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JPH0749911B2 - Device for heating and drying optical disc masters - Google Patents
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JPH0749911B2 - Device for heating and drying optical disc masters - Google Patents

Device for heating and drying optical disc masters

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JPH0749911B2
JPH0749911B2 JP63219982A JP21998288A JPH0749911B2 JP H0749911 B2 JPH0749911 B2 JP H0749911B2 JP 63219982 A JP63219982 A JP 63219982A JP 21998288 A JP21998288 A JP 21998288A JP H0749911 B2 JPH0749911 B2 JP H0749911B2
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master
drying
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optical disc
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、遠赤外線若しくは赤外線ヒータを用いて光デ
ィスク原盤を輻射加熱する光ディスク原盤の加熱乾燥装
置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a heating / drying device for an optical disc master that radiatively heats an optical disc master using a far infrared ray or an infrared heater.

背景技術 従来の加熱乾燥装置としては、第6図に示すいわゆるヒ
ートトンネルが知られている。この加熱乾燥装置におい
ては、被加熱物61がベルトコンベア62によって移送さ
れ、ヒータ63で構成されたトンネル内を通過する際のト
ンネル内の雰囲気温度による熱伝導によって被加熱物61
の加熱乾燥が行なわれる構成となっている。
BACKGROUND ART A so-called heat tunnel shown in FIG. 6 is known as a conventional heating and drying apparatus. In this heating / drying apparatus, the object 61 to be heated is transferred by the belt conveyor 62 and the object 61 to be heated is transferred by the ambient temperature in the tunnel when passing through the tunnel constituted by the heater 63.
It is configured to be heated and dried.

この加熱乾燥装置においては、ベルトコンベア62への被
加熱物61の載置及び取出しの作業位置が全く反対側であ
るため、これらの作業を1人の作業者が行なうとする
と、光ディスク原盤を被加熱物とした場合、その原盤の
取扱いに細心の注意を要することから非常に作業性が悪
く、しかも装置が大型であるという欠点があった。
In this heating / drying apparatus, since the work positions of placing and removing the object 61 to be heated on the belt conveyor 62 are completely opposite to each other, if one worker performs these operations, the master optical disk is not covered. In the case of using a heated product, there is a drawback that workability is extremely poor because the master is required to be handled with great care, and the apparatus is large.

発明の概要 そこで、本発明は、作業性に優れ、しかも装置の小型化
を可能にした光ディスク原盤の加熱乾燥装置を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a heating / drying device for an optical disk master, which is excellent in workability and can be downsized.

本発明による光ディスク原盤の加熱乾燥装置は、フォト
レジストが塗布されたガラス原盤からなる光ディスク原
盤を前記フォトレジストの塗布面が下面となるように担
持して回転駆動する回転駆動手段と、前記光ディスク原
盤を待機させる第1の位置と加熱乾燥する第2の位置と
の間で前記回転駆動手段を水平方向に移送せしめる移送
手段と、前記第2の位置において前記光ディスク原盤の
フォトレジスト塗布面の半径領域の一部と対向するよう
に配置されて前記光ディスク原盤を輻射加熱する加熱手
段と、を備えたことを特徴としている。
A heating / drying apparatus for an optical disk master according to the present invention comprises: a rotation driving means for supporting and rotating an optical disk master made of a glass master coated with a photoresist such that the coated surface of the photoresist is the lower surface; and the optical disk master. Transfer means for horizontally transferring the rotation drive means between a first position for waiting for heating and a second position for heating and drying, and a radial area of the photoresist coating surface of the optical disk master at the second position. And a heating unit which is arranged so as to face a part of the above and which radiatively heats the optical disc master.

実施例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。Example Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す装置外観図、第2図は
その構造図である。これら各図において、光ディスク原
盤であるガラス原盤1はその一面にフォトレジストが塗
布されており、フォトレジストが塗布された面が下面と
なるようにスピンドル2により担持される。スピンドル
2は筐体3内に収納されたスピンドルモータ4によって
回転駆動される。スピンドル2及びスピンドルモータ4
はスピンドルベース5に取り付けられており、リニアス
ライド6にて案内されつつメインベース7上をスピンド
ルベース駆動モータ8によって駆動されて移送されるこ
とにより、スピンドル2は筐体3の上面にガラス原盤1
の半径と大略等しい長さに形成された長孔9に沿って図
に実線で示す位置と一点鎖線で示す位置との間を移動す
る。
FIG. 1 is an external view of an apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a structural view thereof. In each of these figures, a glass master disk 1 which is an optical disk master disk is coated with a photoresist on one surface thereof, and is supported by a spindle 2 so that the surface coated with the photoresist is the lower surface. The spindle 2 is rotationally driven by a spindle motor 4 housed in a housing 3. Spindle 2 and spindle motor 4
Is attached to a spindle base 5, and is driven by a spindle base drive motor 8 to be transferred on a main base 7 while being guided by a linear slide 6, so that the spindle 2 is mounted on the upper surface of a housing 3 and the glass master 1
It moves between the position shown by the solid line and the position shown by the alternate long and short dash line along the long hole 9 formed to have a length substantially equal to the radius of.

ガラス原盤1及びスピンドル2の実線で示す位置は待機
位置であり、この待機位置にてガラス原盤1のローディ
ング及びアンローディング並びに加熱処理後の冷却処理
が行なわれる。また、一点鎖線で示す位置は加熱乾燥
(ベーキング)位置であり、この位置にて加熱乾燥処理
が行なわれる。本装置は水平気流型クリーンベンチ内に
設置されてクリーンルーム内にて使用されるが、図の左
側が作業者側、右側がクリーンベンチ側となるように配
置される。この位置関係により、最も汚染に対して弱い
乾燥工程での汚染を最少限に抑えることができる。すな
わち、クリーンルーム内では発塵源となる作業者が常に
風下にて作業を行なうことにより、また重力の影響を受
けて沈降してくる粒子に対しては、第2図に矢印で示す
如く清浄気流で外へ押し流すと共に、ガラス原盤1の被
加熱面を下側にセットすることにより、さらには機構部
からの発塵に対しては、排気用チューブ10によって筐体
3の内部を排気することにより、汚染に対処している。
また、筐体3の上面は、いくつかの開口部分がある他は
原則的に同一平面となっており、これにより汚染粒子の
蓄積防止と清掃の容易化を図っている。
The position indicated by the solid line of the glass master 1 and the spindle 2 is the standby position, and the glass master 1 is loaded and unloaded and the cooling process after the heating process is performed at this standby position. The position indicated by the alternate long and short dash line is a heat drying (baking) position, and the heat drying process is performed at this position. This device is installed in a horizontal airflow type clean bench and used in a clean room. The left side of the figure is the operator side and the right side is the clean bench side. Due to this positional relationship, it is possible to minimize the contamination in the drying process, which is the weakest against contamination. That is, in a clean room, when a worker who is a dust source always works in the leeward direction and particles that settle down under the influence of gravity, a clean air flow is indicated as shown by an arrow in FIG. And to set the heated surface of the glass master 1 to the lower side, and to exhaust dust from the mechanism part, exhaust the inside of the housing 3 with the exhaust tube 10. , Dealing with pollution.
In addition, the upper surface of the housing 3 is in principle the same plane except that there are some openings, thereby preventing accumulation of contaminant particles and facilitating cleaning.

筐体3の上面のクリーンベンチ側の一部は、略扇型形状
の開口部11を有する輻射熱遮蔽板12となっている。輻射
熱遮蔽板12は例えばステンレスからなっており、筐体3
と一体に構成されても良い。開口部11の下方には、この
開口部11を介してガラス原盤1を輻射加熱する遠赤外線
若しくは赤外線ヒータエレメント13を含むヒータユニッ
ト14が配置されている。このヒータユニット14におい
て、第3図から特に明らかなように、ヒータエレメント
13は加熱乾燥位置にあるガラス原盤1の半径領域の一部
と対向するようにヒータ取付板15に取り付けられ、図示
せぬ支持体により外板16に固定されている。外板16の上
部には、断熱を兼ねたスペーサ17を介して輻射熱遮蔽板
12が固定されている。ヒータ取付板15と外板16とで形成
されるジャケット部分は排気用チューブ18によって排気
され、これによりヒータエレメント13は加熱によって熱
拡散型の汚染が発生しないように負圧に保たれている。
また、ヒータユニット14を排気することにより、不要な
熱の伝達を防止し、装置の温度が上昇するのを防止して
いる。ヒータエレメント13の温度測定は、ヒータエレメ
ント13に付属の熱電対(図示せず)によって行なわれ
る。
A part of the upper surface of the housing 3 on the clean bench side is a radiant heat shielding plate 12 having a substantially fan-shaped opening 11. The radiant heat shielding plate 12 is made of, for example, stainless steel, and has a housing 3
It may be configured integrally with. A heater unit 14 including a far infrared ray or infrared heater element 13 for radiatively heating the glass master 1 through the opening 11 is arranged below the opening 11. In this heater unit 14, as is particularly clear from FIG. 3, the heater element
13 is attached to the heater mounting plate 15 so as to face a part of the radius region of the glass master 1 in the heating and drying position, and is fixed to the outer plate 16 by a support body (not shown). A radiant heat shielding plate is provided above the outer plate 16 via a spacer 17 that also serves as heat insulation.
12 is fixed. The jacket portion formed by the heater mounting plate 15 and the outer plate 16 is exhausted by the exhaust tube 18, whereby the heater element 13 is kept at a negative pressure so as not to generate heat diffusion type contamination due to heating.
Further, by exhausting the heater unit 14, unnecessary heat transfer is prevented and the temperature of the device is prevented from rising. The temperature of the heater element 13 is measured by a thermocouple (not shown) attached to the heater element 13.

筐体3の内部には放射温度計19が設けられており、この
放射温度計19は筐体3の上面に形成された測定窓20を介
してガラス原盤1の表面温度の測定を行なう。この放射
温度計19の測定出力はコントローラ21に供給される。コ
ントローラ21は例えばマイクロコンピュータによって構
成されており、ヒータエレメント13の温度制御、スピン
ドル2の回転開始及び回転停止の制御、スピンドル2の
移送制御等、ガラス原盤1の加熱乾燥処理のための一連
の制御を行なう。
A radiation thermometer 19 is provided inside the housing 3, and the radiation thermometer 19 measures the surface temperature of the glass master 1 through a measurement window 20 formed on the upper surface of the housing 3. The measurement output of the radiation thermometer 19 is supplied to the controller 21. The controller 21 is composed of, for example, a microcomputer, and is a series of controls for heating and drying the glass master 1 such as temperature control of the heater element 13, start and stop of rotation of the spindle 2 and transfer control of the spindle 2. Do.

次に、コントローラ21のプロセッサによって実行される
加熱乾燥の処理手順の基本シーケンスについて第4図の
フローチャートにしたがって説明する。
Next, the basic sequence of the heating and drying processing procedure executed by the processor of the controller 21 will be described with reference to the flowchart of FIG.

装置電源が投入(オン)されると、プロセッサは先ず、
ヒータエレメント13のプレヒートを開始する(ステップ
S1)。ヒータエレメント13の温度は例えば215℃に設定
されており、215±5℃にて準備完了となる。プレヒー
トの目的は、ヒータ加熱の時定数が大きいことにより、
予めヒータエレメント13を加熱しておかないと加熱乾燥
時間が長くなるためであり、温度測定はヒータエレメン
ト13に付属の熱電対によって行なわれる。
When the device power is turned on, the processor first
Start preheating of heater element 13 (step
S1). The temperature of the heater element 13 is set to 215 ° C., for example, and the preparation is completed at 215 ± 5 ° C. The purpose of preheating is that the time constant of heating the heater is large,
This is because the heating and drying time becomes long if the heater element 13 is not heated in advance, and the temperature is measured by the thermocouple attached to the heater element 13.

ガラス原盤1がスピンドル2にセットされ、続いてスタ
ートスイッチ(図示せず)がオンされると(ステップS
2)、プロセッサは、スピンドル2を例えば3[r.p.
m.]の回転数で回転させ(ステップS3)、熱電対の測定
出力に基づいてヒータエレメント13の温度が設定温度T1
に達したことを検出したら(ステップS4)、スピンドル
ベース駆動モータ8を駆動制御することによってスピン
ドル2を待機位置から加熱乾燥位置へ前進させる(ステ
ップS5)。そして、この位置でガラス原盤1のフォトレ
ジストに対してヒータエレメント13の輻射加熱によって
加熱乾燥処理が行なわれる(ステップS6)。
When the glass master 1 is set on the spindle 2 and then the start switch (not shown) is turned on (step S
2), the processor sets the spindle 2 to, for example, 3 [rp
m.] (step S3), the temperature of the heater element 13 is set to the set temperature T 1 based on the measured output of the thermocouple.
When it is detected (step S4), the spindle base drive motor 8 is drive-controlled to advance the spindle 2 from the standby position to the heating / drying position (step S5). Then, at this position, the photoresist of the glass master 1 is heated and dried by radiant heating of the heater element 13 (step S6).

この加熱乾燥工程において、放射温度計19の測定出力に
基づいてガラス原盤1の表面温度が所定温度T2、例えば
90±0.5℃に達したことを検出したら(ステップS7)、
スピンドルベース駆動モータ8を駆動制御することによ
ってスピンドル2を加熱乾燥位置から待機位置へ後退さ
せる(ステップS8)。この待機位置では加熱後のガラス
原盤1の冷却処理が行なわれ(ステップS9)、この冷却
工程において、放射温度計19の測定出力に基づいてガラ
ス原盤1の表面温度が所定温度T3、例えば55±0.5℃以
下になったことを検出したら(ステップS10)、スピン
ドル2の回転を停止させる(ステップS11)。そして、
スピンドル2からガラス原盤1を取り外すことにより、
一連の処理が完了することになる。
In this heating and drying step, the surface temperature of the glass master 1 is determined to be a predetermined temperature T 2 , for example, based on the measurement output of the radiation thermometer 19.
When it is detected that the temperature has reached 90 ± 0.5 ° C (step S7),
The spindle 2 is retracted from the heating / drying position to the standby position by driving and controlling the spindle base drive motor 8 (step S8). At this standby position, the glass master 1 after heating is cooled (step S9). In this cooling process, the surface temperature of the glass master 1 is set to a predetermined temperature T 3 , for example 55, based on the measurement output of the radiation thermometer 19. When it is detected that the temperature becomes ± 0.5 ° C. or less (step S10), the rotation of the spindle 2 is stopped (step S11). And
By removing the glass master 1 from the spindle 2,
A series of processing is completed.

上述した加熱乾燥工程において、ヒータエレメント13に
よって発生された赤外線は可視光線と同様に直進する性
質を持ち、輻射熱遮蔽板12の開口部11を介して対向する
ガラス原盤1に到達し、フォトレジストに吸収されて熱
を発生する。その単位面積当りの発熱量は、ヒータエレ
メント13と対向している時間、ヒータエレメント13自身
のもつ発熱量分布、周囲から受ける冷却効率等の諸条件
により概ね定められることになる。したがって、輻射熱
遮蔽板12を設けない場合には、ガラス原盤1のレジスト
面の温度分布は、第5図(b)に示すように、中心部が
低く、外周へ行く程高くなり、最外周では冷却効果が大
きいことにより再び低くなる。これに対し、開口部11を
有する輻射熱遮蔽板12を設け、開口部11の略扇型形状に
よって上記単位面積当りの発熱量をその関係する因子全
てを含んで補正することにより、第5図(a)に示すよ
うに、内周から外周の全面に亘って均一な温度分布を得
ることができる。第5図(c)は、第6図に示す従来装
置による特性を示している。
In the heating and drying step described above, the infrared rays generated by the heater element 13 have the property of traveling straight in the same manner as visible light, reach the opposite glass master 1 through the opening 11 of the radiant heat shielding plate 12, and reach the photoresist. It is absorbed and generates heat. The calorific value per unit area is generally determined by various conditions such as the time facing the heater element 13, the calorific value distribution of the heater element 13 itself, and the cooling efficiency received from the surroundings. Therefore, when the radiant heat shielding plate 12 is not provided, the temperature distribution on the resist surface of the glass master 1 is low at the central portion and becomes higher toward the outer periphery, as shown in FIG. It becomes low again due to the large cooling effect. On the other hand, a radiant heat shield plate 12 having an opening 11 is provided, and the heat generation amount per unit area is corrected by the substantially fan-shaped shape of the opening 11 including all the factors related thereto. As shown in a), it is possible to obtain a uniform temperature distribution over the entire surface from the inner circumference to the outer circumference. FIG. 5 (c) shows the characteristics of the conventional device shown in FIG.

発明の効果 以上説明したように、本発明による光ディスク原盤の加
熱乾燥装置は、フォトレジストが塗布されたガラス原盤
からなる光ディスク原盤をフォトレジストの塗布面が下
面となるように担持して回転駆動する回転駆動手段と、
光ディスク原盤を待機させる第1の位置と加熱乾燥する
第2の位置との間で回転駆動手段を水平方向に移送せし
める移送手段と、第2の位置において光ディスク原盤の
フォトレジスト塗布面の半径領域の一部と対向するよう
に配置されて光ディスク原盤を輻射加熱する加熱手段
と、により構成される故、待機位置と加熱乾燥位置との
間の移動は光ディスク原盤の大略半径に等しい短い距離
で良いため、装置の小型化が図れ、しかも待機位置側の
みでの作業が可能であることから作業者が1人でも作業
を容易に行なえることになる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the heating / drying device for the optical disc master according to the present invention carries the optical disc master made of the glass master coated with the photoresist such that the coated surface of the photoresist is the lower surface and rotationally drives it. Rotation driving means,
Transfer means for horizontally transferring the rotation driving means between the first position for waiting the optical disk master and the second position for heating and drying, and the transfer area for the radial area of the photoresist coating surface of the optical disk master at the second position. Since it is constituted by a heating means for radiantly heating the optical disc master, which is arranged so as to face a part thereof, the movement between the standby position and the heating / drying position may be a short distance approximately equal to the radius of the optical disc master. Since the apparatus can be downsized and the work can be performed only on the standby position side, even one worker can easily perform the work.

また、光ディスク原盤をその下方から加熱する構成とす
ることにより加熱手段を筐体内に収納できるので、装置
の薄型化も図れることになる。
Further, since the heating unit can be housed in the housing by heating the optical disk master from below, the apparatus can be made thin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す装置外観図、第2図は
その構造図、第3図は第2図におけるヒータユニットの
拡大断面図、第4図はプロセッサによって実行される加
熱乾燥の処理手順の基本シーケンスを示すフローチャー
ト、第5図は基準温度に対する各半径の温度偏差を示す
特性図、第6図(A)は従来装置の外観図、(B)はそ
の正断面図である。 主要部分の符号の説明 1……ガラス原盤、2……スピンドル 4……スピンドルモータ 8……スピンドルベース駆動モータ 10,18……排気用チューブ 11……開口部、12……輻射熱遮蔽板 13……ヒータエレメント 14……ヒータユニット 19……放射温度計、21……コントローラ
FIG. 1 is an external view of an apparatus showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is its structural view, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a heater unit in FIG. 2, and FIG. 4 is heat drying executed by a processor. 5 is a flow chart showing the basic sequence of the processing procedure of FIG. 5, FIG. 5 is a characteristic diagram showing the temperature deviation of each radius from the reference temperature, FIG. 6 (A) is an external view of the conventional device, and FIG. . Explanation of symbols of main parts 1 …… Glass master, 2 …… Spindle 4 …… Spindle motor 8 …… Spindle base drive motor 10,18 …… Exhaust tube 11 …… Opening part, 12 …… Radiation heat shielding plate 13… Heater element 14 Heater unit 19 Radiation thermometer, 21 Controller

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フォトレジストが塗布されたガラス原盤か
らなる光ディスク原盤を前記フォトレジストの塗布面が
下面となるように担持して回転駆動する回転駆動手段
と、前記光ディスク原盤を待機させる第1の位置と加熱
乾燥する第2の位置との間で前記回転駆動手段を水平方
向に移送せしめる移送手段と、前記第2の位置において
前記光ディスク原盤のフォトレジスト塗布面の半径領域
の一部と対向するように配置されて前記光ディスク原盤
を輻射加熱する加熱手段と、を備えたことを特徴とする
光ディスク原盤の加熱乾燥装置。
1. A rotation driving means for rotatably carrying an optical disk master made of a glass master coated with a photoresist such that the coated surface of the photoresist is the lower surface, and a first optical disk master which is on standby. A transfer means for horizontally transferring the rotation drive means between a position and a second position for heating and drying, and a part of a radial area of the photoresist coating surface of the optical disk master at the second position. A heating / drying device for an optical disc master, comprising: heating means for radiatively heating the optical disc master.
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