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JPH0760236B2 - Optical switch element - Google Patents
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JPH0760236B2 - Optical switch element - Google Patents

Optical switch element

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JPH0760236B2
JPH0760236B2 JP60003516A JP351685A JPH0760236B2 JP H0760236 B2 JPH0760236 B2 JP H0760236B2 JP 60003516 A JP60003516 A JP 60003516A JP 351685 A JP351685 A JP 351685A JP H0760236 B2 JPH0760236 B2 JP H0760236B2
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optical
electro
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隆夫 川口
秀明 足立
攻 山崎
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光通信,光応用計測,光情報処理等の分野に
関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to the fields of optical communication, optical applied measurement, optical information processing, and the like.

従来の技術 近年光ファイバ通信計測等において、光路を切り換える
光スイッチ素子が重要なキーデバイスとして研究開発さ
れてきている。なかでも、導波路光スイッチ素子は、数
GHz以上の高速応答性を示すことで特に関心が集まって
いる。特に、TIR(内部全反射)型と呼称される導波路
光スイッチは素子が小型で高速性に富むといわれ脚光を
あびている。
2. Description of the Related Art In recent years, optical switch elements for switching optical paths have been researched and developed as important key devices in optical fiber communication measurement and the like. Among them, waveguide optical switching elements
It is of particular interest for its fast response above GHz. In particular, the waveguide optical switch called TIR (Total Internal Reflection) type is in the spotlight because it is said to have a small element and high speed.

第4図には、従来例を示す。基板21上に設けられた交差
導波路23上に屈折率の低いバッファ層を介して設置した
制御電極25を有する構造でリッジ型の交差導波路23につ
ながる入力導波路24a,24bと出力導波路24c,24dとからな
る。電極25間に電圧26を印加しない場合には、入力導波
路24a(または24b)を導波する導波光22a(または22b)
が、交差導波路23を経て出力導波路24c(または24d)へ
出る。電圧26を印加して交差導波路23で、電極25のギャ
ップ直下部分で全反射をおこし、導波光22a(または22
b)を出力導波路24d(または24c)へと切りかえてい
た。(IEEEJ.Lightwave Tech.,Vol.LT−2,No.5,1984,P7
10) 発明が解決しようとする問題点 この様な従来の光スイッチ素子では、交差導波路部分
で、導波路間の結合がおこり、クロストークが劣化する
という問題点を有していた。また薄膜導波路ガリッジ型
断面形状を有するために、導波路側壁での散乱損失や、
交差導波路の交差部分での散乱損失があり、低損失光ス
イッチでは問題となっていた。
FIG. 4 shows a conventional example. Input waveguides 24a, 24b and output waveguides connected to the ridge-shaped crossing waveguide 23 with a structure having a control electrode 25 installed on the crossing waveguide 23 provided on the substrate 21 via a buffer layer having a low refractive index. It consists of 24c and 24d. If no voltage 26 is applied between the electrodes 25, guided light 22a (or 22b) guided in the input waveguide 24a (or 24b)
Output to the output waveguide 24c (or 24d) via the cross waveguide 23. A voltage 26 is applied to cause total reflection at a portion directly below the gap of the electrode 25 in the crossed waveguide 23, and the guided light 22a (or 22
b) was switched to the output waveguide 24d (or 24c). (IEEE J. Lightwave Tech., Vol.LT-2, No. 5, 1984, P7
10) Problems to be Solved by the Invention Such a conventional optical switch element has a problem that crosstalk is deteriorated due to coupling between the waveguides at the crossed waveguide portions. In addition, since it has a thin-film waveguide garridge type cross-sectional shape, scattering loss at the waveguide side wall,
There is a scattering loss at the crossing portion of the crossing waveguide, which is a problem in the low loss optical switch.

問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するため、電気光学効果を有
する薄膜上に透明誘電体薄帯を設けて入出力光導波路と
し、入出力光導波路の間に、導波路レンズを形成する様
に、バッファ層より高い屈折率を有する円形状底面を有
する回転対称体を、入出力光導波路が結像関係になる様
に配置して入出力光導波路を接続し、バッファ層の上に
制御用の電極を設け、制御用電極に電圧を印加すること
により、光出力の切り換えを行うものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention provides an input / output optical waveguide by providing a transparent dielectric ribbon on a thin film having an electro-optical effect, and introduces a conductive dielectric between the input / output optical waveguides. To form a waveguide lens, a rotationally symmetric body having a circular bottom surface having a refractive index higher than that of the buffer layer is arranged so that the input / output optical waveguides have an image forming relationship, and the input / output optical waveguides are connected to each other to form a buffer. By providing a control electrode on the layer and applying a voltage to the control electrode, the light output is switched.

作用 本発明は上記した構成により、導波路側壁の散乱が、導
波光しみ出し部分の透明誘電体薄体の側壁の散乱となる
ため散乱損失が従来のものに較べて極めて小さく、ま
た、回転対称体による導波路レンズ作用で入出力導波路
間の接続を行うため、入力,出力それぞれの光導波路間
での結合が生ぜず、クロストークの劣化がおこらず、ま
た、光の交差部分での散乱損失もなく低損失,低クロス
トークの光スイッチが実現できる。
Action The present invention has the above-described configuration, and therefore the scattering on the side wall of the waveguide becomes the scattering on the side wall of the transparent dielectric thin body in the portion where the guided light is extruded, so that the scattering loss is much smaller than that of the conventional one, and the rotational symmetry is also present. Since the input and output waveguides are connected by the waveguide lens action of the body, there is no coupling between the input and output optical waveguides, crosstalk does not deteriorate, and light is scattered at the intersections. It is possible to realize an optical switch with low loss and low crosstalk.

実施例 第1図は本発明の光スイッチ素子の一実施例を示す鳥瞰
図である。第1図において、基板1上に電気光学効果を
有する透明薄膜2を形成した後、バッファ層3と、バッ
ファ層よりも高屈折率の透明誘電体を薄帯状にしたスト
リップロード4を導波路形状に配置しバッファ層と薄膜
2でとり囲んである。ストリップロード4の直下部分の
薄膜2の実効屈折率が高くなり横方向閉じ込めが成さ
れ、ストリップロードに沿って導波される。このストリ
ップロード4直下の部分が光の入力および出力導波路と
なる。ここでは、表現の簡便のため、ストリップロード
を、単に入力,出力導波路と呼ぶことにする。
Example FIG. 1 is a bird's-eye view showing an example of the optical switching element of the present invention. In FIG. 1, after a transparent thin film 2 having an electro-optical effect is formed on a substrate 1, a buffer layer 3 and a strip load 4 in which a transparent dielectric material having a refractive index higher than that of the buffer layer is formed into a ribbon shape are formed in a waveguide shape. And is surrounded by the buffer layer and the thin film 2. The effective refractive index of the thin film 2 immediately below the strip road 4 is increased, lateral confinement is performed, and the thin film 2 is guided along the strip road 4. The portion directly below the strip road 4 serves as an optical input and output waveguide. Here, for convenience of expression, the strip load will be simply referred to as an input and output waveguide.

本実施例では、入力,出力ともに2本ずつの光導波路を
設けてある。2組の入力,出力光導波路は、底面が円形
状の回転対称体であるレンズ用ロード5を介して、面内
方向に結像位置になる様に配置されている。ここで、レ
ンズ用ロード5は、薄膜2上に形成されて、基板1とバ
ッファ層3とによりとり囲まれた導波層の実効屈折率
を、レンズ用ロード5の膜厚かつまたは屈折率を変化さ
せることにより変化させて、中央部分の実効屈折率を上
げて、周辺部へ行くにしたがい実効屈折率を下げていく
様に形成し、全体で、導波路レンズ(ルネベルグレン
ズ)を構成している。バッファ層3を介して、レンズ用
ロード5上に狭い電極ギャップ7を有する電極6を形成
してある。ギャップ7は、直下部分の薄膜2が、2組の
入出力光導波路端部を結ぶ交差線の二等分線上にくる様
に配置されている。電極6に電圧を電源9より印加した
時にスイッチすることになる。
In this embodiment, two optical waveguides are provided for both input and output. The two sets of input and output optical waveguides are arranged so as to be imaged in the in-plane direction via the lens load 5 whose bottom surface is a rotationally symmetrical body having a circular shape. Here, the lens load 5 is formed on the thin film 2, and the effective refractive index of the waveguide layer surrounded by the substrate 1 and the buffer layer 3 is set to be the film thickness and / or the refractive index of the lens load 5. By changing it, the effective refractive index of the central part is raised and the effective refractive index is lowered as it goes to the peripheral part, and the waveguide lens (Luneberg lens) is constructed as a whole. ing. An electrode 6 having a narrow electrode gap 7 is formed on the lens load 5 via the buffer layer 3. The gap 7 is arranged so that the thin film 2 immediately below is on the bisector of the intersection line connecting the ends of the two sets of input / output optical waveguides. When a voltage is applied to the electrode 6 from the power source 9, it switches.

本実施例において、電気光学材料薄膜2はPLZT(x/y/
z)薄膜 0≦x,y,z≦100,y+z=100〕を用いた。実際には、サ
ファイヤ基板1上にPLZT(28/0/100)組成のターゲット
を用いてプレーナ・マグネトロン・スパッタ法によりPL
ZT薄膜を単結晶成長させた。膜厚は、3500Åであった。
ストリップロード4にはTa2O5をスパッタし、リフトオ
フ法により、幅10μm,膜厚200Å交差角1°の2×2の
入出力導波路形成に形成した。全長は曲り導波路を含め
約10mmであった。交差部中央直径2mmの部分はストリッ
プロードはない。
In this embodiment, the electro-optical material thin film 2 is PLZT (x / y /
z) thin film 0 ≦ x, y, z ≦ 100, y + z = 100] was used. Actually, a PLZT (28/0/100) composition target was used on the sapphire substrate 1 and PL was produced by the planar magnetron sputtering method.
The ZT thin film was grown as a single crystal. The film thickness was 3500Å.
Ta 2 O 5 was sputtered on the strip load 4 and formed into a 2 × 2 input / output waveguide with a width of 10 μm and a film thickness of 200Å crossing angle of 1 ° by the lift-off method. The total length was about 10 mm including the bent waveguide. There is no strip road at the intersection center diameter 2 mm.

次に交差部中央に、逆テーパエッジを有する円形開口マ
スクを用いて、Ta2O5をスパッタして、中央部が約400Å
程になる様な、ドーム状円盤のレンズ用ロード5を形成
した。直径は約2.2mmであった。円盤の周辺部はテーパ
ー状になっており、入出力導波路部分との接続は損失な
く行なわれた。その上にバッファ層3をAlを添加したTa
2O5膜をスパッタして形成した。膜厚は、約1800Åであ
った。屈折率は、PLZT薄膜が2.6Ta2O5膜が2.08、Al2O3
膜が2.0であった。その上に、ギャップ4μm,幅20μm,
長さ2mmの平行電極を交差部中央に来る様にAlをリフト
オフ法でパターン出しした。入力光導波路となるロード
4の一端から1.3μmの半導体レーザ光を入射させて、
出力光導波からの光出力を測定すると、挿入損失は、結
合損失を除くと、膜の伝搬損失5dB/cmとほとんど同じ値
で、レンズ収差による結合損失は約0.5dBと極めてわず
かであった。従来の1°の交差型リッジ導波路では、交
差部分の損失がリッジ型にしたために約1.5dBと大きな
値が得られクロストークは1°の場合3〜5dBの値しか
得られていなかったが、本発明の実施例では15dB以上と
いう低クロストークが実現された。これは、入出力導波
路の最近接距離が、それぞれ25μmと離れているため
に、導波路間の結合がほとんどないためと考えられる。
Next, Ta 2 O 5 is sputtered in the center of the intersection using a circular opening mask with an inverse taper edge, and the center is about 400 Å
The dome-shaped disk-shaped lens load 5 was formed so as to be moderate. The diameter was about 2.2 mm. The peripheral portion of the disk was tapered, and the connection with the input / output waveguide portion was made without loss. The buffer layer 3 on top of which Ta with Al added
A 2 O 5 film was formed by sputtering. The film thickness was about 1800Å. The refractive index of PLZT thin film is 2.6Ta 2 O 5 film is 2.08, Al 2 O 3
The membrane was 2.0. On top of that, gap 4μm, width 20μm,
Al was patterned by a lift-off method so that a parallel electrode having a length of 2 mm was located at the center of the intersection. A semiconductor laser beam of 1.3 μm is made incident from one end of the load 4 which becomes the input optical waveguide,
When the optical output from the output optical waveguide was measured, the insertion loss was almost the same as the propagation loss of the film of 5 dB / cm except for the coupling loss, and the coupling loss due to the lens aberration was about 0.5 dB, which was extremely small. In the conventional 1 ° crossing ridge waveguide, the loss at the crossing portion was ridge type, so a large value of about 1.5 dB was obtained, and the crosstalk was only 3 to 5 dB at 1 °. In the embodiment of the present invention, low crosstalk of 15 dB or more was realized. It is considered that this is because there is almost no coupling between the waveguides because the closest distances between the input and output waveguides are 25 μm.

次に動作原理について実施例にもとづき説明する。第2
図および第3図は、本実施例の第1図の光スイッチの上
面図の模式図である。図では、説明の簡単のため、バッ
ファ層を除いて示している。第2図,第3図はそれぞれ
第1図の電極7に電圧を印加しない場合とした場合を示
す。第2図において、入力光導波路4aを伝搬してきた入
射光11は、端部で拡がり、レンズ5で面内方向で集光さ
れ出力光導波路4cへと入って行き直進光出力13へとな
る。ここでの入出力導波路端部での反射損失は、導波路
の実効屈折率がほとんど同じため、極めて小さい。損失
は、レンズの収差により決まる。本実施例の場合、収差
損失は0.5dBという小さな値が、散乱光測定法により確
認された。第1図において、電極6に電圧を印加した場
合第1図の電極ギャップ7の直下のPLZT薄2の部分、第
3図においては、屈折率変化領域8の部分に電界が集中
し、屈折率が低下する。カー効果のため領域8の中央部
分が特に屈折率は低くなる。第3図において、入力光導
波路4aを伝搬してきた光11は、出射したあとレンズ5に
より集光されるが、屈折率の低い領域8により全反射さ
れ、出力光導波路4dへと集光され、反射光出力15とな
る。この時のスイッチ電圧は約3Vで消光比15dBが得ら
れ、それ以上の電圧を印加しても出力はほぼ一定で、消
光比が良くなっていくのが確認された。従来の場合に
は、4V程度で消光比10dBが得られ、電圧に対して正弦波
的光出力変動がみられていたが、本実施例の場合まった
くみられなかった。これはとりもなおさず、交差部分
(レンズ部分)での光結合がないためである。過剰スイ
ッチ損失は約0.5dBであった。従来は交差部での散乱の
ため約1dBであった。
Next, the principle of operation will be described based on examples. Second
FIG. 3 and FIG. 3 are schematic views of the top view of the optical switch of FIG. 1 of this embodiment. In the figure, the buffer layer is omitted for simplicity of explanation. 2 and 3 show the case where no voltage is applied to the electrode 7 of FIG. 1, respectively. In FIG. 2, the incident light 11 propagating through the input optical waveguide 4a spreads at the end portion, is condensed in the in-plane direction by the lens 5, enters the output optical waveguide 4c, and goes to the straight light output 13. The reflection loss at the input / output waveguide ends is extremely small because the effective refractive indices of the waveguides are almost the same. The loss depends on the aberration of the lens. In the case of this example, a small aberration loss of 0.5 dB was confirmed by the scattered light measurement method. In FIG. 1, when a voltage is applied to the electrode 6, the electric field is concentrated in the portion of the PLZT thin layer 2 immediately below the electrode gap 7 in FIG. 1, and in FIG. Is reduced. Due to the Kerr effect, the central portion of the region 8 has a particularly low refractive index. In FIG. 3, the light 11 propagating through the input optical waveguide 4a is condensed by the lens 5 after being emitted, but is totally reflected by the region 8 having a low refractive index and condensed on the output optical waveguide 4d. The reflected light output is 15. It was confirmed that the extinction ratio of 15 dB was obtained at a switch voltage of about 3 V, and the output was almost constant even when a higher voltage was applied, and the extinction ratio improved. In the conventional case, an extinction ratio of 10 dB was obtained at about 4 V, and a sinusoidal optical output variation with respect to the voltage was observed, but this was not observed at all in this example. This is because there is no optical coupling at the intersection (lens portion). The excess switch loss was about 0.5 dB. Conventionally, it was about 1 dB due to scattering at the intersection.

本実施例では、結局、クロストーク15dB以上、スイッチ
電圧3V消光比15dB,挿入損失5dB,スイッチ損失0.5dBが得
られ、従来のものに較べて、クロストーク10dB以上、消
光比で5dB以上、挿入損失で1dB、スイッチ損失で0.5dB
の改善が得られた。また、スイッチ電圧も3Vと従来より
1V低くなり、特性も安定している。スイッチ電圧は、本
発明の場合入出力導波路の交差角を小さくすればする程
小さくなりクロストークも劣化しない。従来では、交差
角が小さくなると、クロストークが多くなり、2°以下
には仲々できなかった。
In the present embodiment, after all, a crosstalk of 15 dB or more, a switch voltage of 3 V, an extinction ratio of 15 dB, an insertion loss of 5 dB, and a switch loss of 0.5 dB were obtained. Loss 1dB, Switch loss 0.5dB
Improved. Also, the switch voltage is 3 V, which is
It is 1V lower and the characteristics are stable. In the present invention, the switch voltage becomes smaller as the crossing angle of the input / output waveguides becomes smaller, and the crosstalk does not deteriorate. In the past, when the crossing angle became small, crosstalk increased, and it was not possible to stay below 2 °.

なお本実施例では、電気光学材料としてPLZT(28/0/10
0)のターゲット組成から得られたPLZT膜について述べ
たが、電気光学特性を示すすべての組成のものを使用す
ることができる。ストリップロードおよびレンズ用ロー
ドにTa2O5を用い、バッファ層にAl2O3を添加したTa2O5
を用いたが、これらに限定することなく、Nb2O5,Al
2O3,酸化イットリウム,酸化チタニウム,SiO2等々電
気光学薄膜より屈折率が低く透明な膜であれば何でもよ
い。
In this example, PLZT (28/0/10
Although the PLZT film obtained from the target composition of 0) was described, any composition having electro-optical characteristics can be used. Using Ta 2 O 5 in the strip loading and lens load, Ta 2 O 5 added with Al 2 O 3 in the buffer layer
However, without being limited to these, Nb 2 O 5 , Al
2 O 3 , yttrium oxide, titanium oxide, SiO 2, etc. may be any transparent film having a lower refractive index than the electro-optic thin film.

発明の効果 本発明により、従来のものにくらべクロストークが極め
て小さく、1°の交差角のもので、10dB以上の改善が得
られ、交差角をさらに小さくしてもクロストーク劣化は
みられない。また、それに伴いスイッチ電圧も小さくで
きる。従来では、交差角を小さくすると、電圧光出力特
性が波うち、消光比のあまりとれない使いにくいスイッ
チとなっており、2°程度が実用的な値であったが、本
発明では1°でも低電圧(3V)高消光比(15dB以上)が
得られ、更に消光比をおとさず交差角を小さくすること
が可能である。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, crosstalk is much smaller than that of the conventional one, and an improvement of 10 dB or more can be obtained at a crossing angle of 1 °. Crosstalk deterioration is not observed even if the crossing angle is further reduced. . In addition, the switch voltage can be reduced accordingly. Conventionally, when the crossing angle is made small, the voltage / light output characteristic is a wavy and difficult to use switch that does not have a large extinction ratio, and about 2 ° is a practical value. A low voltage (3V), high extinction ratio (15 dB or more) is obtained, and the crossing angle can be reduced without reducing the extinction ratio.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の光スイッチ素子の一実施例を示す鳥瞰
図、第2図および第3図は同素子の上面を示す模式図
で、第2図は電圧印加しない時の、第3図は電圧印加時
のものを示す。第4図は従来の光スイッチ素子の概略平
面図である。 1……基板、2……電気光学材料薄膜、3……バッファ
層、4,4a,4b,4c,4d……ストリップロード、5……レン
ズ用ロード、6……電極、7……電極ギャップ、8……
屈折率変化領域、11……入射光、12,14……伝搬光、13
……直進光出力、15……反射光出力、22a,22b,22c,22d
……入出力光導波路、23……交差導波路。
FIG. 1 is a bird's-eye view showing an embodiment of the optical switching element of the present invention, FIGS. 2 and 3 are schematic views showing the upper surface of the element, and FIG. 2 is a diagram when no voltage is applied. The figure shows that when voltage is applied. FIG. 4 is a schematic plan view of a conventional optical switch element. 1 ... Substrate, 2 ... Electro-optical material thin film, 3 ... Buffer layer, 4,4a, 4b, 4c, 4d ... Strip load, 5 ... Lens load, 6 ... Electrode, 7 ... Electrode gap , 8 ……
Refractive index changing region, 11 …… incident light, 12,14 …… propagating light, 13
...... Straight light output, 15 …… Reflected light output, 22a, 22b, 22c, 22d
...... Input / output optical waveguide, 23 …… Cross waveguide.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 攻 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭56−109306(JP,A) 実開 昭54−162248(JP,U) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Osamu Yamazaki 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-56-109306 (JP, A) (JP, U)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に形成した電気光学効果を有する薄
膜を用いて成る光スイッチ素子において、前記電気光学
効果を有する薄膜上に、透明誘電体薄膜であるバッファ
層と、前記バッファ層よりも屈折率が高く、前記電気光
学効果を有する薄膜中を伝搬する導波光の横方向閉じ込
めを行う透明誘電体薄帯と、前記電気光学効果を有する
薄膜中を伝搬する導波光の横方向の集光を行う導波路レ
ンズ作用を有し円形状底面を有する回転対称体とを前記
電気光学効果を有する薄膜と前記バッファ層との間に形
成し、前記透明誘電体薄帯が、前記回転対称体をはさん
で1組以上対向しかつそれぞれ対向した前記透明誘電体
薄帯の端部が結像関係にある様に配置され、前記バッフ
ァ層上にギャップを有する光路切り換え用の制御電極を
設け、前記制御電極間に電圧を印可して、前記電気光学
効果を有する薄膜の屈折率を低下させることにより、前
記ギャップ近傍の実効屈折率を下げて、前記回転対称体
に全反射領域を作ることを特徴とする光スイッチ素子。
1. An optical switch element using a thin film having an electro-optical effect formed on a substrate, wherein a buffer layer which is a transparent dielectric thin film and a buffer layer which is a transparent dielectric thin film are provided on the thin film having an electro-optical effect. A transparent dielectric ribbon for confining the guided light propagating in the thin film having a high refractive index and having the electro-optical effect in the lateral direction, and a lateral condensing of the guided light propagating in the thin film having the electro-optical effect. And a rotationally symmetric body having a circular bottom surface having a waveguide lens function for performing the above-mentioned operation, is formed between the thin film having the electro-optical effect and the buffer layer, and the transparent dielectric ribbon forms the rotationally symmetric body. One or more pairs of sandwiching transparent dielectric ribbons are arranged so that the ends of the transparent dielectric ribbons facing each other are in an imaging relationship, and a control electrode for switching an optical path having a gap is provided on the buffer layer. Control power By applying a voltage in between to lower the refractive index of the thin film having the electro-optical effect, the effective refractive index in the vicinity of the gap is lowered, and a total reflection region is formed in the rotationally symmetric body. Optical switch element.
【請求項2】電気光学効果を有する薄膜がPLZT系薄膜で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ス
イッチ素子。
2. The optical switch element according to claim 1, wherein the thin film having an electro-optical effect is a PLZT type thin film.
JP60003516A 1985-01-11 1985-01-11 Optical switch element Expired - Fee Related JPH0760236B2 (en)

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JP60003516A JPH0760236B2 (en) 1985-01-11 1985-01-11 Optical switch element

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