JPH0735578B2 - Strip meandering control device for continuous dry plating device - Google Patents
Strip meandering control device for continuous dry plating deviceInfo
- Publication number
- JPH0735578B2 JPH0735578B2 JP16470286A JP16470286A JPH0735578B2 JP H0735578 B2 JPH0735578 B2 JP H0735578B2 JP 16470286 A JP16470286 A JP 16470286A JP 16470286 A JP16470286 A JP 16470286A JP H0735578 B2 JPH0735578 B2 JP H0735578B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip
- dry plating
- control device
- meandering
- meandering control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、連続ドライプレーティング装置におけるス
トリップの蛇行制御装置に関し、とくに高温、高真空下
の処理槽内を高速通行中の金属ストリップについて、そ
の蛇行の兆候を早期に検出して、迅速かつ適切に対処す
ることにより、連続プレーティング処理が阻害されるほ
どの蛇行に進展するのを効果的に防止しようとするもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a strip meandering control device in a continuous dry plating apparatus, and more particularly to a metal strip that is passing at high speed in a processing tank under high temperature and high vacuum. By detecting the sign of meandering at an early stage and promptly and appropriately dealing with the sign, it is possible to effectively prevent the progress of meandering to the extent that the continuous plating process is hindered.
(従来の技術) 最近、真空蒸着や、スパッタリング、イオンプレーティ
ングさらには化学的気相蒸着(CVD)などのドライプレ
ーティング技術が各分野で使用されている。(Prior Art) Recently, dry plating techniques such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, and chemical vapor deposition (CVD) have been used in various fields.
たとえば鉄鋼分野においては、金属ストリップの表面特
性たとえば耐食性、耐摩耗性および表面硬さなどの改良
を目的として、TiNやTiCなどのセラミックスの被覆処理
が行われている。For example, in the field of steel, coating treatment of ceramics such as TiN and TiC is performed for the purpose of improving the surface properties of metal strips such as corrosion resistance, wear resistance and surface hardness.
しかしならがこのような金属ストリップに対するドライ
プレーティング処理を、連続的にしかも工業的規模で実
施するには、解決すべき種々の問題が残されていて、そ
の一つにストリップの蛇行がある。However, in order to carry out such a dry plating treatment on a metal strip continuously and on an industrial scale, various problems remain to be solved, one of which is the meandering of the strip.
すなわち比較的広幅のストリップを連続的にしかも大量
に処理するためには、ラインスピードを高める必要があ
るが、ラインスピードを上げると処理槽内のストリップ
長が長くなることもあって、ストリップは蛇行し易くな
る。ストリップの蛇行が生じると、蒸着膜の形成に悪影
響を与えるだけでなく、甚だしい場合にはストリップの
破断に至る。That is, in order to process a relatively wide strip continuously and in a large amount, it is necessary to increase the line speed. However, increasing the line speed may increase the length of the strip in the processing tank, causing the strip to meander. Easier to do. When the strip meanders, it not only adversely affects the formation of the vapor-deposited film, but also causes the strip to be broken in extreme cases.
一旦破断すると、処理槽内は高真空に保持されているこ
ともあって、その復旧作業には長時間を要し、生産能率
の低下を招く。Once ruptured, the processing tank may be held in a high vacuum, so that the recovery work requires a long time, resulting in a reduction in production efficiency.
従って処理槽内におけるストリップの蛇行は極力防止す
る必要があり、かかる蛇行修正装置としてはステアリン
グ装置がある。この装置は、ストリップが巻掛けられた
ロールを傾動させることによってストリップの位置を修
正をするものである。Therefore, it is necessary to prevent the meandering of the strip in the processing tank as much as possible, and there is a steering device as such a meandering correcting device. This device corrects the position of the strip by tilting a roll around which the strip is wound.
ここにかかるステアリング装置を適切に作動させるため
には、通常、ストリップの位置を正確に把握しておくこ
とが肝要である。In order to properly operate the steering device, it is usually important to know the position of the strip accurately.
このようなストリップの位置検出装置としては、第6図
に示したような、不活性ガス(たとえばN2)の噴射圧力
を利用した装置がある。同図において記号イは噴射ノズ
ル、ロは受圧ノズル、ハは圧力発信機、ニはシリンダ
ー、ホは位置発信器である。As such a strip position detecting device, there is a device utilizing the injection pressure of an inert gas (for example, N 2 ) as shown in FIG. In the figure, symbol a is an injection nozzle, b is a pressure receiving nozzle, c is a pressure transmitter, d is a cylinder, and e is a position transmitter.
上記の装置において、噴射ノズルイから噴射されたガス
がストリップSで遮られれば受圧ノズルロにおける受圧
はほぼ0であり、一方ストリップSが両ノズルイ,ロ間
のすき間に存在しない場合には噴射ガス圧をそのまま受
けとることになる。そこで受圧が0の場合にはシリンダ
ーニによってノズル対を壁側に移動させ、一方受圧があ
る場合にはノズル対を内側に移動させることによってス
トリップSのエッジ部に追従させ、この追従位置を位置
発信器ホで検出することによって、ストリップの位置を
把握すのである。In the above apparatus, if the gas injected from the injection nozzle i is blocked by the strip S, the pressure receiving at the pressure receiving nozzle b is almost 0, while if the strip S is not present in the gap between the nozzles i and b, the injection gas pressure is reduced. You will receive it as it is. Therefore, when the pressure is 0, the cylinder pair moves the nozzle pair to the wall side, and when there is pressure, the nozzle pair is moved inward so as to follow the edge portion of the strip S. The position of the strip is grasped by detecting it with the transmitter E.
その他、光学的手段によってストリップの位置を検出す
る方法もある。これはストリップの両エッジ部にそれぞ
れ、該ストリップを挟んで投光器と受光器とを設け、両
エッジ部における光量差によってストリップの位置を検
出するものである。In addition, there is a method of detecting the position of the strip by optical means. This is to provide a light emitter and a light receiver on both edge portions of the strip with the strip sandwiched therebetween, and detect the position of the strip by the light amount difference at both edge portions.
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら前者のガス噴射圧力を利用する方法では、
処理槽の真空度の低下を招くので蒸着に悪影響を及ぼ
し、他方後者の光学的方法では、装置内が高温であるこ
との他、蒸着物質の蒸気(ストレイペーパー)が投光器
や受光器に付着して感度の低下を招くので、そのメンテ
ナンスの維持が難しく、いずれにしても的確にストリッ
プの蛇行を防止することはできなかったのである。(Problems to be Solved by the Invention) However, in the former method using gas injection pressure,
Since the vacuum degree of the processing tank is lowered, the vapor deposition is adversely affected. On the other hand, in the latter optical method, in addition to the high temperature inside the apparatus, vapor of the vapor deposition material (stray paper) adheres to the projector and the light receiver. Therefore, it is difficult to maintain the maintenance because it causes a decrease in sensitivity, and in any case, it was not possible to accurately prevent the strip from meandering.
この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、高温
(400℃以上)、高真空(1×10-5torr以下)に保持さ
れたドライプレーティング処理槽を高速走行中(100mpm
以上)のストリップについてもその位置を正確に検出
し、ひいては蛇行の発生を効果的に防止することができ
るストリップの蛇行制御装置を提案することを目的とす
る。The present invention advantageously solves the above-mentioned problems and is capable of running at a high speed (100 mpm) in a dry plating treatment tank maintained at a high temperature (400 ° C. or higher) and a high vacuum (1 × 10 -5 torr or less).
It is an object of the present invention to propose a strip meandering control device capable of accurately detecting the position of the above strips and effectively preventing the occurrence of meandering.
(問題点を解決するための手段) すなわちこの発明は、高真空に保持したドライプレーテ
ィング処理槽内に導入したストリップを、該処理槽内に
配置したステアリングロールを含む通板用ロール群を介
して迂曲通板させる間に連続してドライプレーティング
を施す装置において、ストリップのステアリングロール
の出側に該ストリップのエッジを検出するセンサーを配
置すると共に、該センサーの検出信号に基づいて該ステ
アリングロールを傾動させる駆動手段をそなえて成る、
連続ドライプレーティング装置におけるストリップの蛇
行制御装置である。(Means for Solving Problems) That is, according to the present invention, a strip introduced into a dry plating treatment tank held in a high vacuum is passed through a group of rolls for sheet passing including a steering roll arranged in the treatment tank. In a device for continuously performing dry plating while passing a detour plate, a sensor for detecting the edge of the strip is arranged on the output side of the steering roll of the strip, and the steering roll is tilted based on the detection signal of the sensor. Drive means for
It is a strip meandering control device in a continuous dry plating device.
(実施例) 第1図に、この発明に従うストリップの蛇行制御装置の
好適例を組み込んだ連続ドライプレーティング装置の全
体を模式で示す。(Embodiment) FIG. 1 schematically shows an entire continuous dry plating apparatus incorporating a preferred example of the strip meandering control apparatus according to the present invention.
図中番号1はベイオフリール、2a,2b,2c,2dはいずれも
ディフレクターロール、3a,3bはそれぞれ入側および出
側の差圧室、4a,4bは予熱室、5a,5bはそれぞれストリッ
プSの表面および裏面にドライプレーティング処理を施
すための真空蒸着室、6はステアリングロール、そして
7がストリップSの蛇行検出部であり、予熱室4aから同
4bまでの間で高真空処理槽を形成する。また8は冷却
室、9はテンションリールである。In the figure, number 1 is a bay-off reel, 2a, 2b, 2c and 2d are deflector rolls, 3a and 3b are inlet and outlet differential pressure chambers, 4a and 4b are preheating chambers and 5a and 5b are strips. A vacuum deposition chamber for performing dry plating on the front and back surfaces of S, 6 is a steering roll, and 7 is a meandering detector of the strip S, which is the same as the preheating chamber 4a.
A high-vacuum processing tank is formed up to 4b. Further, 8 is a cooling chamber, and 9 is a tension reel.
そしてペイオフリール1で巻戻されたストリップSは、
差圧室3aを経て真空蒸着室5aおよび5bに順次に導かれ、
かかる真空蒸着室5a,5bを通過する間にストリップSの
表裏面にそれぞれドライプレーティング処理が施され、
しかるのち差圧室3b、冷却室8を経てテンションリール
9によって巻取られることになる。The strip S rewound by the payoff reel 1 is
It is sequentially guided to the vacuum deposition chambers 5a and 5b via the differential pressure chamber 3a,
While passing through the vacuum vapor deposition chambers 5a and 5b, the front and back surfaces of the strip S are dry-plated,
Then, it is wound by the tension reel 9 through the differential pressure chamber 3b and the cooling chamber 8.
さて蛇行検出器としては、第2図に示したような光学的
検出装置が有利に適合する。同図に示したところにおい
て、10a,10bはそれぞれ強化ガラスなどの透明物質から
なる透明壁であり、少なくとも蛇行検出部7においてス
トリップSの表裏面に対向する壁面については上記の如
き透明壁10a,10bとする必要がある。また11は投光器、1
2は受光器であり、とくに受光器12はストリップSの両
エッジ部に対向する配置とすることが肝要である。さら
に13a,13bおよび14a,14bはそれぞれ蛇行検出部7の入側
および出側に設けた差圧室である。As the meandering detector, an optical detecting device as shown in FIG. 2 is advantageously suitable. In the figure, 10a and 10b are transparent walls made of a transparent material such as tempered glass, and at least the wall facing the front and back surfaces of the strip S in the meandering detection unit 7 has the above-mentioned transparent walls 10a and 10b. Must be 10b. 11 is a floodlight, 1
Reference numeral 2 is a light receiver, and it is particularly important that the light receiver 12 is arranged so as to face both edge portions of the strip S. Further, 13a, 13b and 14a, 14b are differential pressure chambers provided on the inlet side and the outlet side of the meandering detector 7, respectively.
このようにストリップSの蛇行検出部7の壁面の一部を
透明壁10a,10bとしたので、通常の光学的手段によっ
て、真空度に悪影響を及ぼすことなしにストリップエッ
ジの的確な検出が実現されることになる。As described above, since a part of the wall surface of the meandering detection portion 7 of the strip S is the transparent walls 10a and 10b, the normal detection of the strip edge can be realized by the ordinary optical means without adversely affecting the vacuum degree. Will be.
なお、真空蒸着室5a,5bにおける蒸着効率が悪い場合に
は、ストレイベーパーが検出部7に侵入し、透明壁の内
面に付着して光学的検出手段に支障が生じることが懸念
されるが、この発明では検出部7の入、出側にそれぞれ
かかるストレイベーパーを排出するための差圧室13,14
を設けているので、かかるおそれもない。When the vapor deposition efficiency in the vacuum vapor deposition chambers 5a and 5b is poor, there is a concern that the stray vapor may enter the detection unit 7 and adhere to the inner surface of the transparent wall, which may interfere with the optical detection means. In the present invention, the differential pressure chambers 13 and 14 for discharging the stray vapor on the inlet side and the outlet side of the detection unit 7, respectively.
Since it is provided, there is no risk of this happening.
次に第3図に、別の蛇行検出装置を断面で示す。この装
置においては、検出部7の壁面はとくに透明物質で形成
する必要はなく、たとえばセラミックスなどの絶縁体で
あればよい。そしてかかる絶縁壁の外部から過流式変位
センサーからなるを可とする導電体の変位を検出するセ
ンサー15によって、ストリップのエッジを検出するので
ある。Next, FIG. 3 shows another meandering detection device in cross section. In this device, the wall surface of the detection unit 7 does not need to be formed of a transparent material, and may be an insulator such as ceramics. Then, the edge of the strip is detected by the sensor 15 that detects the displacement of the conductor, which may be an eddy current displacement sensor, from the outside of the insulating wall.
(作用) 次に、かくして得られた検出データに基いてステアリン
グロールを制御する、制御要領を第4図に基いて説明す
る。(Operation) Next, a control procedure for controlling the steering roll based on the detection data thus obtained will be described with reference to FIG.
さてたとえば過流式変位センサー15で、常時ストリップ
の位置を監視しておき、所定位置からのストリップSの
ずれが検出された場合、この検出された変位量Uは演算
装置16に送られる。ここでは該変位量Uに応じてそれを
復元させるのに必要なステアリングロール6の傾動方向
および傾動量が算出され、その算出結果を制御装置17に
送る。制御装置17では、送られてきた指令に基いて、シ
リンダー18を駆動させ、ステアリングロール6を適切な
姿勢に傾動させるのである。Now, for example, the position of the strip is constantly monitored by the overcurrent type displacement sensor 15, and when the deviation of the strip S from the predetermined position is detected, the detected displacement amount U is sent to the arithmetic unit 16. Here, the tilting direction and tilting amount of the steering roll 6 necessary to restore the displacement amount U are calculated, and the calculation result is sent to the control device 17. The control device 17 drives the cylinder 18 and tilts the steering roll 6 to an appropriate posture based on the sent command.
なお好適ステアリング装置を第5図に示しておく。A suitable steering device is shown in FIG.
同図に示したとおり、ステアリングロール6の非駆動側
はピボット19によって旋回可能に固定され、他方駆動側
はブラケット20を介してシリンダー8に接続している。
なお21は軸受座(可動)、23はベース(固定)である。As shown in the figure, the non-driving side of the steering roll 6 is pivotally fixed by a pivot 19, while the driving side is connected to the cylinder 8 via a bracket 20.
21 is a bearing seat (movable) and 23 is a base (fixed).
(発明の効果) かくしてこの発明によれば、高温、高真空の処理槽内を
高速通板するストリップに対して連続的のドライプレー
ティングを施す場合であっても、該処理槽内を走行中の
ストリップの位置を正確に検出することができ、ひいて
は的確なストリップの蛇行制御が実現される。(Effect of the Invention) Thus, according to the present invention, even when continuous dry plating is performed on a strip that passes through a high-temperature, high-vacuum processing tank at a high speed, the strip running during the processing tank The position of the strip can be detected accurately, and thus accurate strip meandering control is realized.
第1図は、この発明に従うストリップの蛇行制御装置の
好適例を組み込んだ連続イオンプレーティング装置の全
体図、 第2図および第3図はそれぞれストリップの位置検出装
置の好適例の断面図、 第4図は、ステアリング装置によるストリップの蛇行制
御要領説明図、 第5図は、好適なステアリング装置の模式図、 第6図は、従来の位置検出装置の模式図である。 1…ペイオフリール 2…ディフレクターロール 3…差圧室、4…予熱室 5…真空蒸着室、6…ステアリングロール 7…蛇行検出部、8…冷却室 9…テンションリール、10…透明壁 11…投光器、12…受光器 13,14…差圧室、15…過流式変位センサー 16…演算装置、17…制御装置 18…シリンダー、19…ピボット 20…ブラケット、21…軸受 22…軸受座、23…ベースFIG. 1 is an overall view of a continuous ion plating device incorporating a preferred example of a strip meandering control device according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are sectional views of a preferred example of a strip position detecting device, respectively. FIG. 4 is an explanatory view of the strip meandering control by the steering device, FIG. 5 is a schematic diagram of a suitable steering device, and FIG. 6 is a schematic diagram of a conventional position detecting device. 1 ... Pay-off reel 2 ... Deflector roll 3 ... Differential pressure chamber, 4 ... Preheating chamber 5 ... Vacuum deposition chamber, 6 ... Steering roll 7 ... Meandering detector, 8 ... Cooling chamber 9 ... Tension reel, 10 ... Transparent wall 11 ... Projector , 12 ... Receiver 13,14 ... Differential pressure chamber, 15 ... Overflow displacement sensor 16 ... Arithmetic device, 17 ... Control device 18 ... Cylinder, 19 ... Pivot 20 ... Bracket, 21 ... Bearing 22 ... Bearing seat, 23 ... base
Claims (1)
理槽内に導入したストリップを、該処理槽内に配置した
ステアリングロールを含む通板用ロール群を介して迂曲
通板させる間に連続してドライプレーティングを施す装
置において、 ストリップのステアリングロールの出側に該ストリップ
のエッジを検出するセンサーを配置すると共に、該セン
サーの検出信号に基づいて該ステアリングロールを傾動
させる駆動手段をそなえて成る、連続ドライプレーティ
ング装置におけるストリップの蛇行制御装置。1. The dry plating is continuously performed while strips introduced into a dry plating treatment tank maintained in a high vacuum are passed through a detouring passage through a passage roll group including a steering roll arranged in the treatment tank. In a device for rating, a continuous dry drive comprising a sensor for detecting an edge of the strip on the exit side of the steering roll of the strip and a drive means for tilting the steering roll based on a detection signal of the sensor. A strip meandering control device in a rating device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16470286A JPH0735578B2 (en) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | Strip meandering control device for continuous dry plating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16470286A JPH0735578B2 (en) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | Strip meandering control device for continuous dry plating device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6320476A JPS6320476A (en) | 1988-01-28 |
| JPH0735578B2 true JPH0735578B2 (en) | 1995-04-19 |
Family
ID=15798249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16470286A Expired - Lifetime JPH0735578B2 (en) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | Strip meandering control device for continuous dry plating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735578B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2914098B2 (en) * | 1993-06-29 | 1999-06-28 | 東レ株式会社 | Measurement, control method, apparatus and manufacturing method of vapor deposited film |
| KR100854363B1 (en) * | 2002-05-25 | 2008-09-02 | 주식회사 포스코 | Induction Furnace Cold Rolling Coil Central Control Unit |
| US20110065282A1 (en) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | General Electric Company | Apparatus and methods to form a patterned coating on an oled substrate |
-
1986
- 1986-07-15 JP JP16470286A patent/JPH0735578B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6320476A (en) | 1988-01-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0166477B1 (en) | Method and system for producing a reactively sputtered conducting transparent metal oxide film onto a continuous web | |
| JPS60206511A (en) | Method and device for controlling sheet shape | |
| EP0487056B1 (en) | Method and apparatus for detecting a sheet thickness in a continuous casting machine | |
| JPH0735578B2 (en) | Strip meandering control device for continuous dry plating device | |
| EP0324351B1 (en) | Process for producing transparent conductive film coated with metal oxide thin film | |
| JPS61143577A (en) | Thin film forming device | |
| JPH07292421A (en) | Continuous annealing device for steel strip and its tension control device | |
| JPS6320475A (en) | Detector for strip edge for continuous dry plating device | |
| JPH05329519A (en) | Hot rolling equipment | |
| JP2001004535A (en) | Retardation measurement method and system | |
| JP2997003B2 (en) | Non-contact support control method for continuously running metal strips of different sizes at the connection | |
| JPS6125443B2 (en) | ||
| CN112203961B (en) | Vacuum coating device and method for coating a web-shaped material | |
| JP2935608B2 (en) | Meandering correction method for continuous strip processing line | |
| JPH04131376A (en) | Differential pressure sealing device | |
| JP3274366B2 (en) | Method for producing transparent electrode thin film | |
| JP2653128B2 (en) | Control method of cold tandem rolling mill | |
| JPH11244927A (en) | Edge blow device | |
| JPS6365029A (en) | Method for controlling catenary amount of thin steel sheet for catenary type heat treatment furnace | |
| JPS6160911B2 (en) | ||
| JP3741162B2 (en) | Splash detector for continuous vacuum deposition equipment | |
| JPH0827574A (en) | Continuous vacuum treating device | |
| KR200222545Y1 (en) | Preventing device for sticky and inferior shape of box annealing materials | |
| JPH05214452A (en) | Method for correcting meandering of strip continuous processing line | |
| KR20210101638A (en) | In-situ quality monitoring system and method for flexible substrate deposition process |