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JPH0733581B2 - Electroless plating bath - Google Patents
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JPH0733581B2 - Electroless plating bath - Google Patents

Electroless plating bath

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Publication number
JPH0733581B2
JPH0733581B2 JP2315351A JP31535190A JPH0733581B2 JP H0733581 B2 JPH0733581 B2 JP H0733581B2 JP 2315351 A JP2315351 A JP 2315351A JP 31535190 A JP31535190 A JP 31535190A JP H0733581 B2 JPH0733581 B2 JP H0733581B2
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film
plating bath
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koe
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哲彌 逢坂
文男 後藤
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Waseda University
NEC Corp
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Waseda University
NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気記録媒体(磁性膜)の膜厚方向の磁化に
よって記録を行う、いわゆる垂直記録に用いる磁気記録
媒体を作製するための無電解めっき浴に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial field of application) The present invention provides a magnetic recording medium used for so-called perpendicular recording, in which recording is performed by magnetization in the film thickness direction of the magnetic recording medium (magnetic film). It relates to an electrolytic plating bath.

(従来の技術) 従来、一般の磁気ディスク装置、磁気テープ装置などの
磁気記録装置においては、磁気記録媒体の長手方向に磁
化することにより記録を行ってきたが、記録密度の増加
に従って媒体内の反磁界が増大して残留磁化の減衰と回
転を生じ、再生出力が著しく減少するという欠点が存在
する。このため記録密度が増加するほど反磁界が小さく
なる性質をもつ垂直記録方式が提案され、この垂直記録
に適した磁気記録媒体として膜厚に垂直な方向に磁化容
易なCoCrスパッタ膜が提案されている(特開昭52-13470
6号公報)。その後このような垂直記録媒体として、CoC
rスパッタ膜のほかに、スパッタ、蒸着などの乾式成膜
法によるCoM、CoCrM(Mは第3元素)などのCo合金膜、
Fe合金膜、Os添加フェライト膜、Baフェライト膜などが
開発されてきたが、これらの膜を乾式成膜法によって作
製する場合、真空系内で行うため量産性に問題がある。
(Prior Art) Conventionally, in a magnetic recording device such as a general magnetic disk device or a magnetic tape device, recording has been performed by magnetizing in the longitudinal direction of the magnetic recording medium. There is a drawback that the demagnetizing field is increased to cause the decay and rotation of the residual magnetization, and the reproduction output is significantly reduced. Therefore, a perpendicular recording method has been proposed in which the demagnetizing field decreases as the recording density increases, and a CoCr sputtered film that is easy to magnetize in the direction perpendicular to the film thickness has been proposed as a magnetic recording medium suitable for this perpendicular recording. (Japanese Patent Laid-Open No. 52-13470
No. 6). After that, as such a perpendicular recording medium, CoC
r In addition to sputtered films, Co alloy films such as CoM and CoCrM (M is the third element) by dry film forming methods such as sputtering and vapor deposition,
Fe alloy films, Os-added ferrite films, Ba ferrite films, etc. have been developed, but when these films are produced by a dry film forming method, there is a problem in mass productivity because they are performed in a vacuum system.

このためこの様な製造上の問題点を改善して量産性に優
れた無電解めっき法により、垂直記録媒体を作製する方
法が開発されている。この方法に用いるめっき浴には、
無電解CoMnPめっき浴(特開昭57-140869号公報)、無電
解CoNiMnPめっき浴(特開昭58-058267号公報)、無電解
CoNiMnRePめっき浴(特開昭60-103181号公報)、無電解
CoNiRePめっき浴(特開昭61-003316号公報)が見出され
ている。コバルト合金磁性膜において垂直異方性を有す
るためには、hcpCo(六方晶)のc軸を主として基板に
垂直配向させることが必要条件であるが、これらの浴で
はCoPあるいはCoNiPのめっき浴にMnあるいはReなどの可
溶性塩を添加し、CoMnP、CoNiMnP、CoNiMnReP、CoNiReP
などの合金膜とすることによって良好な垂直配向性が得
られている。
Therefore, there has been developed a method of manufacturing a perpendicular recording medium by an electroless plating method which is excellent in mass productivity by improving such manufacturing problems. The plating bath used in this method is
Electroless CoMnP plating bath (JP-A-57-140869), electroless CoNiMnP plating bath (JP-A-58-058267), electroless
CoNiMnReP plating bath (JP-A-60-103181), electroless
A CoNiReP plating bath (Japanese Patent Laid-Open No. 61-003316) has been found. In order to have perpendicular anisotropy in a cobalt alloy magnetic film, it is necessary to orient mainly the c-axis of hcpCo (hexagonal crystal) vertically to the substrate, but in these baths, CoP or CoNiP plating baths are used for Mn. Alternatively, a soluble salt such as Re may be added to add CoMnP, CoNiMnP, CoNiMnReP, CoNiReP
Good vertical orientation is obtained by using an alloy film such as.

一般に膜面に垂直な方向に磁化容易となる条件は、媒体
の異方性エネルギーをKu、膜固有の垂直異方性エネルギ
ーをK⊥、形状異方性エネルギーを2πMs2(Msは飽和
磁化)としたとき、K⊥>2πMs2あるいは、Ku=K⊥
−2πMs2>0の関係があることである。(これは、媒
体の垂直異方性磁界Hkと反磁界の最大値4πMsとの間に
Hk>4πMsの関係があるということと同様である。)垂
直記録媒体においては必ずしもこの条件を満たす必要は
ないが、KuあるいはHkが大きな値をもつほど媒体特性と
して好ましいといえる。高密度記録を得るためには、通
常少なくとも2.0kOe程度以上のHk値であることが好まし
い。
Generally, the conditions that make the magnetization easy in the direction perpendicular to the film surface are: the media anisotropic energy Ku, the film-specific perpendicular anisotropy energy K⊥, and the shape anisotropy energy 2πMs 2 (Ms is saturation magnetization). Then K⊥> 2πMs 2 or Ku = K⊥
There is a relationship of −2πMs 2 > 0. (This is between the perpendicular anisotropy field Hk of the medium and the maximum demagnetizing field of 4πMs.
This is the same as having a relationship of Hk> 4πMs. It is not always necessary to satisfy this condition in the perpendicular recording medium, but it can be said that the larger the value of Ku or Hk, the better the medium characteristics. In order to obtain high density recording, it is usually preferable that the Hk value is at least about 2.0 kOe.

一方、大きな再生出力を得るためにはMs値を大きくする
ことが望ましい。すなわちアイ・イー・イー・イートラ
ンザクションオンマグネチックス(IEEE Transaction o
n Magnetics)第Mag-18巻、第2号、第769〜771頁によ
れば、Ms<(3/4π)Hc(⊥)(Hc(⊥)は媒体の垂直
方向の保磁力)の条件下において再生出力値はMsに比例
するとされている。また前記文献においてMs≧(3/4
π)Hc(⊥)の場合、再生出力はHc(⊥)に比例すると
されている。従って、再生出力を大きくするたには、Hc
(⊥)を大きくし、十分な垂直磁気異方性を有する範囲
内でMsを大きくする必要がある。実際上は、使用する磁
気ヘッドの種類または記録条件によってHc(⊥)の値が
制限を受けるため、要求される記録密度および出力に応
じて適するHc(⊥)値を選択しうることが望ましい。
On the other hand, in order to obtain a large reproduction output, it is desirable to increase the Ms value. In other words, IEE Transaction on Magnetics (IEEE Transaction o
n Magnetics) According to Mag-18, No. 2, pp. 769-771, Ms <(3 / 4π) Hc (⊥) (Hc (⊥) is the perpendicular coercive force of the medium). The reproduction output value is said to be proportional to Ms. Also, in the above literature, Ms ≧ (3/4
In the case of π) Hc (⊥), the reproduction output is said to be proportional to Hc (⊥). Therefore, to increase the playback output, Hc
It is necessary to increase (⊥) and increase Ms within the range of having sufficient perpendicular magnetic anisotropy. In practice, the value of Hc (⊥) is limited by the type of magnetic head used or the recording conditions, so it is desirable to select an appropriate Hc (⊥) value according to the required recording density and output.

(発明が解決しようとする課題) 前記の無電解CoMnPめっき浴や無電解CoNiMnPめっき浴を
用いることによりhcpCo六方晶のc軸が基板に垂直配向
し、最大で2.1kOe程度のHc(⊥)をもったCoMnPやCoNiM
nPの磁性膜が得られるが、このように得られた磁性膜は
Ms値にたいして垂直磁気異方性が十分でなく、垂直記録
媒体として好ましくなかった。このためCoMnPやCoNiMnP
にReを共析することにより垂直磁気異方性を向上させ垂
直磁化膜が得られるようになったが、Msが150〜350emu/
cc程度に低下し、Hc(⊥)も1.4kOeよりも大きな値を得
ることが困難であった。すなわち高出力化のための大き
なHc(⊥)値とMs値を保持したまま十分な垂直磁気異方
性(大きなHk値)を有する垂直記録媒体が要望されてい
たが、これまでの垂直記録媒体ではこれらのいずれかが
不十分であった。
(Problems to be solved by the invention) By using the above electroless CoMnP plating bath or electroless CoNiMnP plating bath, the c-axis of hcpCo hexagonal crystal is vertically oriented to the substrate, and a maximum Hc (⊥) of about 2.1 kOe is obtained. CoMnP and CoNiM
A magnetic film of nP can be obtained, but the magnetic film thus obtained is
The perpendicular magnetic anisotropy was insufficient for the Ms value, which was not preferable as a perpendicular recording medium. Therefore, CoMnP and CoNiMnP
By co-depositing Re on the magnetic layer, the perpendicular magnetic anisotropy was improved and a perpendicular magnetic film was obtained, but Ms was 150-350emu /
It was difficult to obtain Hc (⊥) larger than 1.4 kOe. That is, there has been a demand for a perpendicular recording medium having sufficient perpendicular magnetic anisotropy (large Hk value) while maintaining a large Hc (⊥) value and Ms value for higher output. Then either of these was insufficient.

本発明の目的は、従来の問題を改善して、垂直記録媒体
として優れた特性を有する磁気記録媒体を作製するため
の無電解めっき浴を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an electroless plating bath for improving a conventional problem and producing a magnetic recording medium having excellent characteristics as a perpendicular recording medium.

(課題を解決するための手段) 本発明による無電解めっき浴は、コバルトイオンとニッ
ケルイオンとを含み、添加剤として少なくとも前記金属
イオンの還元剤を含み、前記金属イオンの錯化剤として
酒石酸基と、マロン酸基と、グリコール酸基とリンゴ酸
基とを含む水溶液において、0.01〜0.10mol/lの濃度範
囲の亜鉛イオンを添加した水溶液であることを特徴とし
ている。
(Means for Solving the Problems) The electroless plating bath according to the present invention contains cobalt ions and nickel ions, contains at least a reducing agent for the metal ions as an additive, and has a tartaric acid group as a complexing agent for the metal ions. And an aqueous solution containing a malonic acid group, a glycolic acid group and a malic acid group, to which zinc ions in a concentration range of 0.01 to 0.10 mol / l are added.

本発明において用いられる無電解めっき浴の主要成分と
しては、コバルトイオン、ニッケルイオンおよび亜鉛イ
オン、次亜リン酸塩、酒石酸基、マロン酸基、グリコー
ル酸基およびリンゴ酸基を含むが、本発明の目的、効果
を損なわない範囲において、pH緩衝剤、光沢剤、平滑
剤、励起剤、ピンホール防止剤、界面活性剤等の添加剤
が用いられることがある。
The main components of the electroless plating bath used in the present invention include cobalt ion, nickel ion and zinc ion, hypophosphite, tartaric acid group, malonic acid group, glycolic acid group and malic acid group. Additives such as pH buffers, brighteners, leveling agents, stimulants, pinhole inhibitors, and surfactants may be used as long as the purpose and effect are not impaired.

コバルトイオン、ニッケルイオン、亜鉛イオンは、コバ
ルト、ニッケルまたは亜鉛の硫酸塩、塩化塩、酢酸塩、
有機酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解する
ことによって供給される。コバルトイオンの濃度は、0.
0005〜1.5mol/lの範囲が用いられるが、好ましくは0.00
2〜0.2mol/lの範囲で用いられる。ニッケルイオンの濃
度は、0.001〜2mol/lの範囲が用いられるが、好ましく
は0.01〜0.25mol/lの範囲で用いられる。本発明におい
て用いられる金属イオンとしてはコバルト、ニッケルを
主成分とするが、少量の、Be,Mg,Al,Ru,Si,Fe,Sr,Y,Zr,
Nb,Cd,In,Sb,Ta,Ir,Hg,Tl,Nb,Gd,Tb,Ti,V,Cr,Cu,Ga,Ge,
Mn,W,Mo,Rh,Pd,Ag,Au,Pt,Sn,Te,Ba,Ce,Sm,Os,Pb,Re,Bi
等のイオンが本発明の効果に影響を与えない範囲で含ま
れていてもよく、これらのイオンはそれぞれの可溶性塩
によって供給される。
Cobalt ion, nickel ion, zinc ion, cobalt, nickel or zinc sulfate, chloride, acetate,
It is supplied by dissolving a soluble salt such as an organic acid salt in an electroless plating bath. The cobalt ion concentration is 0.
A range of 0005 to 1.5 mol / l is used, preferably 0.00
Used in the range of 2 to 0.2 mol / l. The concentration of nickel ion is used in the range of 0.001 to 2 mol / l, preferably 0.01 to 0.25 mol / l. Cobalt as a metal ion used in the present invention, cobalt as a main component, a small amount of Be, Mg, Al, Ru, Si, Fe, Sr, Y, Zr,
Nb, Cd, In, Sb, Ta, Ir, Hg, Tl, Nb, Gd, Tb, Ti, V, Cr, Cu, Ga, Ge,
Mn, W, Mo, Rh, Pd, Ag, Au, Pt, Sn, Te, Ba, Ce, Sm, Os, Pb, Re, Bi
And the like may be contained in a range that does not affect the effect of the present invention, and these ions are supplied by the respective soluble salts.

還元剤としては、次亜リン酸塩が0.005〜0.9mol/l好ま
しくは0.05〜0.3mol/lの範囲で用いられる。還元剤に次
亜リン酸塩を使用するため得られるめっき膜中にはPが
共析される。電気めっき法によるCoNiZnP膜ではPが共
析しやすく、P含有量が4〜8重量%となっている(特
開昭59-48904号公報)が、無電解めっき法ではPを多く
共析することが難しく、P含有量は低い。本無電解めっ
き浴によって良好な垂直磁気異方性が得られるめっき膜
は、P含有量が0.1〜3.8重量%、好ましくは1.5〜3.5重
量%の範囲である。
As the reducing agent, hypophosphite is used in the range of 0.005 to 0.9 mol / l, preferably 0.05 to 0.3 mol / l. Since hypophosphite is used as the reducing agent, P is co-deposited in the obtained plated film. In the CoNiZnP film formed by the electroplating method, P is likely to be co-deposited, and the P content is 4 to 8% by weight (JP-A-59-48904). However, in the electroless plating method, a large amount of P is co-deposited. Difficult and the P content is low. The plating film which can obtain good perpendicular magnetic anisotropy by the electroless plating bath has a P content of 0.1 to 3.8% by weight, preferably 1.5 to 3.5% by weight.

錯化剤としては、グリコール酸やグリコール酸ナトリウ
ム、グリコール酸エチル、グルコール酸メチル、グルコ
ール酸コバルト、グリコール酸ニッケルなどのグリコー
ル酸基およびリンゴ酸やリンゴ酸ナトリウム、リンゴ酸
カリウム、リンゴ酸ジエチルなどのリンゴ酸基が使用さ
れる。グリコール酸基は、グリコール酸またはグリコー
ル酸の可溶性塩が0.001〜3mol/lの範囲で用いられる
が、0.1〜1.75mol/lの範囲が好ましい。リンゴ酸基は、
リンゴ酸またはリンゴ酸の可溶性塩が0.001〜1mol/lの
範囲で用いられるが、0.1〜0.75mol/lの範囲が好まし
い。
Examples of complexing agents include glycolic acid groups such as glycolic acid, sodium glycolate, ethyl glycolate, methyl glycolate, cobalt glycolate, nickel glycolate, and malic acid, sodium malate, potassium malate, diethyl malate, and the like. Malic acid groups are used. As the glycolic acid group, glycolic acid or a soluble salt of glycolic acid is used in the range of 0.001 to 3 mol / l, preferably 0.1 to 1.75 mol / l. The malic acid group is
Malic acid or a soluble salt of malic acid is used in the range of 0.001 to 1 mol / l, preferably in the range of 0.1 to 0.75 mol / l.

また錯化剤としてほかに、マロン酸、酒石酸の可溶性塩
が、0.1〜1.5mol/lの濃度範囲で用いられる。
In addition, as the complexing agent, soluble salts of malonic acid and tartaric acid are used in a concentration range of 0.1 to 1.5 mol / l.

pH緩衝剤としてはアンモニウム塩、炭酸塩、有機酸塩な
どが使用され、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、
ホウ酸等を用いることが好ましい。濃度範囲は0.01〜3m
ol/l、好ましくは0.03〜1mol/lが用いられる。
Ammonium salts, carbonates, organic acid salts, etc. are used as the pH buffer, and ammonium sulfate, ammonium chloride,
It is preferable to use boric acid or the like. Concentration range is 0.01-3m
ol / l, preferably 0.03 to 1 mol / l is used.

pH調節剤としては、アンモニアまたは苛性アルカリとし
てNaOH,LiOH,KOH,RbOH,CsOH,FrOH,Be(OH)2,Mg(OH)2,C
a(OH)2,Sr(OH)2,Ba(OH)2,Ra(OH)2等の金属の水酸化
物が、1種または2種以上を組み合せて用いられる。ま
たアンモニアと苛性アルカリを併用することも行われ
る。
As a pH adjuster, ammonia, caustic alkali as NaOH, LiOH, KOH, RbOH, CsOH, FrOH, Be (OH) 2 , Mg (OH) 2 , C
Metal hydroxides such as a (OH) 2 , Sr (OH) 2 , Ba (OH) 2 and Ra (OH) 2 are used alone or in combination of two or more. It is also possible to use ammonia and caustic together.

通常、pH調節剤を加えない建浴前のめっき液はほぼ中性
ないし酸性域にあり、前記水酸化物を加えてアルカリ性
にpH調節される。所要のpHを上回った場合、pH降下には
塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の酸が用いられる。pH範囲は
6〜14.5、好ましくは8.0〜11.0の間で用いられる。
Usually, the plating solution before adding a bath without adding a pH adjuster is in a neutral or acidic range, and the pH is adjusted to alkaline by adding the hydroxide. Acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and acetic acid are used to lower the pH when the pH exceeds the required level. The pH range used is between 6 and 14.5, preferably between 8.0 and 11.0.

(作用) 無電解めっき法による代表的な垂直記録媒体はCoNiMnRe
P膜である。MnはhcpCo(六方晶)のc軸を基板に垂直配
向させる作用をもつ。Reには垂直磁気異方性の維持と効
果的なMsの低下の作用がある。NiはReを共析する際の析
出速度低下を防ぐ役割をもつ。Pは次亜リン酸還元の無
電解めっきにおいては同時に共析される。これがCoNiMn
ReP膜の各成分の役割と考えられているが、浴管理に問
題があるMnやMsを低下させるReは使用しないほうが好ま
しい。無電解めっきは、熱力学的にはめっき浴液中どこ
でも起こり得るめっき反応を、活性の高い基板表面上で
は実質的な反応速度で進行し、溶液中ではほとんど反応
が進行しないように溶液成分を調整したものである。ま
たこのめっき反応の制御によりめっき膜構造や膜特性も
変化する。MnやReは膜構造や膜特性に関与するが、Mnや
Reの可溶性塩添加によって基板表面のめっき反応に影響
を及ぼしていることによる。そこでめっき反応に影響を
及ぼす他の添加金属や重要な溶液成分である錯化剤の適
切な組合せによっては、MnやReを使用する必要がなくな
るのではないかと考えられた。しかし、錯化剤と析出合
金膜の配向性、磁気特性などとの関係が明らかとなって
いないため、本発明に至るまでに、実験的に広範囲に鋭
意検討した結果、各種の錯化剤の中でグリコール酸基と
リンゴ酸基の組合せがこの目的に適用できることを見出
した。さらにMnやRe以外の各種添加金属の効果を検討し
た結果、亜鉛の可溶性塩添加によりCoNiP膜に亜鉛が共
析し、垂直磁気異方性の向上とHc(⊥)の増加が図れる
ことが明らかとなった。
(Function) A typical perpendicular recording medium by electroless plating is CoNiMnRe
It is a P film. Mn has a function of vertically aligning the c-axis of hcpCo (hexagonal crystal) with the substrate. Re has the function of maintaining perpendicular magnetic anisotropy and effectively lowering Ms. Ni has the role of preventing the precipitation rate from decreasing when eutectoiding Re. P is co-deposited at the same time in the electroless plating of hypophosphorous acid reduction. This is CoNiMn
It is considered to be the role of each component of the ReP film, but it is preferable not to use Re, which has a problem in bath management and reduces Mn and Ms. Electroless plating thermodynamically causes a plating reaction that can occur anywhere in a plating bath solution to proceed at a substantially reaction rate on a highly active substrate surface, and to prevent the reaction from progressing in a solution, the solution components are It has been adjusted. Further, the control of the plating reaction also changes the plating film structure and film characteristics. Mn and Re are involved in the film structure and properties, but Mn and Re
This is because the addition of a soluble salt of Re affects the plating reaction on the substrate surface. Therefore, it was thought that it would be unnecessary to use Mn or Re depending on the appropriate combination of other added metals that affect the plating reaction and complexing agents that are important solution components. However, since the relationship between the complexing agent and the orientation of the deposited alloy film, the magnetic properties, etc. has not been clarified, until the present invention, as a result of extensive and extensive studies conducted experimentally, various complexing agents Among them, it was found that a combination of glycolic acid group and malic acid group can be applied for this purpose. Furthermore, as a result of examining the effect of various added metals other than Mn and Re, it was revealed that zinc is co-deposited on the CoNiP film by the addition of a soluble salt of zinc, which improves perpendicular magnetic anisotropy and increases Hc (⊥). Became.

本発明は、このような知見を得たことによりもたらされ
たものである。
The present invention has been brought about by obtaining such knowledge.

次に具体的に実施例および比較例により本発明を説明す
る。
Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

(実施例1) アルミ合金基板上に非磁性NiP層をめっきし、表面を鏡
面研磨した後、その上に下記のめっき浴を用いて膜厚0.
05〜1.0μmのCoNiZnP合金磁性膜を形成した。
(Example 1) A non-magnetic NiP layer was plated on an aluminum alloy substrate, the surface was mirror-polished, and the following plating bath was used thereon to obtain a film thickness of 0.1.
A CoNiZnP alloy magnetic film having a thickness of 05 to 1.0 μm was formed.

めっき浴(1) 浴組成 硫酸コバルト 0.07mol/l 硫酸ニッケル 0.17mol/l 硫酸亜鉛 0.04mol/l 次亜リン酸ナトリウム 0.2mol/l 硫酸アンモニウム 0.5mol/l 酒石酸ナトリウム 0.25mol/l マロン酸ナトリウム 0.75mol/l リンゴ酸ナトリウム 0.02mol/l グリコール酸 1.0mol/l めっき条件 浴温 80℃ めっき浴のpH 9.15(室温にてアンモニア水でpH調節) こうして得られた磁性膜の磁気特性を振動試料型磁力計
および磁気トルク計を用いて測定した。この磁性膜のMH
ループは、垂直ループが面内ループを囲んだ垂直磁気異
方性膜特有の形状であった。Hc(⊥)は3.15kOe、Msは6
10emu/cc、Hkは8.6kOeと大きな値を有していた。磁気異
方性エネルギー測定より得られたトルク曲線は、全て明
瞭な一軸異方性を示し正の異方性エネルギーKu値を有し
ていた(例えば膜厚0.25μmにおいて7.5×104erg/c
c)。
Plating bath (1) Bath composition Cobalt sulfate 0.07mol / l Nickel sulfate 0.17mol / l Zinc sulfate 0.04mol / l Sodium hypophosphite 0.2mol / l Ammonium sulfate 0.5mol / l Sodium tartrate 0.25mol / l Sodium malonate 0.75mol / l Sodium malate 0.02mol / l Glycolic acid 1.0mol / l Plating condition Bath temperature 80 ℃ Plating bath pH 9.15 (pH adjusted with ammonia water at room temperature) Magnetic properties of the magnetic film thus obtained Meter and magnetic torque meter. MH of this magnetic film
The loop had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropic film in which the vertical loop surrounded the in-plane loop. Hc (⊥) is 3.15 kOe, Ms is 6
10emu / cc, Hk had a large value of 8.6 kOe. The torque curves obtained by the magnetic anisotropy energy measurement all showed clear uniaxial anisotropy and had a positive anisotropy energy Ku value (eg, 7.5 × 10 4 erg / c at a film thickness of 0.25 μm).
c).

次に、このような特性を示す原因と考えられる磁性膜の
構造について、X線回折および電子線回折より検討し
た。X線回折では、hcpCo(六方晶)のc軸が基板面に
垂直配向していることを示す(002)面からの回折によ
る鋭いピークのみが認められ、他の格子面からの回折に
相当するピークは認められなかった。また、電子線回折
結果からもc軸が基板面に垂直配向したhcpCo構造から
構成されており、膜厚0.05μmという薄膜時より高い配
向性を示していることが明らかとなった。すなわち本実
施例で得られた磁性膜は垂直磁気異方性を示し、垂直記
録媒体として好ましい特性を有することが明らかとなっ
た。
Next, the structure of the magnetic film, which is considered to be the cause of exhibiting such characteristics, was examined by X-ray diffraction and electron beam diffraction. In X-ray diffraction, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane, which indicates that the c-axis of hcpCo (hexagonal crystal) is oriented perpendicular to the substrate surface, are recognized, which corresponds to diffraction from other lattice planes. No peak was observed. The electron beam diffraction results also revealed that the hcpCo structure had a c-axis oriented perpendicularly to the substrate surface and exhibited a higher orientation than the thin film having a film thickness of 0.05 μm. That is, it was clarified that the magnetic film obtained in this example exhibits perpendicular magnetic anisotropy and has preferable characteristics as a perpendicular recording medium.

(実施例2) 実施例1と同様の手順で磁性膜の作製を行ったが、本実
施例ではめっき浴(1)において硫酸亜鉛の濃度を0〜
0.2mol/lの範囲で変化させてCoNiZnP合金磁性膜を形成
した。
(Example 2) A magnetic film was produced in the same procedure as in Example 1, but in this example, the concentration of zinc sulfate was 0 to 0 in the plating bath (1).
The CoNiZnP alloy magnetic film was formed by changing the range of 0.2 mol / l.

こうして得られた磁性膜の磁気特性(飽和磁化Ms
(⊥)、異方性磁界Hk、保持力Hc(⊥)を測定した結果
を表1に示す。
Magnetic properties of the magnetic film thus obtained (saturation magnetization Ms
Table 1 shows the results of measuring (⊥), anisotropic magnetic field Hk, and coercive force Hc (⊥).

硫酸亜鉛濃度が0mol/lの場合、Hkは4.7kOe、Hc(⊥)は
1.40kOeであった。硫酸亜鉛濃度の増加とともにHkとHc
(⊥)が増加した。硫酸亜鉛濃度が0.01mol/lでHk
(⊥)が6.4kOe、Hc(⊥)が1.76kOeに増加し、0.04mol
/lでHkが8.6kOe、Hc(⊥)が3.15kOeと最大値に達し、
それ以上の濃度でHk、Hc(⊥)が減少し硫酸亜鉛濃度が
0.175mol/lになるとHkが1.9kOe、Hc(⊥)が0.74kOeと
大きく減少した。また、表に示すように、本発明のめっ
き浴では垂直磁気異方性が増加してもMsが急減すること
がなく、硫酸亜鉛濃度が0.175mol/lとなって500emu/cc
を下回る値まで減少した。Hc(⊥)については、Hkが2.
0kOe以上の膜において、かなり広い範囲で変化させるこ
とができた。硫酸亜鉛が0.10mol/lまでの濃度範囲にお
いて得られる磁性膜のMHループは、垂直ループが面内ル
ープを囲んだ垂直磁気異方性膜特有の形状であった。こ
れらの磁性膜のX線回折では、(002)面からの回折に
よる鋭いピークのみが認められ、他の格子面からの回折
に相当するピークは認められなかった。また、電子線回
折結果からもc軸が基板面に垂直配向したhcpCo構造か
ら構成されており、高い結晶性と配向性を示しているこ
とが明らかとなった。
When the zinc sulfate concentration is 0 mol / l, Hk is 4.7 kOe and Hc (⊥) is
It was 1.40 kOe. Hk and Hc with increasing zinc sulfate concentration
(⊥) increased. Hk at a zinc sulfate concentration of 0.01 mol / l
(⊥) increased to 6.4 kOe and Hc (⊥) increased to 1.76 kOe, 0.04 mol
With / l, Hk reached 8.6 kOe and Hc (⊥) reached 3.15 kOe, which was the maximum value.
At higher concentrations, Hk and Hc (⊥) decrease and zinc sulfate concentration increases.
At 0.175 mol / l, Hk decreased to 1.9 kOe and Hc (⊥) decreased to 0.74 kOe. Further, as shown in the table, in the plating bath of the present invention, Ms does not decrease sharply even if the perpendicular magnetic anisotropy increases, and the zinc sulfate concentration becomes 0.175 mol / l and 500 emu / cc.
Fell to a value below. For Hc (⊥), Hk is 2.
It was possible to change in a considerably wide range in the film of 0 kOe or more. The MH loop of the magnetic film obtained in the concentration range of zinc sulfate up to 0.10 mol / l had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropy film in which the vertical loop surrounded the in-plane loop. In X-ray diffraction of these magnetic films, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane were observed, and peaks corresponding to diffraction from other lattice planes were not observed. The electron beam diffraction results also revealed that the c-axis was composed of the hcpCo structure oriented perpendicularly to the substrate surface and exhibited high crystallinity and orientation.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は、大きなHc(⊥)
値と大きなMs値を保持したまま十分な垂直磁気異方性
(大きなHk値)を有し、垂直記録媒体として好ましい諸
特性を有するほか、硫酸亜鉛濃度を変化することによっ
て磁気特性を制御しうることが明らかとなった。
That is, the magnetic film obtained in this example has a large Hc (⊥)
Has a sufficient perpendicular magnetic anisotropy (large Hk value) while maintaining the Ms value and a large Ms value, and has various characteristics preferable as a perpendicular recording medium, and the magnetic characteristics can be controlled by changing the zinc sulfate concentration. It became clear.

(実施例3) 実施例1と同様の手順で磁性膜の作製を行ったが、本実
施例では下記に示すめっき浴(2)において、酢酸亜鉛
の濃度を0〜0.2mol/lの範囲で変化させてCoNiZnP合金
磁性膜を形成した。
(Example 3) A magnetic film was prepared by the same procedure as in Example 1, but in this example, in the plating bath (2) shown below, the concentration of zinc acetate was in the range of 0 to 0.2 mol / l. The CoNiZnP alloy magnetic film was formed by changing.

めっき浴(2) 硫酸コバルト 0.05mol/l 硫酸ニッケル 0.13mol/l 酢酸亜鉛 0.〜0.2mol/l 次亜リン酸ナトリウム 0.17mol/l 硫酸アンモニウム 0.41mol/l 酒石酸ナトリウムカリウム 0.15mol/l マロン酸ナトリウム 0.55mol/l リンゴ酸ナトリウム 0.01mol/l グリコール酸ナトリウム 1.1mol/l めっき条件 浴温 78℃ めっき浴のpH 9.4(室温にてアンモニア水でpH調節) こうして得られた磁性膜の磁気特性(飽和磁化Ms
(⊥)、異方性磁界Hk、保持力Hc(⊥)を測定した結果
を表2に示す。
Plating bath (2) Cobalt sulfate 0.05mol / l Nickel sulfate 0.13mol / l Zinc acetate 0.1 ~ 0.2mol / l Sodium hypophosphite 0.17mol / l Ammonium sulfate 0.41mol / l Sodium potassium tartrate 0.15mol / l Sodium malonate 0.55mol / l Sodium malate 0.01mol / l Sodium glycolate 1.1mol / l Plating condition Bath temperature 78 ℃ Plating bath pH 9.4 (pH adjustment with ammonia water at room temperature) Magnetic properties of magnetic film (saturation) Magnetization Ms
Table 2 shows the results of measuring (⊥), anisotropic magnetic field Hk, and coercive force Hc (⊥).

酢酸亜鉛濃度が0mol/lの場合、Hkは3.9kOe、Hc(⊥)は
1.06kOeであった。酢酸亜鉛濃度の増加とともにHkとHc
(⊥)は増加した。酢酸亜鉛濃度が0.01mol/lでHk
(⊥)が6.1kOe、Hc(⊥)が1.77kOeに増加し、0.04mol
/lでHkが7.8kOe、Hc(⊥)が2.55kOeと最大値に達し、
それ以上の濃度でHk、Hc(⊥)が減少した。酢酸亜鉛濃
度が0.15mol/lになるとHkが1.9kOe、Hc(⊥)が0.81kOe
と大きく減少した。また、表に示すように、本発明のめ
っき浴では垂直磁気異方性が増加してもMsが急減するこ
とがなく、酢酸亜鉛濃度が0.15mol/lとなって400emu/cc
を下回る値まで減少した。Hc(⊥)については、Hkが2.
0kOe以上の膜において、かなり広い範囲で変化させるこ
とができた。酢酸亜鉛が0.10mol/lまでの濃度範囲にお
いて得られる磁性膜のMHループは、垂直ループが面内ル
ープを囲んだ垂直磁気異方性膜特有の形状であった。こ
れらの磁性膜のX線回折では、(002)面からの回折に
よる鋭いピークのみが認められ、他の格子面からの回折
に相当するピークは認められなかった。また、電子線回
折結果からもc軸が基板面に垂直配向したhcpCo構造か
ら構成されており、高い結晶性と配向性を示しているこ
とが明らかとなった。
When the zinc acetate concentration is 0 mol / l, Hk is 3.9 kOe and Hc (⊥) is
It was 1.06 kOe. Hk and Hc with increasing zinc acetate concentration
(⊥) increased. Hk at a zinc acetate concentration of 0.01 mol / l
(⊥) increased to 6.1 kOe, Hc (⊥) increased to 1.77 kOe, 0.04 mol
With / l, Hk reaches 7.8 kOe and Hc (⊥) reaches 2.55 kOe, which is the maximum value.
Hk and Hc (⊥) decreased at higher concentrations. When the zinc acetate concentration is 0.15 mol / l, Hk is 1.9 kOe and Hc (⊥) is 0.81 kOe.
And greatly decreased. In addition, as shown in the table, in the plating bath of the present invention, Ms does not decrease sharply even when the perpendicular magnetic anisotropy increases, and the zinc acetate concentration becomes 0.15 mol / l and 400 emu / cc.
Fell to a value below. For Hc (⊥), Hk is 2.
It was possible to change in a considerably wide range in the film of 0 kOe or more. The MH loop of the magnetic film obtained in the concentration range of zinc acetate up to 0.10 mol / l had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropy film in which the vertical loop surrounded the in-plane loop. In X-ray diffraction of these magnetic films, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane were observed, and peaks corresponding to diffraction from other lattice planes were not observed. The electron beam diffraction results also revealed that the c-axis was composed of the hcpCo structure oriented perpendicularly to the substrate surface and exhibited high crystallinity and orientation.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は、大きなHc(⊥)
値と大きなMs値を保持したまま十分な垂直磁気異方性
(大きなHk値)を有し、垂直記録媒体として好ましい諸
特性を有するほか、酢酸亜鉛濃度を変化することによっ
て磁気特性を制御しうることが明らかとなった。
That is, the magnetic film obtained in this example has a large Hc (⊥)
Has a sufficient perpendicular magnetic anisotropy (large Hk value) while maintaining the Ms value and a large Ms value, and has various characteristics preferable as a perpendicular recording medium, and the magnetic characteristics can be controlled by changing the zinc acetate concentration. It became clear.

また、以上の実施例で用いた無電解めっき浴は、従来の
MnないしはReを含む4元あるいは5元の多元合金無電解
めっき浴に比較して浴管理が容易で著しく安定性に優
れ、垂直記録媒体として優れた特性を有する磁性膜を再
現性よく作製することができた。同一容量のめっき浴か
ら多数の媒体を作製する場合、2.0kOe以上の異方性磁界
Hk値が得られるめっき当初から2.0kOe以下の値になるま
でのめっき処理料を浴寿命とすると、本発明による無電
解めっき浴の浴寿命は従来の多元合金無電解めっき浴に
比較して10倍以上に増加していた。
In addition, the electroless plating bath used in the above examples is
Compared to a four-element or five-element multi-element alloy electroless plating bath containing Mn or Re, bath management is easy and remarkably stable, and a magnetic film having excellent characteristics as a perpendicular recording medium can be produced with good reproducibility. I was able to. Anisotropy field of 2.0 kOe or more when making many media from plating baths of the same capacity
When the plating treatment from the beginning of plating where the Hk value is obtained to a value of 2.0 kOe or less is taken as the bath life, the bath life of the electroless plating bath according to the present invention is 10 compared to the conventional multi-component alloy electroless plating bath. It was more than doubled.

(発明の効果) 以上、実施例で示したように、本発明によれば、金属イ
オンとして少なくともコバルトイオン、ニッケルイオン
および亜鉛イオンを含み、添加剤として少なくとも前記
金属イオンの還元剤を含み、前記金属イオンの錯化剤と
して少なくともグリコール酸基およびリンゴ酸基を含む
無電解めっき浴を用いることにより、垂直記録媒体とし
て優れた特性を有するCoNiZnP膜を安定に作製すること
ができる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, at least cobalt ions, nickel ions and zinc ions are contained as metal ions, and a reducing agent for at least the metal ions is contained as an additive, and By using an electroless plating bath containing at least a glycolic acid group and a malic acid group as a metal ion complexing agent, a CoNiZnP film having excellent properties as a perpendicular recording medium can be stably prepared.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】コバルトイオンとニッケルイオンとを含
み、添加剤として少なくとも前記金属イオンの還元剤を
含み、前記金属イオンの錯化剤として酒石酸基と、マロ
ン酸基と、グリコール酸基とリンゴ酸基とを含む水溶液
であって、0.01〜0.10mol/lの濃度範囲の亜鉛イオンを
添加したことを特徴とする垂直記録に用いる磁気記録媒
体を作製するための無電解めっき浴。
1. A cobalt ion and a nickel ion, at least the reducing agent for the metal ion as an additive, and a tartaric acid group, a malonic acid group, a glycolic acid group, and malic acid as a complexing agent for the metal ion. An electroless plating bath for producing a magnetic recording medium used for perpendicular recording, which is an aqueous solution containing a group and to which zinc ions in a concentration range of 0.01 to 0.10 mol / l are added.
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