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JPH0746025B2 - Device for heating and drying optical disc masters - Google Patents
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JPH0746025B2 - Device for heating and drying optical disc masters - Google Patents

Device for heating and drying optical disc masters

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JPH0746025B2
JPH0746025B2 JP63219979A JP21997988A JPH0746025B2 JP H0746025 B2 JPH0746025 B2 JP H0746025B2 JP 63219979 A JP63219979 A JP 63219979A JP 21997988 A JP21997988 A JP 21997988A JP H0746025 B2 JPH0746025 B2 JP H0746025B2
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temperature
drying
spindle
master
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、遠赤外線若しくは赤外線ヒータを用いて光デ
ィスク原盤を輻射加熱する加熱乾燥装置に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a heating / drying device that radiatively heats an optical disc master using a far infrared ray or an infrared heater.

背景技術 従来の加熱乾燥装置としては、第6図に示すいわゆるヒ
ートトンネルが知られている。この加熱乾燥装置におい
ては、被加熱物61がベルトコンベア62によって移送さ
れ、ヒータ63で構成されたトンネル内を通過する際のト
ンネル内の雰囲気温度による熱伝導によって被加熱物61
の加熱乾燥が行なわれる構成となっている。
BACKGROUND ART A so-called heat tunnel shown in FIG. 6 is known as a conventional heating and drying apparatus. In this heating / drying apparatus, the object 61 to be heated is transferred by the belt conveyor 62 and the object 61 to be heated is transferred by the ambient temperature in the tunnel when passing through the tunnel constituted by the heater 63.
It is configured to be heated and dried.

この加熱乾燥装置では、被加熱物61の加熱面における温
度分布は、ヒータ62の熱量、ベルトコンベア62の移送速
度、被加熱物61の熱的性質及び形状に依存することにな
るため、温度分布の制御は望み得ないという欠点があっ
た。
In this heating / drying device, the temperature distribution on the heating surface of the object to be heated 61 depends on the heat quantity of the heater 62, the transfer speed of the belt conveyor 62, the thermal properties and the shape of the object to be heated 61, and therefore the temperature distribution. There was a drawback that control of was not hopeful.

また、トンネル内の雰囲気温度による熱伝導加熱である
ことにより、被加熱物の表面の温度分布は、第6図
(B)に一線鎖線で示す如く、中央部及び最外周部が低
く、その中間部が高くなり、全面に亘って均一にはなら
ない。このため、一面にフォトレジストが塗布されてい
る光記録用ガラス原盤を被加熱物とした場合、第5図
(c)に示すように、表面温度が内周から外周に行う程
高くなり、最外周部分で低くなる。このように、加熱乾
燥の際の加熱温度にバラツキがあると、レジストの感度
にバラツキが生じ、ピットとして情報を記録した際にピ
ット形状に悪影響を及ぼすことになる。さらに、最外周
部分の加熱温度が低いと、ガラス原盤が割れ易いという
ことも本出願人により確認されている。
Further, due to the heat conduction heating by the ambient temperature in the tunnel, the temperature distribution on the surface of the object to be heated is low in the central portion and the outermost peripheral portion as shown by the chain line in FIG. The height of the part is high, and it is not uniform over the entire surface. Therefore, when an optical recording glass master having a photoresist coated on one surface is used as the object to be heated, the surface temperature increases from the inner circumference to the outer circumference, as shown in FIG. It becomes lower at the outer circumference. As described above, if the heating temperature varies during heating and drying, the sensitivity of the resist also varies, which adversely affects the pit shape when information is recorded as a pit. Further, the present applicant has also confirmed that the glass master disk is easily broken when the heating temperature of the outermost peripheral portion is low.

温度分布の制御が可能な加熱乾燥装置としては、従来、
第7図に示すものがあった。この加熱乾燥装置において
は、被加熱物61がこの被加熱物61からの離間距離が可変
に設けられたヒータ63によって加熱乾燥される構成とな
っている。この場合、被加熱物61は移動していても、回
転していても、静止していても加熱乾燥処理が可能とな
っている。
As a heating and drying device that can control the temperature distribution,
There was one shown in FIG. In this heating / drying device, the object to be heated 61 is heated and dried by the heater 63 provided with a variable distance from the object to be heated 61. In this case, the object to be heated 61 can be heated, dried, or moved while it is moving, rotating, or stationary.

この加熱乾燥装置によれば、ある程度の温度分布の制御
は可能となるものの、距離による制御であるので、装置
の空間効率が悪くなり、また被加熱物61の大きさによっ
ては、ヒータ63の大きさとの関係で温度分布の精密な制
御が不可能になるなどの欠点があった。
According to this heating / drying apparatus, although it is possible to control the temperature distribution to some extent, since the control is performed by the distance, the space efficiency of the apparatus is deteriorated, and the size of the heater 63 depends on the size of the object to be heated 61. Due to this, there is a drawback that precise control of the temperature distribution becomes impossible.

発明の概要 本発明は、上記のような従来のものの欠点を除去すべく
なされたものであり、空間効率を高め、温度分布のより
精密な制御が可能な光ディスク原盤の加熱乾燥装置を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to eliminate the above-mentioned drawbacks of the conventional ones, and provides a heating / drying device for an optical disk master that enhances space efficiency and enables more precise control of temperature distribution. With the goal.

本発明による光ディスク原盤の加熱乾燥装置は、光ディ
スク原盤を赤外線加熱する加熱手段と、前記光ディスク
原盤を前記加熱手段に対して対向するように担持して回
転せしめる回転駆動手段と、前記光ディスク原盤と前記
加熱手段との間に配置されかつ扇型形状の開口部を有す
る輻射熱制御板と、を備える構成となっている。
A heating / drying apparatus for an optical disk master according to the present invention comprises heating means for heating the optical disk master by infrared rays, rotation driving means for carrying and rotating the optical disk master so as to face the heating means, the optical disk master and the optical disk master. And a radiant heat control plate which is arranged between the heating means and has a fan-shaped opening.

実 施 例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。Example Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す装置外観図、第2図は
その構造図である。これら各図において、光ディスク原
盤であるガラス原盤1はその一面にフォトレジストが塗
布されており、フォトレジストが塗布された面が下面と
なるようにスピンドル2により担持される。スピンドル
2は筺体3内に収納されたスピンドルモータ4によって
回転駆動される。スピンドル2及びスピンドルモータ4
はスピンドルベース5に取り付けられており、リニアス
ライド6にて案内されつつメインベース7上をスピンド
ルベース駆動モータ8によって駆動されて移送されるこ
とにより、スピンドル2は筺体3の上面にガラス原盤1
の半径と大略等しい長さに形成された長孔9に沿って図
に実線で示す位置と一点鎖線で示す位置との間を移動す
る。
FIG. 1 is an external view of an apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a structural view thereof. In each of these figures, a glass master disk 1 which is an optical disk master disk is coated with a photoresist on one surface thereof, and is supported by a spindle 2 so that the surface coated with the photoresist is the lower surface. The spindle 2 is rotationally driven by a spindle motor 4 housed in a housing 3. Spindle 2 and spindle motor 4
Is attached to a spindle base 5, and is driven by a spindle base drive motor 8 to be transferred on the main base 7 while being guided by a linear slide 6, so that the spindle 2 is mounted on the upper surface of the housing 3 and the glass master 1
It moves between the position shown by the solid line and the position shown by the alternate long and short dash line along the long hole 9 formed to have a length substantially equal to the radius of.

ガラス原盤1及びスピンドル2の実線で示す位置は待機
位置であり、この待機位置にてガラス原盤1のローディ
ング及びアンローディング並びに加熱処理後の冷却処理
が行なわれる。また、一点鎖線で示す位置は加熱乾燥
(ベーキング)位置であり、この位置にて加熱乾燥処理
が行なわれる。本装置は水平気流型クリーンベンチ内に
設置されてクリーンルーム内にて使用されるが、図の左
側が作業者側、右側がクリーンベンチ側となるように配
置される。この位置関係により、最も汚染に対して弱い
乾燥工程での汚染を最小限に抑えることができる。すな
わち、クリーンルーム内では発塵源となる作業者が常に
風下にて作業を行なうことにより、また重力の影響を受
けて沈降してくる粒子に対しては、第2図に矢印で示す
如く清浄気流で外へ押し流すと共に、ガラス原盤1の被
加熱面を下側にセットすることにより、さらには機構部
からの発塵に対しては、排気用チューブ10によって筺体
3の内部を排気することにより、汚染に対処している。
また、筺体3の上面は、いくつかの開口部分がある他は
原則的に同一平面となっており、これにより汚染粒子の
蓄積防止と清掃の容易化を図っている。
The position indicated by the solid line of the glass master 1 and the spindle 2 is the standby position, and the glass master 1 is loaded and unloaded and the cooling process after the heating process is performed at this standby position. The position indicated by the alternate long and short dash line is a heat drying (baking) position, and the heat drying process is performed at this position. This device is installed in a horizontal airflow type clean bench and used in a clean room. The left side of the figure is the operator side and the right side is the clean bench side. Due to this positional relationship, it is possible to minimize the contamination in the drying process which is the most sensitive to contamination. That is, in a clean room, when a worker who is a dust source always works in the leeward direction and particles that settle down under the influence of gravity, a clean air flow is indicated as shown by an arrow in FIG. And to set the heated surface of the glass master 1 to the lower side, and further, for dust from the mechanism part, by exhausting the inside of the housing 3 with the exhaust tube 10, Dealing with pollution.
In addition, the upper surface of the housing 3 is in principle the same plane except that there are some openings, which prevents accumulation of contaminant particles and facilitates cleaning.

筺体3の上面のクリーンベンチ側の一部は、略扇型形状
の開口部11を有する輻射熱制御板12となっている。輻射
熱制御板12は例えばステンレスからなっており、筺3と
一体に構成されても良い。開口部11の下方には、この開
口部11を介してガラス原盤1を輻射加熱する遠赤外線若
しくは赤外線ヒータエレメント13を含むヒータユニット
14が配置されている。このヒータユニット14において、
第3図から特に明らかなように、ヒータエレメント13は
加熱乾燥位置にあるガラス原盤1の半径領域の一部と対
向するようにヒータ取付板15に取り付けられ、図示せぬ
支持体により外板16に固定されている。外板16の上部に
は、断熱を兼ねたスペーサ17を介して輻射熱制御板12が
固定されている。ヒータ取付板15と外板16とで形成され
るジャケット部分は排気用チューブ18によって排気さ
れ、これによりヒータエレメント13は加熱によって熱拡
散型の汚染が発生しないように負圧に保たれている。ま
た、ヒータユニット14を排気することにより、不要な熱
の伝達を防止し、装置の温度が上昇するのを防止してい
る。ヒータエレメント13の温度測定は、ヒータエレメン
ト13に付属の熱電対(図示せず)によって行なわれる。
A part of the upper surface of the housing 3 on the clean bench side is a radiant heat control plate 12 having a substantially fan-shaped opening 11. The radiant heat control plate 12 is made of stainless steel, for example, and may be integrated with the housing 3. Below the opening 11, a heater unit including a far infrared ray or infrared heater element 13 for radiatively heating the glass master 1 through the opening 11.
14 are arranged. In this heater unit 14,
As is particularly clear from FIG. 3, the heater element 13 is attached to the heater mounting plate 15 so as to face a part of the radius area of the glass master 1 in the heating and drying position, and the outer plate 16 is supported by a support (not shown). It is fixed to. The radiant heat control plate 12 is fixed to the upper part of the outer plate 16 via a spacer 17 that also serves as heat insulation. The jacket portion formed by the heater mounting plate 15 and the outer plate 16 is exhausted by the exhaust tube 18, whereby the heater element 13 is kept at a negative pressure so as not to generate heat diffusion type contamination due to heating. Further, by exhausting the heater unit 14, unnecessary heat transfer is prevented and the temperature of the device is prevented from rising. The temperature of the heater element 13 is measured by a thermocouple (not shown) attached to the heater element 13.

筺体3の内部には放射温度計19が設けられており、この
放射温度計19は筺体3の上面に形成された測定窓20を介
してガラス原盤1の表面温度の測定を行なう。この放射
温度計19の測定出力はコントローラ21に供給される。コ
ントローラ21は例えばマイクロコンピュータによって構
成されており、ヒータエレメント13の温度制御、スピン
ドル2の回転開始及び回転停止の制御、スピンドル2の
移送制御等、ガラス原盤1の加熱乾燥処理のための一連
の制御を行なう。
A radiation thermometer 19 is provided inside the housing 3, and the radiation thermometer 19 measures the surface temperature of the glass master 1 through a measurement window 20 formed on the upper surface of the housing 3. The measurement output of the radiation thermometer 19 is supplied to the controller 21. The controller 21 is composed of, for example, a microcomputer, and is a series of controls for heating and drying the glass master 1 such as temperature control of the heater element 13, start and stop of rotation of the spindle 2 and transfer control of the spindle 2. Do.

次に、コントローラ21のプロセッサによって実行される
加熱乾燥の処理手順の基本シーケンスについて第4図の
フローチャートにしたがって説明する。
Next, the basic sequence of the heating and drying processing procedure executed by the processor of the controller 21 will be described with reference to the flowchart of FIG.

装置電源が投入(オン)されると、プロセッサは先ず、
ヒータエレメント13のプレヒートを開始する(ステップ
S1)。ヒータエレメント13の温度は例えば215℃に設定
されており、215±5℃にて準備完了となる。プレヒー
トの目的は、ヒータ加熱の時定数が大きいことにより、
予めヒータエレメント13を加熱しておかないと加熱乾燥
時間が長くなるためであり、温度測定はヒータエレメン
ト13に付属の熱電対によって行なわれる。
When the device power is turned on, the processor first
Start preheating of heater element 13 (step
S1). The temperature of the heater element 13 is set to 215 ° C., for example, and the preparation is completed at 215 ± 5 ° C. The purpose of preheating is that the time constant of heating the heater is large,
This is because the heating and drying time becomes long if the heater element 13 is not heated in advance, and the temperature is measured by the thermocouple attached to the heater element 13.

ガラス原盤1がスピンドル2にセットされ、続いてスタ
ートスイッチ(図示せず)がオンされると(ステップS
2)、プロセッサは、スピンドル2を例えば3[r.p.m]
の回転数で回転させ(ステップS3)、熱電対の測定出力
に基づいてヒータエレメント13の温度が設定温度T1に達
したことを検出したら(ステップS4)、スピンドルベー
ス駆動モータ8を駆動制御することによってスピンドル
2を待機位置から加熱乾燥位置へ前進させる(ステップ
S5)。そして、この位置でガラス原盤1のフォトレジス
トに対してヒータエレメント13の輻射加熱によって加熱
乾燥処理が行なわれる(ステップS6)。
When the glass master 1 is set on the spindle 2 and then the start switch (not shown) is turned on (step S
2), the processor sets the spindle 2 to, for example, 3 [rpm]
When it is detected that the temperature of the heater element 13 has reached the set temperature T 1 based on the measured output of the thermocouple (step S4), the spindle base drive motor 8 is drive-controlled. This advances the spindle 2 from the standby position to the heating / drying position (step
S5). Then, at this position, the photoresist of the glass master 1 is heated and dried by radiant heating of the heater element 13 (step S6).

この加熱乾燥工程において、放射温度計19の測定出力に
基づいてガラス原盤1の表面温度が所定温度T2、例えば
90±0.5℃に達したことを検出したら(ステップS7)、
スピンドルベース駆動モータ8を駆動制御することによ
ってスピンドル2を加熱乾燥位置から待機位置へ後退さ
せる(ステップS8)。この待機位置では加熱後のガラス
原盤1の冷却処理が行なわれ(ステップS9)、この冷却
工程において、放射温度計19の測定出力に基づいてガラ
ス原盤1の表面温度が所定温度T3、例えば55±0.5℃以
下になったことを検出したら(ステップS10)、スピン
ドル2の回転を停止させる(ステップS11)。そして、
スピンドル2からガラス原盤1を取り外すことにより、
一連の処理が完了することになる。
In this heating and drying step, the surface temperature of the glass master 1 is determined to be a predetermined temperature T 2 , for example, based on the measurement output of the radiation thermometer 19.
When it is detected that the temperature has reached 90 ± 0.5 ° C (step S7),
The spindle 2 is retracted from the heating / drying position to the standby position by driving and controlling the spindle base drive motor 8 (step S8). At this standby position, the glass master 1 after heating is cooled (step S9). In this cooling process, the surface temperature of the glass master 1 is set to a predetermined temperature T 3 , for example 55, based on the measurement output of the radiation thermometer 19. When it is detected that the temperature becomes ± 0.5 ° C. or less (step S10), the rotation of the spindle 2 is stopped (step S11). And
By removing the glass master 1 from the spindle 2,
A series of processing is completed.

上述した加熱乾燥工程において、ヒータエレメント13に
よって発生された赤外線は可視光線と同様に直進する性
質を持ち、輻射熱制御板12の開口部11を介して対向する
ガラス原盤1に到達し、フォトレジストに吸収されて熱
を発生する。その単位面積当りの発熱量は、ヒータエレ
メント13と対向している時間、ヒータエレメント13自身
のもつ発熱量分布、周囲から受ける冷却効率等の諸条件
により概ね定められることになる。したがって、輻射熱
制御板12を設けない場合には、ガラス原盤1のレジスト
面の温度分布は、第5図(b)に示すように、中心部が
低く、外周へ行く程高くなり、最外周では冷却効果が大
きいことにより再び低くなる。これに対し、開口部11を
有する輻射熱制御板12を設け、開口部11の略扇型形状に
よって上記単位面積当りの発熱量をその関係する因子全
てを含んで補正することにより、第5図(a)に示すよ
うに、内周から外周の全面に亘って均一な温度分布を得
ることができる。
In the heating and drying step described above, the infrared rays generated by the heater element 13 have the property of traveling straight in the same manner as visible light, reach the opposite glass master 1 through the opening 11 of the radiant heat control plate 12, and reach the photoresist. It is absorbed and generates heat. The calorific value per unit area is generally determined by various conditions such as the time facing the heater element 13, the calorific value distribution of the heater element 13 itself, and the cooling efficiency received from the surroundings. Therefore, when the radiant heat control plate 12 is not provided, the temperature distribution on the resist surface of the glass master 1 is low at the central portion and becomes higher toward the outer periphery, as shown in FIG. It becomes low again due to the large cooling effect. On the other hand, the radiant heat control plate 12 having the opening 11 is provided, and the heat generation amount per unit area is corrected by the substantially fan-shaped shape of the opening 11 including all the factors related thereto. As shown in a), it is possible to obtain a uniform temperature distribution over the entire surface from the inner circumference to the outer circumference.

また、扇型形状の開口部11を、ガラス原盤1の単位面積
に対して開口部11を介して熱伝達される時間が最外周部
分で他の部分よりも大となるように形成したことによ
り、第5図(a)に示すように、ガラス原盤1の最外周
部分の表面温度を他の部分よりも高くすることができ
る。
Further, the fan-shaped opening 11 is formed so that the time for heat transfer through the opening 11 with respect to the unit area of the glass master 1 is longer in the outermost peripheral portion than in other portions. As shown in FIG. 5 (a), the surface temperature of the outermost peripheral portion of the glass master 1 can be made higher than that of other portions.

なお、上記実施例では、ヒータエレメント13によるガラ
ス原盤1への赤外線の放射量の分布を制御する熱制御手
段として、扇型形状の開口部11を有する輻射熱制御板12
を用いた場合について説明したが、開口部11の形状は用
途、目的により任意の形状とすることが可能である。
In the above embodiment, the radiant heat control plate 12 having the fan-shaped opening 11 is used as the heat control means for controlling the distribution of the amount of infrared radiation emitted from the heater element 13 to the glass master 1.
Although the case of using is described, the shape of the opening 11 can be any shape depending on the use and purpose.

また、熱制御手段としては、開口部11を有する輻射熱制
御板12に限定されるものではなく、熱的性質の異なる材
質の組合わせによって構成された輻射熱制御板や、熱的
性質が部分的に異なる輻射熱制御板を用いても良く、ま
たヒータエレメント13の発熱量分布を変えることによっ
てもガラス原盤1への赤外線の放射量の分布を制御する
ことが可能である。
Further, the heat control means is not limited to the radiant heat control plate 12 having the opening 11, and the radiant heat control plate constituted by a combination of materials having different thermal properties, and the thermal property is partially. Different radiant heat control plates may be used, and the distribution of the amount of infrared radiation to the glass master 1 can be controlled by changing the amount of heat generated by the heater element 13.

またさらに、上記実施例では、温度分布の均一化を目的
としたが、熱制御手段によって可能な範囲で任意の温度
分布に調整することができることは云うまでもない。同
様に、何らかの温度及び温度分布の検出手段と熱制御手
段とを組み合わせて温度及び温度分布を任意に調整する
ことも可能である。
Furthermore, in the above embodiment, the purpose was to make the temperature distribution uniform, but it goes without saying that the temperature control can be adjusted to an arbitrary temperature distribution within a possible range. Similarly, it is also possible to arbitrarily adjust the temperature and the temperature distribution by combining some means for detecting the temperature and the temperature distribution and the heat control means.

発明の効果 以上説明したように、本発明による光ディスク原盤の加
熱乾燥装置は、光ディスク原盤を赤外線加熱する加熱手
段と、光ディスク原盤を加熱手段に対して対向するよう
に担持して回転せしめる回転駆動手段と、光ディスク原
盤と加熱手段との間に配置されかつ扇型形状の開口部を
有する輻射熱制御板と、を備えることで光ディスク原盤
に達する赤外線放射量を制御できる構成となっているの
で、空間効率を損うことなく、又、加熱手段の複雑な制
御を要することなく、容易にかつ簡略構造にして温度分
布のより精密な制御が行え、製品の品質を向上させるこ
とができる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the heating / drying apparatus for the optical disk master according to the present invention includes the heating means for heating the optical disk master by infrared radiation and the rotation driving means for carrying and rotating the optical disk master so as to face the heating means. And a radiant heat control plate arranged between the optical disc master and the heating means and having a fan-shaped opening, the infrared radiation amount reaching the optical disc master can be controlled, so that space efficiency is improved. It is possible to improve the quality of the product without deteriorating the temperature and without requiring complicated control of the heating means, to easily and simply control the temperature distribution more precisely.

これにより、一面にフォトレジストが塗布されているガ
ラス原盤の場合、内周から外周に亘って加熱温度を均一
にできるので、フォトレジストの感度のバラツキを最少
限に抑えることができる。また、最外周部分の加熱温度
を他の部分よりも高くできるので、ガラス原盤の割れを
防止できることになる。
Thus, in the case of a glass master having a photoresist coated on one surface, the heating temperature can be made uniform from the inner circumference to the outer circumference, so that the variation in the sensitivity of the photoresist can be suppressed to the minimum. Further, since the heating temperature of the outermost peripheral portion can be made higher than that of other portions, it is possible to prevent the glass master from cracking.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す装置外観図、第2図は
その構造図、第3図は第2図におけるヒータユニットの
拡大断面図、第4図はプロセッサによって実行される加
熱乾燥の処理手順の基本シーケンスを示すフローチャー
ト、第5図は基準温度に対する各半径の温度偏差を示す
特性図、第6図(A)は従来装置の外観図、(B)はそ
の正断面図、第7図は他の従来装置を示す構成図であ
る。 主要部分の符号の説明 1……ガラス原盤、2……スピンドル 4……スピンドルモータ 8……スピンドルベース駆動モータ 10,18……排気用チューブ 11……開口部、12……輻射熱制御板 13……ヒータエレメント 14……ヒータユニット 19……放射温度計、21……コントローラ
FIG. 1 is an external view of an apparatus showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is its structural view, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a heater unit in FIG. 2, and FIG. 4 is heat drying executed by a processor. 5 is a flow chart showing the basic sequence of the processing procedure, FIG. 5 is a characteristic diagram showing the temperature deviation of each radius with respect to a reference temperature, FIG. 6 (A) is an external view of a conventional device, (B) is its front sectional view, FIG. FIG. 7 is a block diagram showing another conventional device. Explanation of symbols of main parts 1 …… Glass master, 2 …… Spindle 4 …… Spindle motor 8 …… Spindle base drive motor 10,18 …… Exhaust tube 11 …… Opening part, 12 …… Radiation heat control plate 13… Heater element 14 Heater unit 19 Radiation thermometer, 21 Controller

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光ディスク原盤を赤外線加熱する加熱手段
と、前記光ディスク原盤を前記加熱手段に対して対向す
るように担持して回転せしめる回転駆動手段と、前記光
ディスク原盤と前記加熱手段との間に配置されかつ扇型
形状の開口部を有する輻射熱制御板と、を備えたことを
特徴とする光ディスク原盤の加熱乾燥装置。
1. A heating means for heating an optical disk master by infrared rays, a rotation driving means for carrying and rotating the optical disk master so as to face the heating means, and between the optical disk master and the heating means. A radiant heat control plate that is arranged and has a fan-shaped opening, and a heating / drying device for an optical disk master.
JP63219979A 1988-09-02 1988-09-02 Device for heating and drying optical disc masters Expired - Fee Related JPH0746025B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
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