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JPH08981B2 - Electroless plating bath - Google Patents
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JPH08981B2 - Electroless plating bath - Google Patents

Electroless plating bath

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JPH08981B2
JPH08981B2 JP2269001A JP26900190A JPH08981B2 JP H08981 B2 JPH08981 B2 JP H08981B2 JP 2269001 A JP2269001 A JP 2269001A JP 26900190 A JP26900190 A JP 26900190A JP H08981 B2 JPH08981 B2 JP H08981B2
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plating bath
film
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magnetic
acid group
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哲彌 逢坂
文男 後藤
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Waseda University
NEC Corp
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Waseda University
NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気記録媒体(磁性膜)の膜厚方向の磁化
によって記録を行なう、いわゆる垂直記録に用いる磁気
記録媒体を作製するめっき浴に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a plating bath for producing a magnetic recording medium used for so-called perpendicular recording, in which recording is performed by magnetization in the film thickness direction of a magnetic recording medium (magnetic film). It is a thing.

(従来の技術) 従来、一般の磁気ディスク装置、磁気テープ装置など
の磁気記録装置においては、磁気記録媒体の長手方向に
磁化することにより記録を行ってきたが、この方式では
記録密度の増加に従って媒体内の反磁界が増大して残留
磁化の減衰と回転を生じ、再生出力が著しく減少すると
いう欠点が存在する。このため記録密度が増加するほど
反磁界が小さくなり、高密度記録が可能な垂直記録方式
と、この垂直記録に適した記録媒体としてCoCrスパッタ
膜が提案されている(特開昭52-134706号公報)。その
後このような垂直記録媒体として、CoCrスパッタ膜のほ
かに、スパッタ、蒸着などの乾式成膜法によるCoM、CoC
rM(Mは第3元素)などのCo合金膜、Fe合金膜、Os添加
フェライト膜、Baフェライト膜などが開発されてきた
が、これらの膜を乾式成膜法によって作製する場合、真
空系内で行なうため量産性に問題がある。
(Prior Art) Conventionally, in a magnetic recording device such as a general magnetic disk device and a magnetic tape device, recording has been performed by magnetizing in the longitudinal direction of a magnetic recording medium. There is a drawback that the demagnetizing field in the medium is increased to cause attenuation and rotation of the residual magnetization, and the reproduction output is significantly reduced. Therefore, the demagnetizing field becomes smaller as the recording density increases, and a perpendicular recording method capable of high density recording and a CoCr sputtered film as a recording medium suitable for this perpendicular recording have been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 52-134706). Gazette). After that, as such a perpendicular recording medium, in addition to the CoCr sputtered film, CoM and CoC by a dry film-forming method such as sputtering and vapor deposition.
Co alloy films such as rM (M is the third element), Fe alloy films, Os-added ferrite films, Ba ferrite films, etc. have been developed. However, when these films are produced by the dry film forming method, they are in a vacuum system. Therefore, there is a problem in mass productivity.

このためこの様な製造上の問題点を改善して量産性に
優れた無電解めっき法により、垂直記録媒体を作製する
方法が開発されている。この方法に用いるめっき浴に
は、無電解CoMnPめっき浴(特開昭57-140869号公報)、
無電解CoNiMnPめっき浴(特開昭58-058267号公報)、無
電解CoNiMnRePめっき浴(特開昭60-103181号公報)が見
出されている。コバルト合金磁性膜において垂直異方性
を有するためには、hcpCo(六方晶)のc軸を主として
基板に垂直配向させることが必要条件であり、まずCoP
あるいはCoNiPのめっき浴にMnを添加し、CoMnP、CoNiMn
Pなどの合金膜とすることによって良好な垂直配向性が
得られた。さらにCoNiMnPにReを添加して磁気特性が改
善された。
Therefore, there has been developed a method of manufacturing a perpendicular recording medium by an electroless plating method which is excellent in mass productivity by improving such manufacturing problems. The plating bath used in this method includes an electroless CoMnP plating bath (JP-A-57-140869),
An electroless CoNiMnP plating bath (JP-A-58-058267) and an electroless CoNiMnReP plating bath (JP-A-60-103181) have been found. In order to have perpendicular anisotropy in a cobalt alloy magnetic film, it is necessary to orient mainly the c-axis of hcpCo (hexagonal) vertically to the substrate.
Alternatively, add Mn to the CoNiP plating bath to remove CoMnP, CoNiMn
Good vertical orientation was obtained by using an alloy film such as P. Furthermore, the magnetic properties were improved by adding Re to CoNiMnP.

しかし、媒体特性は膜構造および膜組成と密接な関係
があり、多元合金膜の構造・組成を制御して良好な媒体
特性を得ることは容易ではない。このため合金系を単純
化することが研究された。まず、タルトロン酸がCoのc
軸垂直配向のために極めて有効な錯化剤であることが分
り、CoNiMnReP膜中にMnを用いることなく垂直配向させ
ることが可能となった(特開昭61-003316号公報)。し
かし、タルトロン酸は高価であるため、タルトロン酸を
用いないでグリコール酸およびリンゴ酸を含むことを特
徴とした無電解めっき浴によって、CoNiP垂直媒体膜が
得られている(第13回日本応用磁気学会学術講演概要
集、294頁、1989年11月24日)。
However, the medium characteristics are closely related to the film structure and the film composition, and it is not easy to control the structure and composition of the multi-component alloy film to obtain good medium characteristics. For this reason, simplification of the alloy system has been investigated. First, tartronic acid is c of Co
It has been found that it is an extremely effective complexing agent for axially vertical alignment, and it has become possible to achieve vertical alignment without using Mn in the CoNiMnReP film (Japanese Patent Laid-Open No. 61-003316). However, since tartronic acid is expensive, CoNiP perpendicular medium films have been obtained by an electroless plating bath characterized by containing glycolic acid and malic acid without using tartronic acid (13th Japan Applied Magnetics). Academic Conference Lectures, 294 pages, November 24, 1989).

一般に膜面に垂直な方向に磁化容易となる条件は、媒
体の異方性エネルギーをKu、膜固有の垂直異方性エネル
ギーをK⊥、形状異方性エネルギーを2πMs2(Msは飽
和磁化)としたとき、K⊥>2πMs2あるいは、Ku=K
⊥−2πMs2>0の関係があることである。(これは、
媒体の垂直異方性磁界Hkと反磁界の最大値4πMsとの間
にHk>4πMsの関係があるということと同様である。)
垂直記録媒体においては必ずしもこの条件を満たす必要
はないが、KuあるいはHkが大きな値をもつほど媒体特性
として好ましいといえる。高密度記録を得るためには、
通常少なくとも2.0kOe程度以上のHk値であることが好ま
しい。
Generally, the conditions that make the magnetization easy in the direction perpendicular to the film surface are: the anisotropy energy of the medium is Ku, the perpendicular anisotropy energy of the film is K⊥, and the shape anisotropy energy is 2πMs 2 (Ms is saturation magnetization). Then K⊥> 2πMs 2 or Ku = K
It means that there is a relation of ⊥-2πMs 2 > 0. (this is,
This is similar to the fact that there is a relationship of Hk> 4πMs between the perpendicular anisotropy magnetic field Hk of the medium and the maximum demagnetizing field value 4πMs. )
The perpendicular recording medium does not necessarily have to satisfy this condition, but it can be said that the larger the value of Ku or Hk, the better the medium characteristics. To obtain high density recording,
Usually, it is preferable that the Hk value is at least about 2.0 kOe.

一方、大きな再生出力を得るためにはMs値を大きくす
ることが望ましい。すなわちアイ・イー・イー・イート
ランザクション オン マグネチックス(IEEE Transac
tion on Magnetics)第Mag-18巻、第2号、第769〜771
頁によれば、Ms<(3/4π)Hc(⊥)(Hc(⊥)は媒体
の垂直方向の保磁力)の条件下において再生出力値はMs
に比例するとされている。また前記文献においてMs≧
(3/4π)Hc(⊥)の場合、再生出力はHc(⊥)に比例
するとされている。従って、再生出力を大きくするに
は、Hc(⊥)を大きくし、十分な垂直磁気異方性を有す
る範囲内でMsを大きくする必要がある。実際上は、使用
する磁気ヘッドの種類または記録条件によってHc(⊥)
の値が制限を受けるため、要求される記録密度および出
力に応じて適するHc(⊥)値を選択しうることが望まし
い。
On the other hand, in order to obtain a large reproduction output, it is desirable to increase the Ms value. In other words, IEE Transaction on Magnetics (IEEE Transac
tion on Magnetics) Volume Mag-18, No. 2, 769-771
According to the page, the reproduction output value is Ms under the condition of Ms <(3 / 4π) Hc (⊥) (Hc (⊥) is the coercive force in the perpendicular direction of the medium).
It is said to be proportional to. In the above literature, Ms ≧
In the case of (3 / 4π) Hc (⊥), the reproduction output is said to be proportional to Hc (⊥). Therefore, in order to increase the reproduction output, it is necessary to increase Hc (⊥) and increase Ms within a range having sufficient perpendicular magnetic anisotropy. In practice, Hc (⊥) depends on the type of magnetic head used or recording conditions.
Since the value of is limited, it is desirable to be able to select an appropriate Hc (⊥) value according to the required recording density and output.

(発明が解決しようとする課題) 前記の無電解CoNiPめっき浴を用いることにより、従
来のCoNiMnP、CoNiMnReP、CoNiRePなどの合金膜に比較
して単純化された合金系の垂直記録媒体が得られる。し
かし、多元合金膜で得られる特性を単純化された合金膜
で得るため、めっき反応の制御がより重要となる。この
ため浴系が複雑になり、より制御が難しいめっき浴とな
っていた。すなわち前記の無電解CoNiPめっき浴では、
錯化剤として少なくともグリコール酸およびリンゴ酸を
含むことを特徴としているが、めっき浴にグリコール酸
を使用した場合媒体特性を再現性良く得ることは容易で
はない。このためグリコール酸使用の必要がなく単純化
された無電解CoNiPめっき浴が要望されていた。
(Problems to be Solved by the Invention) By using the above electroless CoNiP plating bath, a simplified alloy-based perpendicular recording medium can be obtained as compared with conventional alloy films such as CoNiMnP, CoNiMnReP, and CoNiReP. However, since the characteristics obtained by the multi-component alloy film are obtained by the simplified alloy film, the control of the plating reaction becomes more important. For this reason, the bath system was complicated and the plating bath was more difficult to control. That is, in the above electroless CoNiP plating bath,
Although it is characterized by containing at least glycolic acid and malic acid as complexing agents, it is not easy to obtain medium characteristics with good reproducibility when glycolic acid is used in the plating bath. Therefore, there has been a demand for a simplified electroless CoNiP plating bath that does not require the use of glycolic acid.

本発明の目的は、従来の問題を改善して、垂直記録媒
体として優れた特性をもち、適切なHc(⊥)値を有する
CoNiP膜を再現性良く安定に作製できる無電解めっき浴
を提供することにある。
The object of the present invention is to improve the conventional problems, to have excellent characteristics as a perpendicular recording medium, and to have an appropriate Hc (⊥) value.
It is to provide an electroless plating bath capable of producing a CoNiP film with good reproducibility and stability.

(課題を解決するための手段) 本発明によるCoNiP垂直記録媒体の無電解めっき浴
は、金属イオンとしてコバルトイオン、ニッケルイオン
を含み、添加剤として少なくとも次亜リン酸または次亜
リン酸塩の1種以上よりなる前記金属イオンの還元剤を
含み、前記金属イオンの錯化剤として酒石酸基、マロン
酸基およびリンゴ酸基を含む無電解めっき浴であって、
リンゴ酸基の濃度が0.3〜1.0mol/lの範囲であることを
特徴としている。
(Means for Solving the Problems) The electroless plating bath of the CoNiP perpendicular recording medium according to the present invention contains cobalt ions and nickel ions as metal ions, and contains at least hypophosphorous acid or hypophosphite as an additive. An electroless plating bath containing a reducing agent for the metal ions of one or more species, which contains a tartaric acid group, a malonic acid group and a malic acid group as a complexing agent for the metal ions,
The malic acid group concentration is in the range of 0.3 to 1.0 mol / l.

本発明において用いられる無電解めっき浴の主要成分
としては、金属イオンとして少なくともコバルトイオン
およびニッケルイオンを含み、添加剤として少なくとも
前記金属イオンの還元剤を含む水溶液に、前記金属イオ
ンの錯化剤としてマロン酸基、酒石酸基およびリンゴ酸
基を含むが、本発明の目的、効果を損なわない範囲にお
いて、pH緩衝剤、光沢剤、平滑剤、励起剤、ピンホール
防止剤、界面活性剤等の添加剤が用いられることがあ
る。
The main components of the electroless plating bath used in the present invention include at least cobalt ions and nickel ions as metal ions, and an aqueous solution containing at least a reducing agent for the metal ions as an additive, as a complexing agent for the metal ions. Although it contains a malonic acid group, a tartaric acid group, and a malic acid group, the addition of a pH buffer, a brightening agent, a leveling agent, an stimulant, a pinhole inhibitor, a surfactant, etc. is included within the scope of the object and effect of the present invention Agents may be used.

コバルトイオン、ニッケルイオンは、コバルトまたは
ニッケルの硫酸塩、塩化塩、酢酸塩などの可溶性塩を無
電解めっき浴中に溶解することによって供給される。コ
バルトイオンの濃度は、0.0015〜1mol/lの範囲が用いら
れるが、好ましくは0.02〜0.15mol/lの範囲である。ニ
ッケルイオンの濃度は、0.01〜1mol/lの範囲が用いられ
るが、好ましくは0.03〜0.2mol/lの範囲である。
Cobalt ions and nickel ions are supplied by dissolving soluble salts such as cobalt or nickel sulfates, chlorides and acetates in an electroless plating bath. The cobalt ion concentration used is in the range of 0.0015 to 1 mol / l, preferably 0.02 to 0.15 mol / l. The concentration of nickel ions is in the range of 0.01 to 1 mol / l, preferably 0.03 to 0.2 mol / l.

還元剤としては、次亜リン酸または次亜リン酸塩の1
種以上が、0.01〜0.6mol/l、好ましくは0.07〜0.35mol/
lの範囲で用いられる。
As a reducing agent, hypophosphorous acid or hypophosphite 1
Seed or more, 0.01 ~ 0.6 mol / l, preferably 0.07 ~ 0.35 mol /
Used in the l range.

錯化剤としては、マロン酸やマロン酸ナトリウム、マ
ロン酸エチル、マロン酸メチルなどのマロン酸基および
酒石酸や酒石酸ナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石
酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウムカリウム、
酒石酸ジエチルなどの酒石酸基およびリンゴ酸やリンゴ
酸ナトリウム、リンゴ酸カリウム、リンゴ酸エチルなど
のリンゴ酸基が使用される。マロン酸基は、マロン酸ま
たはマロン酸の可溶性塩が0.05〜1.7mol/lの範囲で用い
られるが、0.2〜0.9mol/lの範囲が好ましい。酒石酸基
は、酒石酸または酒石酸の可溶性塩が0.01〜1.2の範囲
で用いられるが、0.05〜0.6mol/lの範囲が好ましい。リ
ンゴ酸基は、リンゴ酸またはリンゴ酸の可溶性塩が0.3
〜1mol/lの範囲で用いられる。グリコール酸を使用する
ことなくCoNiP垂直記録媒体を得るためには、特にこの
濃度範囲のリンゴ酸基を用いて、マロン酸基および酒石
酸基と併用する必要がある。
As a complexing agent, malonic acid or sodium malonate, malonic acid groups such as ethyl malonate, methyl malonate and tartaric acid or sodium tartrate, ammonium tartrate, potassium sodium tartrate, potassium ammonium tartrate,
Tartaric acid groups such as diethyl tartrate and malic acid groups such as malic acid, sodium malate, potassium malate and ethyl malate are used. As the malonic acid group, malonic acid or a soluble salt of malonic acid is used in the range of 0.05 to 1.7 mol / l, preferably 0.2 to 0.9 mol / l. As the tartaric acid group, tartaric acid or a soluble salt of tartaric acid is used in the range of 0.01 to 1.2, preferably 0.05 to 0.6 mol / l. The malic acid group contains 0.3% of malic acid or a soluble salt of malic acid.
Used in the range of ~ 1 mol / l. In order to obtain a CoNiP perpendicular recording medium without using glycolic acid, it is necessary to use malic acid groups in this concentration range in combination with malonic acid groups and tartaric acid groups.

pH緩衝剤としてはアンモニウム塩、炭酸塩、有機酸塩
などが使用され、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウ
ム、ホウ酸等を用いることが好ましい。濃度範囲は0.01
〜3mol/l、好ましくは0.03〜1mol/lが用いられる。
Ammonium salts, carbonates, organic acid salts and the like are used as the pH buffering agent, and ammonium sulfate, ammonium chloride, boric acid and the like are preferably used. Concentration range is 0.01
~ 3 mol / l, preferably 0.03 to 1 mol / l is used.

pH調節剤としては、アンモニアまたは苛性アルカリと
してNaOH,LiOH,KOH,RbOH,CsOH,FrOH,Be(OH)2,Mg(OH)2,C
a(OH)2,Sr(OH)2,Ba(OH)2,Ra(OH)2等の金属の水酸化物
が、1種または2種以上を組み合わせて用いられる。ま
たアンモニアと苛性アルカリを併用することも行われ
る。
As a pH adjuster, ammonia or caustic as NaOH, LiOH, KOH, RbOH, CsOH, FrOH, Be (OH) 2 , Mg (OH) 2 , C
Metal hydroxides such as a (OH) 2 , Sr (OH) 2 , Ba (OH) 2 and Ra (OH) 2 are used alone or in combination of two or more. It is also possible to use ammonia and caustic together.

通常、pH調節剤を加えない建浴前のめっき液はほぼ中
性ないし酸性域にあり、前記水酸化物を加えてアルカリ
性にpH調節される。所要のpHを上回った場合、pH降下に
は塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の酸が用いられる。pH範囲
は7.5〜12.5、好ましくは8.0〜11.0の間で用いられる。
Usually, the plating solution before adding a bath without adding a pH adjuster is in a neutral or acidic range, and the pH is adjusted to alkaline by adding the hydroxide. Acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and acetic acid are used to lower the pH when the pH exceeds the required level. The pH range used is between 7.5 and 12.5, preferably between 8.0 and 11.0.

(作用) CoNiP垂直記録媒体を作製するためのめっき浴とし
て、無電解CoNiMnRePめっき浴よりも浴系の単純化され
た無電解CoNiRePめっき浴のほうが好ましい。Mnを使用
することなく、hcpCo(六方晶)のc軸を基板に垂直配
向させ、垂直記録媒体として優れた特性を得るため従来
はタルトロン酸という特殊な錯化剤が使用されていた。
これは、タルトロン酸がCoのc軸垂直配向のための好ま
しい錯体状態を維持する上で重要な役割を果たしていた
と考えられている。そこで適切な錯化剤の組合せによっ
ては、MnのほかにReを使用することも必要なくなるので
はないかと考えられた。しかし、錯化剤と析出合金膜の
配向性の関係が明らかとなっていないため、本発明に至
るまでに、実験的に広範囲に鋭意検討した結果、各種の
錯化剤の中でマロン酸基、酒石酸基およびリンゴ酸基の
組合せがこの目的に適用できることを見出した。特にリ
ンゴ酸基の濃度範囲が重要であり、0.3〜1mol/lとする
必要がある。現在のところ錯化剤と膜構造・磁気特性と
の関係が理論的に解明されていないため、重要な錯化剤
であるリンゴ酸基の作用を十分説明するに至らない。し
かし、発明者等が好適浴を発見した後に結果から考察し
てみると、リンゴ酸CH2CH(OH)(COOH)2は、磁性膜のCo結
晶を垂直配向させる作用のあるタルトロン酸CH(OH)(COO
H)2にCH2が増えたもので構造が近い。また、いずれもOH
基とCOOH基をともに有するカルボン酸である。このよう
な錯化剤の構造的な特質が本作用に起因しているのでは
ないかと推察される。
(Function) As a plating bath for producing a CoNiP perpendicular recording medium, a simplified electroless CoNiReP plating bath having a bath system is preferable to an electroless CoNiMnReP plating bath. Conventionally, a special complexing agent called tartronic acid has been used in order to orient the c-axis of hcpCo (hexagonal crystal) vertically to the substrate without using Mn and obtain excellent characteristics as a perpendicular recording medium.
It is believed that this is because tartronic acid played an important role in maintaining a favorable complex state for the c-axis vertical orientation of Co. Therefore, it was thought that it would not be necessary to use Re in addition to Mn depending on the combination of appropriate complexing agents. However, since the relationship between the complexing agent and the orientation of the deposited alloy film has not been clarified, the results of extensive and extensive experimental studies up to the present invention showed that malonic acid groups , A combination of tartaric acid groups and malic acid groups was found to be applicable for this purpose. The concentration range of malic acid group is particularly important, and it is necessary to set it to 0.3 to 1 mol / l. At present, the relationship between the complexing agent and the film structure / magnetic properties has not been theoretically elucidated, so that the action of the malic acid group, which is an important complexing agent, cannot be fully explained. However, considering the results after the inventors discovered a suitable bath, malic acid CH 2 CH (OH) (COOH) 2 was found to be tartronic acid CH (which has the action of vertically aligning the Co crystals of the magnetic film. OH) (COO
H) close structural in which CH 2 was increased to 2. Also, both are OH
It is a carboxylic acid having both a group and a COOH group. It is speculated that such structural characteristics of the complexing agent may be due to this action.

本発明は、このような知見を得たことによりもたらさ
れたものである。
The present invention has been made by obtaining such knowledge.

(実施例) 次に具体的に実施例および比較例により本発明を説明
する。
(Example) Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例1 アルミ合金基板上に非磁性Ni-P層をめっきし、表面を
鏡面研磨した後、その上に下記のめっき浴を用いて膜厚
0.06〜1.0μmのCoNiP合金磁性膜を形成した。
Example 1 A non-magnetic Ni-P layer was plated on an aluminum alloy substrate, the surface was mirror-polished, and then the following plating bath was used to form a film thickness.
A CoNiP alloy magnetic film of 0.06 to 1.0 μm was formed.

めっき浴(1) 浴組成 硫酸コバルト 0.065mol/l 硫酸ニッケル 0.17 mol/l 次亜リン酸ナトリウム 0.25 mol/l 硫酸アンモニウム 0.5 mol/l 酒石酸ナトリウム 0.2 mol/l マロン酸ナトリウム 0.7 mol/l リンゴ酸ナトリウム 0.7 mol/l めっき条件 浴温80℃ めっき浴のpH9.5(室温にてアンモニア水でpH調節) こうして得られた磁性膜の磁気特性を振動試料型磁力
計および磁気トルク計を用いて測定した。この磁性膜の
MHループは、垂直ループが面内ループを囲んだ垂直磁気
異方性膜特有の形状であった。Hkは6.1kOe、飽和磁化Ms
は610emu/ccの大きな値を有していた。磁気異方性エネ
ルギー測定より得られたトルク曲線は、全て明瞭な一軸
異方性を示し正の異方性エネルギーKu値を有していた
(例えば膜厚0.25μmにおいて6.5×104erg/cc)。
Plating bath (1) Bath composition Cobalt sulfate 0.065 mol / l Nickel sulfate 0.17 mol / l Sodium hypophosphite 0.25 mol / l Ammonium sulfate 0.5 mol / l Sodium tartrate 0.2 mol / l Sodium malonate 0.7 mol / l Sodium malate 0.7 mol / l Plating condition Bath temperature 80 ° C pH 9.5 of plating bath (pH adjusted with ammonia water at room temperature) The magnetic properties of the magnetic film thus obtained were measured using a vibrating sample magnetometer and a magnetic torque meter. Of this magnetic film
The MH loop had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropic film in which the vertical loop surrounded the in-plane loop. Hk is 6.1 kOe, saturation magnetization Ms
Had a large value of 610 emu / cc. The torque curves obtained by the magnetic anisotropy energy measurement all showed clear uniaxial anisotropy and had a positive anisotropy energy Ku value (for example, 6.5 × 10 4 erg / cc at a film thickness of 0.25 μm). ).

次に、このような特性を示す原因と考えられる磁性膜
の構造について、X線回析および電子線回析より検討し
た。X線回析では、hcpCo(六方晶)のc軸が基板面に
垂直配向していることを示す(002)面からの回析によ
る鋭いピークのみが認められ、他の格子面からの回析に
相当するピークは認められなかった。また、電子線回析
結果からもc軸が基板面に垂直配向したhcpCo構造から
構成されており、膜厚0.06μmという薄膜時より高い配
向性を示していることが明らかとなった。
Next, the structure of the magnetic film, which is considered to be the cause of exhibiting such characteristics, was examined by X-ray diffraction and electron beam diffraction. In X-ray diffraction, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane, which indicates that the c-axis of hcpCo (hexagonal) is oriented perpendicular to the substrate surface, were observed, and diffraction from other lattice planes was observed. No peak corresponding to was observed. The electron diffraction results also revealed that the c-axis is composed of a hcpCo structure oriented vertically to the substrate surface and exhibits a higher orientation than the thin film having a film thickness of 0.06 μm.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は垂直磁気異方性
を示し、垂直記録媒体として好ましい特性を有すること
が明らかとなった。
That is, it was clarified that the magnetic film obtained in this example exhibits perpendicular magnetic anisotropy and has preferable characteristics as a perpendicular recording medium.

実施例2 実施例1と同様の手順で磁性膜の作製を行なったが、
本実施例ではめっき浴(1)においてリンゴ酸ナトリウ
ムの濃度を0〜1.1mol/lの範囲で変化させてCoNiP合金
磁性膜を形成した。
Example 2 A magnetic film was prepared by the same procedure as in Example 1, but
In this example, the concentration of sodium malate in the plating bath (1) was changed in the range of 0 to 1.1 mol / l to form a CoNiP alloy magnetic film.

こうして得られた磁性膜の磁気特性(異方性磁界Hk、
保磁力Hc(⊥))を測定した結果を第1図に示す。
Magnetic properties of the magnetic film thus obtained (anisotropic magnetic field Hk,
The results of measuring the coercive force Hc (⊥)) are shown in Fig. 1.

リンゴ酸ナトリウム濃度が0mol/lの場合、Hkは0.55kO
eであり、磁性膜のMHループ、トルク測定からも面内に
磁化容易な膜であった。リンゴ酸ナトリウムを0.3mol/l
添加すると、Hkは3.8kOeとなり、磁性膜のMHループ、ト
ルク測定からも垂直磁化容易な膜へ変化する傾向が認め
られた。リンゴ酸ナトリウム濃度の増加とともにHkはさ
らに増加し垂直磁化膜へと進む。リンゴ酸ナトリウム濃
度が0.6mol/lでHkが最大値6.25kOeに達する。それ以上
の濃度ではHkが減少し、1.0mol/lで3.6kOeとなる。ま
た、本発明のめっき浴では垂直磁気異方性が増加しても
Msが急減することがなく、550〜630emu/ccの大きな値を
維持していた。Hc(⊥)については、Hkが3.5kOe以上の
膜において、約860〜1750Oeのかなり広い範囲で変化さ
せることができた。リンゴ酸ナトリウム濃度が0.3〜1.0
mol/lの範囲において、得られる磁性膜のMHループは、
垂直ループが面内ループを囲んだ垂直磁気異方性膜特有
の形状であった。これらの磁性膜のX線回析では、(00
2)面からの回析による鋭いピークのみが認められ、他
の格子面からの回析に相当するピークは認められなかっ
た。また、電子線回析結果からもc軸が基板面に垂直配
向したhcpCo構造から構成されており、高い結晶性と配
向性を示していることが明らかとなった。
When the sodium malate concentration is 0 mol / l, Hk is 0.55 kO
It was e, and the MH loop of the magnetic film and the film could be easily magnetized in-plane according to the torque measurement. 0.3 mol / l sodium malate
When added, Hk became 3.8 kOe, and it was confirmed that MH loop of the magnetic film and the tendency to change to a film in which perpendicular magnetization was easy were observed by torque measurement. Hk further increases with increasing sodium malate concentration and progresses to the perpendicular magnetization film. Hk reaches a maximum value of 6.25 kOe at a sodium malate concentration of 0.6 mol / l. At higher concentrations, Hk decreases to 1.0 mol / l, which is 3.6 kOe. Further, in the plating bath of the present invention, even if the perpendicular magnetic anisotropy is increased,
Ms did not decrease sharply and maintained a large value of 550 to 630 emu / cc. Hc (⊥) could be changed in a wide range of about 860 to 1750 Oe in the film with Hk of 3.5 kOe or more. Sodium malate concentration is 0.3-1.0
In the mol / l range, the MH loop of the obtained magnetic film is
The vertical loop had a shape unique to the perpendicular magnetic anisotropy film surrounding the in-plane loop. In X-ray diffraction of these magnetic films, (00
2) Only sharp peaks due to diffraction from the plane were observed, and no peaks corresponding to diffraction from other lattice planes were observed. The electron diffraction results also revealed that the c-axis was composed of the hcpCo structure oriented perpendicularly to the substrate surface and exhibited high crystallinity and orientation.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は、垂直磁気異方
性を示し、垂直記録媒体として好ましい諸特性を有する
ことが明らかとなった。
That is, it was revealed that the magnetic film obtained in this example exhibits perpendicular magnetic anisotropy and has various characteristics preferable as a perpendicular recording medium.

実施例3 実施例1と同様の手順で磁性膜の作製を行なったが、
本実施例では下記のめっき浴を用いてCoNiP合金磁性膜
を形成した。
Example 3 A magnetic film was prepared in the same procedure as in Example 1, but
In this example, a CoNiP alloy magnetic film was formed using the following plating bath.

めっき浴(2) 塩化コバルト 0.05 mol/l 塩化ニッケル 0.15 mol/l 次亜リン酸ナトリウム 0.16 mol/l 塩化アンモニウム 0.35 mol/l 酒石酸ナトリウム 0.35 mol/l マロン酸ナトリウム 0.8 mol/l リンゴ酸ナトリウム 0〜1.3 mol/l めっき条件 浴温83℃ めっき浴のpH9.3(室温にてアンモニア水でpH調節) こうして得られた磁性膜の磁気特性(異方性磁界Hk、
保磁力Hc(⊥))を測定した結果を第2図に示す。
Plating bath (2) Cobalt chloride 0.05 mol / l Nickel chloride 0.15 mol / l Sodium hypophosphite 0.16 mol / l Ammonium chloride 0.35 mol / l Sodium tartrate 0.35 mol / l Sodium malonate 0.8 mol / l Sodium malate 0 1.3 mol / l Plating conditions Bath temperature 83 ℃ pH of plating bath 9.3 (pH adjustment with ammonia water at room temperature) Magnetic properties of the magnetic film thus obtained (anisotropic magnetic field Hk,
The results of measuring the coercive force Hc (⊥)) are shown in Fig. 2.

リンゴ酸ナトリウム濃度が0mol/lの場合、Hkは0.6kOe
であり、磁性膜のMHループ、トルク測定からも面内に磁
化容易な膜であった。リンゴ酸ナトリウムを0.3mol/l添
加すると、Hkは2.2kOeとなり、磁性膜のMHループ、トル
ク測定からも垂直磁化容易な膜へ変化する傾向が認めら
れた。リンゴ酸ナトリウム濃度の増加とともにHkはさら
に増加し垂直磁化膜へ進む。リンゴ酸ナトリウム濃度が
0.7mol/lでHkが最大値5.55kOeに達する。それ以上の濃
度ではHkが減少し、1.0mol/lで2.0kOeとなる。また、本
発明のめっき浴では垂直磁気異方性が増加してもMsが急
減することがなく、500〜600emu/ccの大きな値を維持し
ていた。Hc(⊥)については、Hkが2.0kOe以上の膜にお
いて、約500〜1500Oeのかなり広い範囲で変化させるこ
とができた。リンゴ酸ナトリウム濃度が0.4〜0.9mol/l
の範囲において、得られる磁性膜のMHループは、垂直ル
ープが面内ループを囲んだ垂直磁気異方性膜特有の形状
であった。これらの磁性膜のX線回析では、(002)面
からの回析による鋭いピークのみが認められ、他の格子
面からの回析に相当するピークは認められなかった。ま
た、電子線回析結果からもc軸が基板面に垂直配向した
hcpCo構造から構成されており、高い結晶性と配向性を
示していることが明らかとなった。
When sodium malate concentration is 0 mol / l, Hk is 0.6 kOe
Therefore, the MH loop of the magnetic film and the film could be easily magnetized in-plane according to the torque measurement. When 0.3 mol / l of sodium malate was added, Hk became 2.2 kOe, and it was confirmed that the MH loop of the magnetic film and the tendency to change to a film with easy perpendicular magnetization were obtained by torque measurement. As the sodium malate concentration increases, Hk further increases and advances to the perpendicular magnetization film. Sodium malate concentration
Hk reaches a maximum of 5.55 kOe at 0.7 mol / l. At higher concentrations, Hk decreases to 2.0 kOe at 1.0 mol / l. Further, in the plating bath of the present invention, Ms did not decrease sharply even if the perpendicular magnetic anisotropy increased, and a large value of 500 to 600 emu / cc was maintained. Hc (⊥) could be changed in a fairly wide range of about 500 to 1500 Oe in the film with Hk of 2.0 kOe or more. Sodium malate concentration is 0.4 ~ 0.9mol / l
In the range, the MH loop of the obtained magnetic film had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropy film in which the perpendicular loop surrounded the in-plane loop. In X-ray diffraction of these magnetic films, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane were observed, and peaks corresponding to diffraction from other lattice planes were not observed. Also, from the electron diffraction result, the c-axis was vertically aligned with the substrate surface.
It was revealed that it is composed of hcpCo structure and exhibits high crystallinity and orientation.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は、垂直磁気異方
性を示し、垂直記録媒体として好ましい諸特性を有する
ことが明らかとなった。
That is, it was revealed that the magnetic film obtained in this example exhibits perpendicular magnetic anisotropy and has various characteristics preferable as a perpendicular recording medium.

また、以上の実施例で用いた無電解めっき浴は、従来
のグリコール酸基を錯化剤に使用した無電解めっき浴に
比較して浴管理が容易で著しく安定性に優れ、垂直記録
媒体として優れた特性を有する磁性膜を再現性良く作製
することができた。同一容量のめっき浴から多数の媒体
を作製する場合、めっき当初に得られる2.0kOe以上の異
方性磁界Hk値が2.0kOe以下の値になるまでのめっき処理
量を浴寿命とすると、本発明による無電解めっき浴の浴
寿命は従来のグリコール酸基を使用した無電解めっき浴
に比較して5倍以上に増加していた。
In addition, the electroless plating bath used in the above examples is easy to manage and is extremely excellent in stability as compared with the conventional electroless plating bath using a glycolic acid group as a complexing agent, and as a perpendicular recording medium. A magnetic film having excellent characteristics could be produced with good reproducibility. When a large number of media are produced from plating baths of the same capacity, the plating treatment amount until the anisotropic magnetic field Hk value of 2.0 kOe or more obtained at the beginning of plating becomes a value of 2.0 kOe or less is the bath life. The bath life of the electroless plating bath was increased by 5 times or more as compared with the conventional electroless plating bath using a glycolic acid group.

(発明の効果) 以上、実施例で示されたように、本発明によれば、Co
NiP磁性膜を作製する無電解めっき浴において、金属イ
オンとして少なくともコバルトイオンおよびニッケルイ
オンを含み、添加剤として少なくとも次亜リン酸または
次亜リン酸塩の1種以上よりなる前記金属イオンの還元
剤を含み、前記金属イオンの錯化剤として酒石酸基、マ
ロン酸基およびリンゴ酸基を含み、そのリンゴ酸基の濃
度を0.3〜1.0mol/lの範囲で変化することにより、めっ
き浴の維持管理が容易となり、大きなHk値を維持してHc
(⊥)値を広い範囲で変化させることができ、垂直記録
媒体として優れた特性を有する磁性膜を安定に多数作製
することができる。
(Effects of the Invention) As described above in the embodiments, according to the present invention, Co
In an electroless plating bath for producing a NiP magnetic film, a reducing agent for the metal ion containing at least cobalt ion and nickel ion as metal ions and at least one kind of hypophosphorous acid or hypophosphite as an additive. Containing a tartaric acid group, a malonic acid group and a malic acid group as a complexing agent of the metal ion, and changing the concentration of the malic acid group in the range of 0.3 to 1.0 mol / l, thereby maintaining and controlling the plating bath. It becomes easier to maintain a large Hk value and Hc
The value of (⊥) can be changed in a wide range, and a large number of magnetic films having excellent characteristics as a perpendicular recording medium can be stably manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、実施例2において得られる本発明の無電解め
っき浴のリンゴ酸ナトリウム濃度と得られるCoNiP磁性
膜のHkおよびHc(⊥)の関係を示す図であり、第2図
は、実施例3における同様の図である。
1 is a diagram showing the relationship between the sodium malate concentration of the electroless plating bath of the present invention obtained in Example 2 and Hk and Hc (⊥) of the obtained CoNiP magnetic film, and FIG. FIG. 7 is a similar view in Example 3.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−58270(JP,A) 特開 昭61−15985(JP,A) 特開 昭61−231176(JP,A) 特開 昭63−83281(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) Reference JP-A-58-58270 (JP, A) JP-A-61-15985 (JP, A) JP-A-61-231176 (JP, A) JP-A-63- 83281 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属イオンとしてコバルトイオン、ニッケ
ルイオンを含み、添加剤として少なくとも次亜リン酸ま
たは次亜リン酸塩の1種以上よりなる前記金属イオンの
還元剤を含み、前記金属イオンの錯化剤として酒石酸
基、マロン酸基およびリンゴ酸基を含む無電解めっき浴
であって、リンゴ酸基の濃度が0.3〜1.0mol/lの範囲で
あることを特徴とするCoNiP垂直記録媒体の無電解めっ
き浴。
1. A metal ion containing cobalt ion, nickel ion, an additive containing at least one or more hypophosphorous acid or hypophosphite reducing agent for the metal ion, and a complex of the metal ion. An electroless plating bath containing a tartaric acid group, a malonic acid group and a malic acid group as an agent, wherein the concentration of the malic acid group is in the range of 0.3 to 1.0 mol / l. Electrolytic plating bath.
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JPS6115985A (en) * 1984-06-29 1986-01-24 Mitsubishi Chem Ind Ltd Electroless plating bath
JPS61231176A (en) * 1985-04-02 1986-10-15 Nec Corp Electroless plating method
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