JPH0776865B2 - 回折格子パターンを有するディスプレイの作成方法 - Google Patents
回折格子パターンを有するディスプレイの作成方法Info
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- JPH0776865B2 JPH0776865B2 JP1305716A JP30571689A JPH0776865B2 JP H0776865 B2 JPH0776865 B2 JP H0776865B2 JP 1305716 A JP1305716 A JP 1305716A JP 30571689 A JP30571689 A JP 30571689A JP H0776865 B2 JPH0776865 B2 JP H0776865B2
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- laser beam
- light
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- grating pattern
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- G03H1/26—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
- G03H1/30—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique discrete holograms only
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- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は微小な回折格子（グレーティング）をドット毎
に２次元平面に配置することにより形成されるディスプ
レイの作成方法に関するものである。
に２次元平面に配置することにより形成されるディスプ
レイの作成方法に関するものである。
＜従来の技術＞ 従来、２光束干渉による微小な干渉縞を、次々と感光材
料上に露光する方法は、知られている。露光時に干渉縞
（以下、回折格子とする）のピッチ（以下、空間周波数
とする）、方向、光強度等を変化させたものである。
料上に露光する方法は、知られている。露光時に干渉縞
（以下、回折格子とする）のピッチ（以下、空間周波数
とする）、方向、光強度等を変化させたものである。
このような回折格子パターンを有するディスプレイ及び
その作成方法は、特開昭60−156004号公報に開示されて
いる。
その作成方法は、特開昭60−156004号公報に開示されて
いる。
＜発明が解決しようとする課題＞ 上記２光束干渉による方法では、レーザー光をビームの
まま干渉させていた。このため、レーザービームの強度
分布が、回折格子に直接影響していた。つまり、強度分
布がガウス型の分布では、回折格子の中心が露光オーバ
ーになる傾向があった。
まま干渉させていた。このため、レーザービームの強度
分布が、回折格子に直接影響していた。つまり、強度分
布がガウス型の分布では、回折格子の中心が露光オーバ
ーになる傾向があった。
また、レーザービームの感光材料上での形は円形で、そ
の径も限られていた。このため、１つのパターンを形成
するために多くの時間が必要であった。
の径も限られていた。このため、１つのパターンを形成
するために多くの時間が必要であった。
本発明は、上記の如くの問題を解決すべくなされたもの
で、回折格子パターンを構成する各ドットの強度分布が
均一で、各ドットの大きさや形状を任意に変化させ、し
かも短時間で回折格子パターンの作成を可能にすること
を目的とする。
で、回折格子パターンを構成する各ドットの強度分布が
均一で、各ドットの大きさや形状を任意に変化させ、し
かも短時間で回折格子パターンの作成を可能にすること
を目的とする。
なお、本明細書中においては、回折格子とドットとは同
義語であり、大きさや形状の制約を受けるものではな
く、以後両者を混在して用いることとする。
義語であり、大きさや形状の制約を受けるものではな
く、以後両者を混在して用いることとする。
＜課題を解決するための手段＞ 上記目的を達成すべくなされた本発明は、パターンの形
成に用いるレーザービームを、リファレンス光となるレ
ーザービームと、シグナル光となるレーザービームとに
分割し、前記リファレンス光およびシグナル光を、拡げ
られた平行光として交錯させ、前記感光材料直前に配置
されたマスクにより、対応する部分のみを透過させて干
渉させることにより、任意の大きさ、任意の形状のドッ
トを形成することを特徴とする回折格子パターンを有す
るディスプレイの作成方法である。
成に用いるレーザービームを、リファレンス光となるレ
ーザービームと、シグナル光となるレーザービームとに
分割し、前記リファレンス光およびシグナル光を、拡げ
られた平行光として交錯させ、前記感光材料直前に配置
されたマスクにより、対応する部分のみを透過させて干
渉させることにより、任意の大きさ、任意の形状のドッ
トを形成することを特徴とする回折格子パターンを有す
るディスプレイの作成方法である。
＜作用＞ レーザービームを拡げ、マスクによって一部分を選択
し、干渉させるため、均一な回折格子からなるドットの
作成が可能である。また、マスクの形状を変化させるこ
とにより、任意の形状、任意の大きさのドットが作成可
能である。
し、干渉させるため、均一な回折格子からなるドットの
作成が可能である。また、マスクの形状を変化させるこ
とにより、任意の形状、任意の大きさのドットが作成可
能である。
＜実施例１＞ 第１図のような光学系において、マスクとして第４図に
示すものの一部を使用する例について説明する。
示すものの一部を使用する例について説明する。
レーザー光源から発したレーザービームはシャッター
（16）を通り、全反射ミラー（24）により光路を変え
て、ハーフミラー（22）に入射する。そして、ハーフミ
ラー（22）により、リファレンス光とシグナル光に分割
される。
（16）を通り、全反射ミラー（24）により光路を変え
て、ハーフミラー（22）に入射する。そして、ハーフミ
ラー（22）により、リファレンス光とシグナル光に分割
される。
リファレンス光はミラー（26）を通り、凸レンズ（4
0）、（44）によって拡げられ、平行光となり、ミラー
（30）を通って、マスク（12）に入射する。
0）、（44）によって拡げられ、平行光となり、ミラー
（30）を通って、マスク（12）に入射する。
もう一方の、シグナル光は、ミラー（28）、（32）を通
り、凸レンズ（42）、（46）により拡げられ、平行光と
なりマスク（12）に入射する。マスク（12）上で２本の
平行光は交錯するように調整されている。
り、凸レンズ（42）、（46）により拡げられ、平行光と
なりマスク（12）に入射する。マスク（12）上で２本の
平行光は交錯するように調整されている。
２本の光がマスク（12）、つまり第４図の星形を覆って
いれば、乾板（14）には、星形の回折格子が記録され
る。この時の露光時間はシャッター（16）により調整さ
れる。
いれば、乾板（14）には、星形の回折格子が記録され
る。この時の露光時間はシャッター（16）により調整さ
れる。
また、この光学系において、ミラー（30）を調整するこ
とにより、任意のピッチを持つ回折格子を作成すること
が可能である。
とにより、任意のピッチを持つ回折格子を作成すること
が可能である。
第２図と第３図を参照して、本発明の工程を説明する。
まず、ステップＡに示すように、コンピュータに画像デ
ータを入力する。入力データから、マスクの選択と露光
位置のデータを発生させ、次に光学系のＸ−Ｙステージ
を原点に移動させる（ステップＢ、Ｃ）。露光する位置
にステージを移動し、マスク（12）の使用する部分の位
置を合わせる（ステップＤ、Ｅ）。光学系のシャッター
（10）を制御し、露光を行なう（ステップＦ）。この段
階で、１つのドットの作成工程は終了する。次に、デー
タが終了したかどうかの判断をする（ステップＧ）。終
了していないときはステップＤに戻り、ステップＤ、
Ｅ、Ｆ、Ｇを繰り返す。こうして、複数の様々な形状の
ドットから成る回折格子パターンを形成する。
まず、ステップＡに示すように、コンピュータに画像デ
ータを入力する。入力データから、マスクの選択と露光
位置のデータを発生させ、次に光学系のＸ−Ｙステージ
を原点に移動させる（ステップＢ、Ｃ）。露光する位置
にステージを移動し、マスク（12）の使用する部分の位
置を合わせる（ステップＤ、Ｅ）。光学系のシャッター
（10）を制御し、露光を行なう（ステップＦ）。この段
階で、１つのドットの作成工程は終了する。次に、デー
タが終了したかどうかの判断をする（ステップＧ）。終
了していないときはステップＤに戻り、ステップＤ、
Ｅ、Ｆ、Ｇを繰り返す。こうして、複数の様々な形状の
ドットから成る回折格子パターンを形成する。
＜発明の効果＞ レーザービームを拡げ、マスクを通して干渉させること
により、均一な回折格子からなるドットが形成される。
また、ドットの大きさ、形状が任意であるため、パター
ンを短時間で作成可能である。
により、均一な回折格子からなるドットが形成される。
また、ドットの大きさ、形状が任意であるため、パター
ンを短時間で作成可能である。
図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図は本
発明の光学系を示す概略図、第２図は本発明の工程を示
す構成図、第３図は本発明の工程を示す流れ図、第４図
は本発明におけるマスクの一実施例を示す平面図であ
る。 10……レーザービーム 12……マスク 14……フォトレジスト乾板 16……シャッター 22……ミラー、24……ハーフミラー 26……ミラー、28……ミラー 30……ミラー、32……ミラー 40……凸レンズ、42……凸レンズ 44……凸レンズ、46……凸レンズ
発明の光学系を示す概略図、第２図は本発明の工程を示
す構成図、第３図は本発明の工程を示す流れ図、第４図
は本発明におけるマスクの一実施例を示す平面図であ
る。 10……レーザービーム 12……マスク 14……フォトレジスト乾板 16……シャッター 22……ミラー、24……ハーフミラー 26……ミラー、28……ミラー 30……ミラー、32……ミラー 40……凸レンズ、42……凸レンズ 44……凸レンズ、46……凸レンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−156004（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−63902（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−193104（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】レーザービームを、リファレンス光となる
レーザービームと、シグナル光となるレーザービームと
に分割し、各々のレーザービームを平行光として拡げた
後、Ｘ−Ｙステージ上に載置された感光材料上の同位置
に、あらかじめ設定した角度で入射させて干渉させるこ
とによって、感光材料の表面にパターン状の回折格子を
所望に配置し、回折格子パターンからなるディスプレイ
を作成する方法であって、 シャッターの開閉によって、前記レーザービームによる
露光・非露光を制御し、前記Ｘ−Ｙステージを順次移動
させることによって、感光材料の表面にパターン状の回
折格子を配置する位置を制御すると共に、 拡げられた平行光である前記リファレンス光およびシグ
ナル光を、感光材料の直前に配置されたマスクの開口に
対応する部分のみを透過させて干渉させることを特徴と
する回折格子パターンを有するディスプレイの作成方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305716A JPH0776865B2 (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 回折格子パターンを有するディスプレイの作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305716A JPH0776865B2 (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 回折格子パターンを有するディスプレイの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03164789A JPH03164789A (ja) | 1991-07-16 |
| JPH0776865B2 true JPH0776865B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=17948490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1305716A Expired - Fee Related JPH0776865B2 (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 回折格子パターンを有するディスプレイの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0776865B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60156004A (ja) * | 1984-01-12 | 1985-08-16 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子露光装置 |
| JPS61193104A (ja) * | 1985-02-22 | 1986-08-27 | Hitachi Ltd | 回折格子の製造方法 |
| JPH0812283B2 (ja) * | 1987-05-21 | 1996-02-07 | 凸版印刷株式会社 | 回折格子露光装置 |
-
1989
- 1989-11-24 JP JP1305716A patent/JPH0776865B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03164789A (ja) | 1991-07-16 |
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