させたりしないこと、色調の変
化を防止すること、処理効果が長期間持続すること、人
体に悪影響がないこと等を可能ならしめる遺跡・遺構の
保存方法を提供することを課題としてなされたものであ
る。
の表面にカビ・蘚苔類が発生しないようにすること、そ
してこれに加えて遺跡土壌表面を引き剥がしたり、亀裂
を発生させたり、砂漠化させたりしないこと、色調の変
化を防止すること、処理効果が長期間持続すること、人
体に悪影響がないこと等を可能ならしめる遺跡・遺構の
保存方法を提供することを課題としてなされたものであ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意研究の
結果、数多くの低分子化合物および高分子化合物ならび
にこれらの組合せについて試験を行い、特定のシリコー
ン系化合物およびこれらの組合せの場合、上記の課題が
解決できることを実証し、本発明を完成させた。
結果、数多くの低分子化合物および高分子化合物ならび
にこれらの組合せについて試験を行い、特定のシリコー
ン系化合物およびこれらの組合せの場合、上記の課題が
解決できることを実証し、本発明を完成させた。
【０００７】すなわち、本発明は、遺跡・遺構の表面に
次式（化２）：
次式（化２）：
【化２】 （式中、ｍは０〜１０、ｎは１〜１０、ｘは２〜６、ｙ
は３〜１０、ｚは０〜１０を表し、Ａは−Ｈ、−Ｃ
Ｈ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−ＣＯＣＨ３および−
ＣＯＣ２Ｈ５から選択される基を表す。）で表されるポ
リアルキレングリコール付加シリコーン化合物を土壌平
面１ｍ ２ に対して１００〜３０００ｇの割合で散布する
ことを特徴とする遺跡・遺構の保存方法に関する。
は３〜１０、ｚは０〜１０を表し、Ａは−Ｈ、−Ｃ
Ｈ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−ＣＯＣＨ３および−
ＣＯＣ２Ｈ５から選択される基を表す。）で表されるポ
リアルキレングリコール付加シリコーン化合物を土壌平
面１ｍ ２ に対して１００〜３０００ｇの割合で散布する
ことを特徴とする遺跡・遺構の保存方法に関する。
【０００８】本発明の遺跡・遺構の保存方法の好ましい
実施態様は、上記ポリアルキレングリコール付加シリコ
ーン化合物とシリコーン系硬化性組成物との併用であ
る。
実施態様は、上記ポリアルキレングリコール付加シリコ
ーン化合物とシリコーン系硬化性組成物との併用であ
る。
【０００９】本発明において遺跡・遺構の表面とは、縄
文時代・弥生時代から近代までの住居跡、農耕地跡、墳
墓跡、貝塚、寺院跡、たたら跡や、焼物、銅鏡、鋳物等
の製造場跡を構成する主として土壌の表面を意味する。
文時代・弥生時代から近代までの住居跡、農耕地跡、墳
墓跡、貝塚、寺院跡、たたら跡や、焼物、銅鏡、鋳物等
の製造場跡を構成する主として土壌の表面を意味する。
【００１０】本発明において使用するポリアルキレング
リコール付加シリコーン化合物とは上記一般式で表され
るものであり、例えば下記の化学式（化３〜化８）で表
されるものである。
リコール付加シリコーン化合物とは上記一般式で表され
るものであり、例えば下記の化学式（化３〜化８）で表
されるものである。
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【００１１】本発明においてポリアルキレングリコール
付加シリコーン化合物は主としてカビや蘚苔類の発生を
防止する役割を担う。なお、ポリアルキレングリコール
付加シリコーン化合物自体は公知の化合物であり、これ
まで表面張力降下剤としての用途は知られていたが、本
発明のように土壌表面のカビや蘚苔類の発生を防止する
効果はこれまで報告されたことはなく、本発明において
初めてこの特性が見出されたものである。
付加シリコーン化合物は主としてカビや蘚苔類の発生を
防止する役割を担う。なお、ポリアルキレングリコール
付加シリコーン化合物自体は公知の化合物であり、これ
まで表面張力降下剤としての用途は知られていたが、本
発明のように土壌表面のカビや蘚苔類の発生を防止する
効果はこれまで報告されたことはなく、本発明において
初めてこの特性が見出されたものである。
【００１２】本発明においてポリアルキレングリコール
付加シリコーン化合物を遺跡・遺構の土壌表面に散布す
るには、該化合物を水、アルコール類、有機溶媒類に溶
解し、エアースプレー方式で行う方法が望ましい。ま
た、この散布は土壌表面に均一に行うことが望ましい。
土壌表面に対する散布量はポリアルキレングリコール付
加シリコーン化合物が１００〜３０００ｇ／土壌表面１
ｍ2 の割合となるのが望ましい。１００ｇ／ｍ2 以下で
あるとカビや蘚苔類の発生防止効果がなく、３０００ｇ
／ｍ2 以上散布量を増加しても効果が飽和点に達し経済
性がない。
付加シリコーン化合物を遺跡・遺構の土壌表面に散布す
るには、該化合物を水、アルコール類、有機溶媒類に溶
解し、エアースプレー方式で行う方法が望ましい。ま
た、この散布は土壌表面に均一に行うことが望ましい。
土壌表面に対する散布量はポリアルキレングリコール付
加シリコーン化合物が１００〜３０００ｇ／土壌表面１
ｍ2 の割合となるのが望ましい。１００ｇ／ｍ2 以下で
あるとカビや蘚苔類の発生防止効果がなく、３０００ｇ
／ｍ2 以上散布量を増加しても効果が飽和点に達し経済
性がない。
【００１３】次にポリアルキレングリコール付加シリコ
ーン化合物とシリコーン系硬化性組成物を併用する場合
について説明する。ポリアルキレングリコール付加シリ
コーン化合物単独では、カビ・蘚苔類の発生は防止され
るが、遺跡・遺構の保存条件が良好な場合ばかりとは限
らず、例えば保護建屋がなく原野にそのまま保存される
場合とか、保護建屋があっても土壌中の水分量が多すぎ
たり少なすぎたり、外気の温度や湿度等が高すぎたり低
すぎたり、また風雨が直接影響する場合や人畜が直接接
触することがある場合等では、これらの保護膜が必要と
なる。この保護膜形成剤としてシリコーン系硬化性組成
物を併用するものである。シリコーン系硬化性組成物と
しては例えば下記のものが挙げられる。 例１ 次式：Ｒ1 n Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-n （式中、Ｒ1 はメチル基、エチル基、アミル基、フェニ
ル基またはビニル基を表し、Ｒ2 はメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基またはアセチル基を表し、ｎ
は１〜３の整数を表す）で表されるオルガノアルコキシ
シランまたはオルガノアセトキシシランの少なくとも１
種を酸性または中性の水溶液に溶解した後、該水溶液に
ケイ酸リチウムおよび他のケイ酸塩化合物の少なくとも
１種を添加・溶解し、該水溶液をｐＨ１１〜１２のアル
カリ性に調整した後、金属酸化物を添加して調製した溶
液であり、その詳細は本発明者等による特開昭６３−１
７９７４号公報に記載されている。 例２ 分子内に２個以上の水酸基を有するヒドロキシル化ジオ
ルガノポリシロキサン１００重量部に対して、架橋剤
（テトラエチルシリケート、テトラプロピルシリケート
等）０．３〜３０重量部、硬化触媒（ジブチルスズラウ
レート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオ
クテート、ジオクチルスズジラウレート、ジオクチルス
ズジパルミテート、ジオクチルスズジステアレート、ラ
ウリン酸スズ、オクチル酸スズ、オクチル酸鉄、オクチ
ル酸鉛、テトラブチルチタネート等のカルボン酸の金属
塩、ｎ−ヘキシルアミン、グアニジン等のアミン化合物
またはこれらの塩酸塩等）０．０１〜８重量部を添加し
た組成物であり、これらにさらに下記の界面活性剤、
水、アルコール類、繊維、無機粉粒体、油性成分等を配
合してもよい。 例３ 分子内に２個以上のビニル基を有するビニル化ジオルガ
ノポリシロキサン１００重量部に対して、架橋剤（分子
内に２個以上のＳｉ−Ｈ基を有する水素化ジオルガノポ
リシロキサン）２０〜１００重量部、硬化触媒（塩化白
金酸、白金黒、白金アスベスト、白金シリカゲル、白金
活性炭、塩化白金酸カリウム等）０．００１〜３重量部
を添加した組成物であり、これらにさらに下記の界面活
性剤、水、アルコール類、繊維、無機粉粒体、有機溶
剤、油性成分等を配合してもよい。 界面活性剤の例：ポリオキシエチレンオクチルドデシル
アルコール、ポリオキシエチレン２−デシルテトラデシ
ルアルコール、ポリオキシエチレンオレイルアルコール
エーテル、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンモノ
ラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエ
ート、グリセリルモノオレエート、グリセリルモノミリ
ステアレート、ポリオキシエチレングリセリルモノオレ
エート、ポリオキシエチレンジヒドロコレステロールエ
ーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテ
ル、グリセロールモノイソステアリルエーテル、ポリオ
キシエチレングリセロールモノイソステアレート、ジグ
リセリルモノステアレート、デカグリセリルデカステア
レート；ミリスチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の
高級脂肪酸のカリウム、ナトリウム、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、アミノ酸等の塩；特にジオ
ルガノポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合
体。 アルコール類の例：エタノール、ブタノール、エチレン
グリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリ
コール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセ
リン、テトラグリセリン、グルコース、マルトース、マ
ルチトース、サッカロース、フルクトース、キシリトー
ス、ソルビトール等。 繊維の例：微結晶セルロース、絹フィブロイン、フィブ
ロイン粉末、絹、木綿、羊毛、ナイロン、ポリエステ
ル、ビニロン等の短繊維。 無機粉粒体の例：無水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、タ
ルク、カオリン、マイカ、雲母チタン、オキシ塩化ビス
マス、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、
黄酸化鉄、グンジョウ、カーボンブラック、カラミン
等。 有機溶剤の例：ベンゼン、トルエン、キシレン、イソプ
ロピルアルコール、エチレングリコールアセテート、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、酢酸イソプロピル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ジイソプロピルケトン、ジ酢酸エチレ
ングリコール、ジメチルエーテル等。 油性成分の例：牛脂、スクワラン、オリーブ油、月見草
油、米ぬか油、炭化水素、流動パラフィン等。
ーン化合物とシリコーン系硬化性組成物を併用する場合
について説明する。ポリアルキレングリコール付加シリ
コーン化合物単独では、カビ・蘚苔類の発生は防止され
るが、遺跡・遺構の保存条件が良好な場合ばかりとは限
らず、例えば保護建屋がなく原野にそのまま保存される
場合とか、保護建屋があっても土壌中の水分量が多すぎ
たり少なすぎたり、外気の温度や湿度等が高すぎたり低
すぎたり、また風雨が直接影響する場合や人畜が直接接
触することがある場合等では、これらの保護膜が必要と
なる。この保護膜形成剤としてシリコーン系硬化性組成
物を併用するものである。シリコーン系硬化性組成物と
しては例えば下記のものが挙げられる。 例１ 次式：Ｒ1 n Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-n （式中、Ｒ1 はメチル基、エチル基、アミル基、フェニ
ル基またはビニル基を表し、Ｒ2 はメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基またはアセチル基を表し、ｎ
は１〜３の整数を表す）で表されるオルガノアルコキシ
シランまたはオルガノアセトキシシランの少なくとも１
種を酸性または中性の水溶液に溶解した後、該水溶液に
ケイ酸リチウムおよび他のケイ酸塩化合物の少なくとも
１種を添加・溶解し、該水溶液をｐＨ１１〜１２のアル
カリ性に調整した後、金属酸化物を添加して調製した溶
液であり、その詳細は本発明者等による特開昭６３−１
７９７４号公報に記載されている。 例２ 分子内に２個以上の水酸基を有するヒドロキシル化ジオ
ルガノポリシロキサン１００重量部に対して、架橋剤
（テトラエチルシリケート、テトラプロピルシリケート
等）０．３〜３０重量部、硬化触媒（ジブチルスズラウ
レート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオ
クテート、ジオクチルスズジラウレート、ジオクチルス
ズジパルミテート、ジオクチルスズジステアレート、ラ
ウリン酸スズ、オクチル酸スズ、オクチル酸鉄、オクチ
ル酸鉛、テトラブチルチタネート等のカルボン酸の金属
塩、ｎ−ヘキシルアミン、グアニジン等のアミン化合物
またはこれらの塩酸塩等）０．０１〜８重量部を添加し
た組成物であり、これらにさらに下記の界面活性剤、
水、アルコール類、繊維、無機粉粒体、油性成分等を配
合してもよい。 例３ 分子内に２個以上のビニル基を有するビニル化ジオルガ
ノポリシロキサン１００重量部に対して、架橋剤（分子
内に２個以上のＳｉ−Ｈ基を有する水素化ジオルガノポ
リシロキサン）２０〜１００重量部、硬化触媒（塩化白
金酸、白金黒、白金アスベスト、白金シリカゲル、白金
活性炭、塩化白金酸カリウム等）０．００１〜３重量部
を添加した組成物であり、これらにさらに下記の界面活
性剤、水、アルコール類、繊維、無機粉粒体、有機溶
剤、油性成分等を配合してもよい。 界面活性剤の例：ポリオキシエチレンオクチルドデシル
アルコール、ポリオキシエチレン２−デシルテトラデシ
ルアルコール、ポリオキシエチレンオレイルアルコール
エーテル、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンモノ
ラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエ
ート、グリセリルモノオレエート、グリセリルモノミリ
ステアレート、ポリオキシエチレングリセリルモノオレ
エート、ポリオキシエチレンジヒドロコレステロールエ
ーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテ
ル、グリセロールモノイソステアリルエーテル、ポリオ
キシエチレングリセロールモノイソステアレート、ジグ
リセリルモノステアレート、デカグリセリルデカステア
レート；ミリスチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の
高級脂肪酸のカリウム、ナトリウム、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、アミノ酸等の塩；特にジオ
ルガノポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合
体。 アルコール類の例：エタノール、ブタノール、エチレン
グリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリ
コール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセ
リン、テトラグリセリン、グルコース、マルトース、マ
ルチトース、サッカロース、フルクトース、キシリトー
ス、ソルビトール等。 繊維の例：微結晶セルロース、絹フィブロイン、フィブ
ロイン粉末、絹、木綿、羊毛、ナイロン、ポリエステ
ル、ビニロン等の短繊維。 無機粉粒体の例：無水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、タ
ルク、カオリン、マイカ、雲母チタン、オキシ塩化ビス
マス、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、
黄酸化鉄、グンジョウ、カーボンブラック、カラミン
等。 有機溶剤の例：ベンゼン、トルエン、キシレン、イソプ
ロピルアルコール、エチレングリコールアセテート、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、酢酸イソプロピル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ジイソプロピルケトン、ジ酢酸エチレ
ングリコール、ジメチルエーテル等。 油性成分の例：牛脂、スクワラン、オリーブ油、月見草
油、米ぬか油、炭化水素、流動パラフィン等。
【００１４】本発明においてポリアルキレングリコール
付加シリコーン化合物とシリコーン系硬化性組成物を併
用するとき、ポリアルキレングリコール付加シリコーン
化合物を最初に散布して、次にシリコーン系硬化性組成
物を散布してもよいし、両者を混合液として散布しても
よいし、またはシリコーン系硬化性組成物を最初に散布
して、次にポリアルキレングリコール付加シリコーン化
合物を散布してもよい。
付加シリコーン化合物とシリコーン系硬化性組成物を併
用するとき、ポリアルキレングリコール付加シリコーン
化合物を最初に散布して、次にシリコーン系硬化性組成
物を散布してもよいし、両者を混合液として散布しても
よいし、またはシリコーン系硬化性組成物を最初に散布
して、次にポリアルキレングリコール付加シリコーン化
合物を散布してもよい。
【００１５】
【実施例】次に本発明を実施例に基づいて説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下
の実施例における全ての試験は横浜市磯子区岡村４丁目
１１番地２２に所在する縄文時代から古墳時代までの竪
穴式住居跡にて行った。 実施例１ 遺構の表面に繁茂している蘚苔類を遺構表面を傷つけな
いように慎重に取り除き、遺構表面を軟質のブラシにて
清掃し、新鮮な表層を露呈させ、その一部に次式（化
９）：
本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下
の実施例における全ての試験は横浜市磯子区岡村４丁目
１１番地２２に所在する縄文時代から古墳時代までの竪
穴式住居跡にて行った。 実施例１ 遺構の表面に繁茂している蘚苔類を遺構表面を傷つけな
いように慎重に取り除き、遺構表面を軟質のブラシにて
清掃し、新鮮な表層を露呈させ、その一部に次式（化
９）：
【化９】 で表されるポリアルキレングリコール付加シリコーン化
合物を１０％水溶液として調製したものをハンドスプレ
ーガンを使用して２０００ｇ／ｍ2 となるように散布し
た。無処理の場所は１週間後には遺構の表面に蘚苔類が
発生してうすみどり色となったが、上記の処理を行った
箇所は全く蘚苔類の発生は認められなかった。処理した
箇所の経時変化を観察したところ、２年経過後も全く蘚
苔類・カビの発生が認められなかった。
合物を１０％水溶液として調製したものをハンドスプレ
ーガンを使用して２０００ｇ／ｍ2 となるように散布し
た。無処理の場所は１週間後には遺構の表面に蘚苔類が
発生してうすみどり色となったが、上記の処理を行った
箇所は全く蘚苔類の発生は認められなかった。処理した
箇所の経時変化を観察したところ、２年経過後も全く蘚
苔類・カビの発生が認められなかった。
【００１６】比較例１ 実施例１におけるポリアルキレングリコール付加シリコ
ーン化合物の散布量を５０ｇ／ｍ2 としたところ、１年
半経過後から蘚苔類・カビの発生が認められた。
ーン化合物の散布量を５０ｇ／ｍ2 としたところ、１年
半経過後から蘚苔類・カビの発生が認められた。
【００１７】実施例２ 実施例１におけるポリアルキレングリコール付加シリコ
ーン化合物の散布量を１００ｇ／ｍ2 としたところ、２
年経過後も蘚苔類・カビの発生は全く認められなかっ
た。
ーン化合物の散布量を１００ｇ／ｍ2 としたところ、２
年経過後も蘚苔類・カビの発生は全く認められなかっ
た。
【００１８】実施例３実施例１におけるポリアルキレン
グリコール付加シリコーン化合物に代えて、次式（化１
０〜１２）：
グリコール付加シリコーン化合物に代えて、次式（化１
０〜１２）：
【化１０】
【化１１】
【化１２】 で表される化合物を使用して実施例１と同様な試験を行
ったところ、２年経過後も遺構の表面には蘚苔類・カビ
の発生は全く認められなかった。
ったところ、２年経過後も遺構の表面には蘚苔類・カビ
の発生は全く認められなかった。
【００１９】実施例４ 水７８部にメチルトリメトキシシラン４部を攪拌しなが
らゆっくり添加し、水溶液が均一な透明になったところ
でケイ酸リチウム１２部とケイ酸ナトリウム２部を添加
し、均一になるまで攪拌した後、水酸化ナトリウムでｐ
Ｈを１２に調整した。さらに、酸化アルミニウム２部を
添加して均一な透明液体（シリコーン系硬化性組成物）
を得た。一方、遺構の表面に実施例１と同様な方法でポ
リアルキレングリコール付加シリコーン化合物を散布し
た後、上記透明液体を１０００ｍｌ／ｍ2 の割合で散布
した。２年経過後も遺構表面には蘚苔類やカビの発生は
認められず、降雨、風等による影響も全く認められなか
った。また、保護膜の収縮によって遺構表面が破損され
ることもなかった。
らゆっくり添加し、水溶液が均一な透明になったところ
でケイ酸リチウム１２部とケイ酸ナトリウム２部を添加
し、均一になるまで攪拌した後、水酸化ナトリウムでｐ
Ｈを１２に調整した。さらに、酸化アルミニウム２部を
添加して均一な透明液体（シリコーン系硬化性組成物）
を得た。一方、遺構の表面に実施例１と同様な方法でポ
リアルキレングリコール付加シリコーン化合物を散布し
た後、上記透明液体を１０００ｍｌ／ｍ2 の割合で散布
した。２年経過後も遺構表面には蘚苔類やカビの発生は
認められず、降雨、風等による影響も全く認められなか
った。また、保護膜の収縮によって遺構表面が破損され
ることもなかった。
【００２０】実施例５ ヒドロキシル化ジメチルポリシロキサン（分子量３００
００）４０重量部、ポリエチレングリコール（分子量４
０００）５重量部、ステアリン酸２重量部、ポリオキシ
エチレンソルビタンステアレート３重量部、水２００重
量部、テトラエチルシリケート５重量部、ジブチルスズ
ジラウレート０．７重量部を攪拌混合し、さらに次式
（化１３）：
００）４０重量部、ポリエチレングリコール（分子量４
０００）５重量部、ステアリン酸２重量部、ポリオキシ
エチレンソルビタンステアレート３重量部、水２００重
量部、テトラエチルシリケート５重量部、ジブチルスズ
ジラウレート０．７重量部を攪拌混合し、さらに次式
（化１３）：
【化１３】 で表される化合物４０重量部を添加し攪拌混合し、処理
液（ポリアルキレングリコール付加シリコーン化合物と
シリコーン系硬化性組成物との混合液）を調製した。こ
れを実施例１と同様な方法で遺構表面に３０００ｍｌ／
ｍ2 の割合で散布した。２年経過後も遺構表面には蘚苔
類やカビの発生は認められず、降雨、風等による影響も
全く認められなかった。また、保護膜の収縮によって遺
構表面が破損されることもなかった。
液（ポリアルキレングリコール付加シリコーン化合物と
シリコーン系硬化性組成物との混合液）を調製した。こ
れを実施例１と同様な方法で遺構表面に３０００ｍｌ／
ｍ2 の割合で散布した。２年経過後も遺構表面には蘚苔
類やカビの発生は認められず、降雨、風等による影響も
全く認められなかった。また、保護膜の収縮によって遺
構表面が破損されることもなかった。
【００２１】実施例６ ビニル化ジメチルポリシロキサン（分子量２００００）
３０重量部、ポリオキシエチレンオクチルドデシルアル
コール６重量部、グリセリンモノステアレート３重量
部、水１００重量部、グリセリン３重量部、水素化ジメ
チルポリシロキサン（分子量８０００）１５重量部、白
金シリカゲル０．６重量部、ワセリン５重量部を攪拌混
合し、処理液（シリコーン系硬化性組成物）とした。一
方、実施例１と同様な方法で遺構表面に次式（化１
４）：
３０重量部、ポリオキシエチレンオクチルドデシルアル
コール６重量部、グリセリンモノステアレート３重量
部、水１００重量部、グリセリン３重量部、水素化ジメ
チルポリシロキサン（分子量８０００）１５重量部、白
金シリカゲル０．６重量部、ワセリン５重量部を攪拌混
合し、処理液（シリコーン系硬化性組成物）とした。一
方、実施例１と同様な方法で遺構表面に次式（化１
４）：
【化１４】 で表される化合物を１５００ｇ／ｍ2 の割合で散布した
後、上記処理液を５００ｍｌ／ｍ2 の割合で散布した。
２年経過後も遺構表面には蘚苔類やカビの発生は認めら
れず、降雨、風等による影響も全く認められなかった。
また、保護膜の収縮によって遺構表面が破損されること
もなかった。
後、上記処理液を５００ｍｌ／ｍ2 の割合で散布した。
２年経過後も遺構表面には蘚苔類やカビの発生は認めら
れず、降雨、風等による影響も全く認められなかった。
また、保護膜の収縮によって遺構表面が破損されること
もなかった。
【００２２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明は、
人体に無害のポリアルキレングリコール付加シリコーン
化合物を使用して遺跡・遺構の表面を処理することによ
り、蘚苔類やカビの発生を防止して遺跡・遺構を原形の
まま保存することを可能としたものである。
人体に無害のポリアルキレングリコール付加シリコーン
化合物を使用して遺跡・遺構の表面を処理することによ
り、蘚苔類やカビの発生を防止して遺跡・遺構を原形の
まま保存することを可能としたものである。
【００２３】また、このシリコーン化合物とシリコーン
系硬化性組成物とを併用することにより、該シリコーン
化合物の保持効果が高められて蘚苔類・カビ発生防止効
果を長期間持続させ、さらに遺跡・遺構の表面を物理的
・化学的な作用から保護することも本発明は可能とし
た。しかもこのシリコーン系硬化性組成物による保護膜
自体の膨張、収縮により遺跡・遺構の表面が破損される
こともない。
系硬化性組成物とを併用することにより、該シリコーン
化合物の保持効果が高められて蘚苔類・カビ発生防止効
果を長期間持続させ、さらに遺跡・遺構の表面を物理的
・化学的な作用から保護することも本発明は可能とし
た。しかもこのシリコーン系硬化性組成物による保護膜
自体の膨張、収縮により遺跡・遺構の表面が破損される
こともない。
Claims (2)
- 【請求項１】 遺跡・遺構の表面に次式（化１）： 【化１】 （式中、ｍは０〜１０、ｎは１〜１０、ｘは２〜６、ｙ
は３〜１０、ｚは０〜１０を表し、Ａは−Ｈ、−Ｃ
Ｈ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−ＣＯＣＨ３および−
ＣＯＣ２Ｈ５から選択される基を表す。）で表されるポ
リアルキレングリコール付加シリコーン化合物を土壌平
面１ｍ ２ に対して１００〜３０００ｇの割合で散布する
ことを特徴とする遺跡・遺構の保存方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のポリアルキレングリコー
ル付加シリコーン化合物とシリコーン系硬化性組成物を
併用する請求項１記載の遺跡・遺構の保存方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4265691A JPH0733009B2 (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 遺跡・遺構の保存方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4265691A JPH0733009B2 (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 遺跡・遺構の保存方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0569411A JPH0569411A (ja) | 1993-03-23 |
| JPH0733009B2 true JPH0733009B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=12642053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4265691A Expired - Lifetime JPH0733009B2 (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 遺跡・遺構の保存方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733009B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5679937A (en) * | 1994-08-22 | 1997-10-21 | Toyodenso Kabushiki Kaisha | Switching device |
| AU2003211309A1 (en) * | 2003-02-17 | 2004-09-06 | Chiko Co., Ltd. | Ground surface recovering method, and recovered surface provided by the method |
| CN102584887A (zh) * | 2011-12-14 | 2012-07-18 | 上海交通大学 | 一种新型环氧基功能化大环形齐聚倍半硅氧烷的制备方法 |
| JP7403281B2 (ja) * | 2019-11-01 | 2023-12-22 | ダウ・東レ株式会社 | マイクロ流路を形成するための硬化性シリコーン組成物及びその硬化物、並びにマイクロ流路デバイス及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-02-14 JP JP4265691A patent/JPH0733009B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0569411A (ja) | 1993-03-23 |
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