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JPH0777080B2 - Sense amplifier circuit - Google Patents
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JPH0777080B2 - Sense amplifier circuit - Google Patents

Sense amplifier circuit

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JPH0777080B2
JPH0777080B2 JP9688185A JP9688185A JPH0777080B2 JP H0777080 B2 JPH0777080 B2 JP H0777080B2 JP 9688185 A JP9688185 A JP 9688185A JP 9688185 A JP9688185 A JP 9688185A JP H0777080 B2 JPH0777080 B2 JP H0777080B2
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memory cell
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channel mos
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博史 保田
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置におけるセンス増幅回路に関す
る。
The present invention relates to a sense amplifier circuit in a semiconductor memory device.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明はセンス増幅回路において、メモリセルに流れる
電流とダミー用MOSトランジスタの電流を比較し、かつ
メモリセル及びダミー用MOSトランジスタの電流を比例
増幅して比較することにより、安定した動作と高速度を
実現したものである。
According to the present invention, in a sense amplifier circuit, a current flowing in a memory cell is compared with a current of a dummy MOS transistor, and the currents of a memory cell and a dummy MOS transistor are proportionally amplified and compared, so that stable operation and high speed are achieved. Is realized.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般にメモリセルが1コのMOSトランジスタで構成され
る半導体記憶装置では、半導体製造工程上、もしくは、
フローティングゲート構造のメモリセル等では、そのゲ
ートに電子を注入する等によって、メモリセルであるMO
Sトランジスタのシキイ値電圧を変化させることによっ
てメモリセルのデータを書き込んでいる。又、メモリセ
ルとその出力線を接続するか否かによってデータを書き
込む場合であっても、MOSトランジスタが接続されてい
るか否かで、前記シキイ値電圧の変化と同等の動作でデ
ータを読み出す構成となっている。
Generally, in a semiconductor memory device in which a memory cell is composed of one MOS transistor, in the semiconductor manufacturing process, or
In a floating gate structure memory cell, etc., the MO
The data of the memory cell is written by changing the threshold voltage of the S transistor. Further, even when data is written depending on whether the memory cell and its output line are connected or not, the data is read by the same operation as the change in the threshold voltage depending on whether the MOS transistor is connected or not. Has become.

従来このような半導体記憶装置では、1982IEEEソリッド
−ステート サーキット コンファレンス ダイジェス
ト P182に示されているようにメモリセルの能力と負荷
MOSトランジスタの能力により電圧変換して検出する構
成となっている。前記従来例を説明するためその主要部
を第2図に示す。ここで、メモリセル2はNチャネルMO
Sトランジスタで構成されている場合の例である。第2
図において、1は電源端子、3はメモリセル2を選択す
るワード線、4はビット線15を選択するNチャネルMOS
トランジスタ、5はデコーダの出力線、6,10はNチャネ
ルMOSトランジスタ、7はビット線15を充電するための
PチャネルMOSトランジスタ、8はビット線15をメモリ
セルのデータに対して安定化するための検出用Nチャネ
ルMOSトランジスタ、9は前記安定化検出回路の負荷用
PチャネルMOSトランジスタ、17はその帰還信号、11は
メモリセルのデータ検出用負荷PチャネルMOSトランジ
スタ、13はデータ検出用MOSインバータを構成するPチ
ャネルMOSトランジスタ、14は同様にNチャネルMOSトラ
ンジスタ、16はデータ検出端子、18は出力端子である。
今、メモリセル2が低シキイ値状態にあり、ワード線3
及びデコーダ出力線5が高レベルとなり、メモリセル2
が選択されると、ビット線15の電位が低い場合、ビット
線電位検出回路の出力17が高レベルとなりNチャネルMO
Sトランジスタ6を介してPチャネルMOSトランジスタ7
によってビット線が充電される。そして、ビット線電位
検出回路及びNチャネルMOSトランジスタ6,10によって
決まる電位に安定化し、この時、メモリセルの電流はN
チャネルMOSトランジスタ6及び10のサイズ比によって
分割されて流れる。NチャネルMOSトランジスタ10の能
力はそのソース電位とゲート電位17及びサイズによって
決まり、負荷用PチャネルMOSトラジスタ11はこの時の
NチャネルMOSトランジスタ10の能力より低く設定され
ているため検出端子16は低レベル側に移動し、出力端子
18は高レベルとなる。次にメモリセル2のシキイ値電圧
が高くOFF状態にあると、前記ビット線の電位状態から
さらに充電され、ビット線電位安定化回路の出力17が下
り、NチャネルMOSトランジスタ6及び10が、基板効果
によってOFFとなる電位で安定する。この時NチャネルM
OSトランジスタ10はOFFであり、データ検出点16は負荷
用MOSトランジスタ11によって高レベル側に引き上げら
れ、出力端子18は低レベルとなる。このように、メモリ
セルに書き込まれたシキイ値電圧の状態に対して、デー
タを検出するものである。
Conventionally, in such a semiconductor memory device, as shown in 1982 IEEE Solid-State Circuit Conference Digest P182, the capacity and load of the memory cell are
It is configured to detect the voltage by converting it according to the capability of the MOS transistor. FIG. 2 shows the main part of the conventional example for explaining the example. Here, the memory cell 2 is an N channel MO.
This is an example in the case of being composed of S transistors. Second
In the figure, 1 is a power supply terminal, 3 is a word line that selects a memory cell 2, and 4 is an N-channel MOS that selects a bit line 15.
Transistors, 5 are decoder output lines, 6 and 10 are N-channel MOS transistors, 7 is a P-channel MOS transistor for charging the bit line 15, and 8 is for stabilizing the bit line 15 against the data of the memory cell. Detection N-channel MOS transistor, 9 is a load P-channel MOS transistor of the stabilization detection circuit, 17 is its feedback signal, 11 is a memory cell data detection load P-channel MOS transistor, and 13 is a data detection MOS inverter. Is a P-channel MOS transistor, 14 is an N-channel MOS transistor, 16 is a data detection terminal, and 18 is an output terminal.
Now, the memory cell 2 is in a low threshold value state, and the word line 3
Also, the decoder output line 5 goes high and the memory cell 2
Is selected, if the potential of the bit line 15 is low, the output 17 of the bit line potential detection circuit becomes high level and the N channel MO
P-channel MOS transistor 7 via S-transistor 6
Charges the bit line. Then, the potential is stabilized at a potential determined by the bit line potential detection circuit and the N-channel MOS transistors 6 and 10, and at this time, the current of the memory cell is N
The flow is divided according to the size ratio of the channel MOS transistors 6 and 10. The capability of the N-channel MOS transistor 10 is determined by its source potential, gate potential 17 and size, and the load P-channel MOS transistor 11 is set lower than the capability of the N-channel MOS transistor 10 at this time. Move to the level side, output terminal
18 is high level. Next, when the threshold voltage of the memory cell 2 is high and in the OFF state, the bit line is further charged from the potential state of the bit line, the output 17 of the bit line potential stabilizing circuit goes down, and the N-channel MOS transistors 6 and 10 are connected to the substrate. It stabilizes at the potential that is turned off by the effect. N channel M at this time
The OS transistor 10 is OFF, the data detection point 16 is pulled up to the high level side by the load MOS transistor 11, and the output terminal 18 becomes low level. In this way, the data is detected depending on the state of the squeeze value voltage written in the memory cell.

〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕[Problems and Objectives to be Solved by the Invention]

しかし、前述のセンス増幅回路では、データ検出点16に
は、メモリセルに流れる電流をNチャネルMOSトランジ
スタ6及び10で分割された値しか流れない。又、検出点
16の振幅は、メモリセル2がOFF時のNチャネルMOSトラ
ンジスタ10のソース電位とほぼ等しい値から電源電位ま
でしか振れず、しかも、前記OFF時の電位をビット線電
位安定化回路の設定により下げていくと、メモリセルが
ON時のビット線電位も下り、メモリセルに流れる電流が
小さくなってしまう。その結果、検出点の振幅はどうし
ても電源電位よりに設定されてしまう。そしてこの検出
点の電位を検出するMOSインバータの反転電圧は、検出
点の振幅のほぼ中間に設定され、その結果PチャネルMO
Sトランジスタ13はNチャネルMOSトランジスタ14より非
常に大きなサイズとなってしまう。そして、検出点16の
負荷容量の増大となり、前述の検出点16の電流と合わ
せ、動作速度が遅くなってしまう。又、NチャネルMOS
トランジスタ10の能力、すなわちメモリセル2の能力と
PチャネルMOSトランジスタ11の能力比較となるため、
製造上のバラツイに対して充分な余裕が必要となり、そ
の結果、PチャネルMOSトランジスタ11の能力は小さく
設定する必要があり、検出点16の高レベルへの動作がさ
らに遅くなってしまう。
However, in the above-described sense amplifier circuit, only the value obtained by dividing the current flowing through the memory cell by the N-channel MOS transistors 6 and 10 flows at the data detection point 16. Also, the detection point
The amplitude of 16 swings only from a value approximately equal to the source potential of the N-channel MOS transistor 10 when the memory cell 2 is OFF to the power supply potential, and the potential when OFF is lowered by setting the bit line potential stabilizing circuit. Memory cell
The bit line potential when turned on also drops, and the current flowing through the memory cell becomes small. As a result, the amplitude of the detection point is inevitably set to be higher than the power supply potential. The inversion voltage of the MOS inverter that detects the potential of this detection point is set to approximately the middle of the amplitude of the detection point, and as a result, the P channel MO
The S transistor 13 becomes much larger than the N channel MOS transistor 14. Then, the load capacitance at the detection point 16 increases, and the operation speed becomes slower together with the current at the detection point 16 described above. Also, N channel MOS
Since the capability of the transistor 10, that is, the capability of the memory cell 2 and the capability of the P-channel MOS transistor 11 are compared,
A sufficient margin is required for manufacturing variations, and as a result, the capacity of the P-channel MOS transistor 11 needs to be set to a small value, which further slows down the operation of the detection point 16 to a high level.

そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、メモリセルの電流に制限される
ことなく、検出点での電流を増大させ、又、検出点の負
荷容量を小さくし、高速化をはかることにあり、さらに
は、製造時のバラツキに対しても安定に動作するセンス
増幅回路を得ることにある。
Therefore, the present invention solves such a problem, and an object of the present invention is to increase the current at the detection point without limiting the current of the memory cell and to reduce the load capacitance at the detection point. The purpose is to reduce the size and increase the speed, and further to obtain a sense amplifier circuit that operates stably against variations in manufacturing.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のセンス増幅回路は、メモリセルは、前記メモリ
セルに接続されるビット線と、前記ビット線の電位に応
じて導通状態が制御される第1のトランジスタと、電源
端子と前記ビット線との間に接続され、前記第1のトラ
ンジスタを介して前記ビット線の電流を検出する第2の
トランジスタと、前記第2のトランジスタと並列に接続
され、前記第1のトランジスタを介して前記ビット線を
充電する第3のトラジスタと、前記メモリセルと同等の
特性を有するダミーセルと、電源端子と前記ダミーセル
との間に接続され、前記ダミーセルに流れる電流を検出
する第4のトランジスタと、前記第2のトランジスタと
共に第1のカレントミラー回路を構成する第5のトラン
ジスタと、前記第4のトランジスタと共に第2のカレン
トミラー回路を構成する第6のトランジスタとを有し、
前記第5のトランジスタと前記第6のトランジスタに流
れる電流を比較するカレントミラー型の差動増幅回路と
を備えることを特徴とする。
In the sense amplifier circuit of the present invention, the memory cell includes a bit line connected to the memory cell, a first transistor whose conduction state is controlled according to the potential of the bit line, a power supply terminal, and the bit line. A second transistor connected between the first transistor and the second transistor for detecting the current of the bit line via the first transistor, and the second transistor connected in parallel with the second transistor via the first transistor. A third transistor for charging the memory cell, a dummy cell having characteristics similar to those of the memory cell, a fourth transistor connected between a power supply terminal and the dummy cell, and detecting a current flowing through the dummy cell; A fifth transistor that forms a first current mirror circuit with the transistor and a second current mirror circuit with the fourth transistor. And a sixth transistor that,
It is characterized by comprising a current mirror type differential amplifier circuit for comparing currents flowing through the fifth transistor and the sixth transistor.

〔実施例〕〔Example〕

第1図に本発明の実施例を示す。第1図において、19は
メモリセル2の電流検出用PチャネルMOSトランジス
タ、20は前記電流検出用PチャネルMOSトラジスタ19の
電圧レベルを変換するためのPチャネルMOSトランジス
タ、21は同様にNチャネルMOSトランジスタ、25はメモ
リセル2と同等の特性を有するダミーMOSトランジス
タ、24はダミーMOSトランジスタ25の電流検出用Pチャ
ネルMOSトランジスタ、23は電流比較回路を構成するP
チャネルMOSトランジスタ、22は同様にNチャネルMOSト
ランジスタである。第1図において、従来例第2図と同
一の番号の素子及び接点は同一の働きをするものとす
る。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 19 is a P-channel MOS transistor for current detection of the memory cell 2, 20 is a P-channel MOS transistor for converting the voltage level of the P-channel MOS transistor 19 for current detection, and 21 is also an N-channel MOS. A transistor, 25 is a dummy MOS transistor having characteristics similar to those of the memory cell 2, 24 is a P-channel MOS transistor for current detection of the dummy MOS transistor 25, and 23 is P constituting a current comparison circuit.
Channel MOS transistor 22 is also an N channel MOS transistor. In FIG. 1, elements and contacts having the same numbers as those in FIG. 2 of the conventional example have the same functions.

今、メモリセル2のシキイ値電圧が低い場合で、ビット
線15が低レベルにあった時、ワード線3及びデコーダ出
力線5が高レベルとなり、メモリセル2が選択される
と、ビット線安定化回路の帰還用端子17は高レベルとな
り、NチャネルMOSトランジスタ6を介してPチャネルM
OSトランジスタ19によってビット線15を充電する。そし
てビット線安定化回路によって決まる電位にビット線電
位がなり、この時PチャネルMOSトランジスタ19にはメ
モリセル2と同じ電流が流れ、その電流に相当するゲー
トソース間電位が電源端子1との間に発生する。次にP
チャネルMOSトランジスタ20のゲート−ソース間電位も
PチャネルMOSトランジスタ19と同じになり、Pチャネ
ルMOSトランジスタ20には、MOSトランジスタのサイズ比
に相当する電流が流れる。ここで、PチャネルMOSトラ
ジスタ19,20はメモリセル2より電流能力として充分大
きく設定されているものとする。例えば、PチャネルMO
Sトランジスタ20が、19に対してチャネル長が等しく、
チャネル幅が2倍であって、同特性のMOSトランジスタ
である場合、PチャネルMOSトランジスタ20にはメモリ
セル2の2倍の電流が流れる。そして、NチャネルMOS
トランジスタ21によって、前記電流が置き換えられ、さ
らにNチャネルMOSトランジスタ22に前記と同様にMOSト
ランジスタ21の電流に対して比例する電流が流れ、結果
として、NチャネルMOSトラジスタ22はメモリセル2の
比例倍の電流能力となる。同様に、ダミーMOSトランジ
スタ25の電流は、PチャネルMOSトランジスタ24,23のサ
イズ比によって、PチャネルMOSトランジスタ23の電流
能力として与えられ、PチャネルMOSトランジスタ23の
電流能力がNチャネルMOSトランジスタ22の電流能力よ
り小さくなるように設定されているため、その出力端子
は低レベルとなり、出力端子26は高レベルとなる。メモ
リセル2のシキイ値電圧が高い場合、同様な動作によっ
て、出力端子26が低レベルになることは容易に理解でき
るであろう。第1図において、PチャネルMOSトランジ
スタ20は19と同程度の大きさでよく、NチャネルMOSト
ランジスタ21は、その移動度の高さから小さいMOSトラ
ンジスタサイズでよく、NチャネルMOSトランジスタ21
から22への比を大きくしても負荷容量を増やすことなく
電流能力の増大ができ、その結果、動作速度の高速化が
可能である。又、メモリセル2から電流比較回路のNチ
ャネルMOSトランジスタ22までの電流比は、それぞれ同
特性のMOpトランジスタのサイズ比だけで決まり、同様
にダミーMOSトランジスタ25からPチャネルMOSトランジ
スタ23までの電流比も、同特性のMOSトランジスタのサ
イズ比で決まることから、製造上のバラツキをほとんど
考慮することなく安定に作ることが可能である。
Now, when the threshold voltage of the memory cell 2 is low, when the bit line 15 is at the low level, the word line 3 and the decoder output line 5 are at the high level, and when the memory cell 2 is selected, the bit line becomes stable. The feedback terminal 17 of the digitalization circuit becomes high level, and the P-channel M
The bit line 15 is charged by the OS transistor 19. Then, the bit line potential becomes a potential determined by the bit line stabilizing circuit, at this time, the same current as that of the memory cell 2 flows in the P-channel MOS transistor 19, and the gate-source potential corresponding to the current is between the power supply terminal 1 and Occurs in. Then P
The gate-source potential of the channel MOS transistor 20 also becomes the same as that of the P-channel MOS transistor 19, and a current corresponding to the size ratio of the MOS transistor flows through the P-channel MOS transistor 20. Here, it is assumed that the P channel MOS transistors 19 and 20 are set to have a current capacity sufficiently larger than that of the memory cell 2. For example, P channel MO
S-transistor 20 has the same channel length as 19
When the channel width is double and the MOS transistors have the same characteristics, a current that is twice as large as that of the memory cell 2 flows through the P-channel MOS transistor 20. And N channel MOS
The current is replaced by the transistor 21, and a current proportional to the current of the MOS transistor 21 flows in the N-channel MOS transistor 22 as described above. As a result, the N-channel MOS transistor 22 is proportional to the memory cell 2. Current capacity of. Similarly, the current of the dummy MOS transistor 25 is given as the current capacity of the P-channel MOS transistor 23 by the size ratio of the P-channel MOS transistors 24 and 23, and the current capacity of the P-channel MOS transistor 23 is the same as that of the N-channel MOS transistor 22. Since it is set to be smaller than the current capacity, its output terminal becomes low level and the output terminal 26 becomes high level. It can be easily understood that the output terminal 26 becomes low level by similar operation when the threshold voltage of the memory cell 2 is high. In FIG. 1, the P-channel MOS transistor 20 may have a size similar to that of 19, and the N-channel MOS transistor 21 may have a small MOS transistor size because of its high mobility.
Even if the ratio from 22 to 22 is increased, the current capacity can be increased without increasing the load capacity, and as a result, the operating speed can be increased. The current ratio from the memory cell 2 to the N-channel MOS transistor 22 of the current comparison circuit is determined only by the size ratio of the MOp transistors having the same characteristics. Similarly, the current ratio from the dummy MOS transistor 25 to the P-channel MOS transistor 23 is the same. However, since it is determined by the size ratio of the MOS transistors having the same characteristics, it is possible to stably manufacture the MOS transistors with little consideration given to manufacturing variations.

第3図に本発明の他の実施例を示す。27はビット線を充
電するためのNチャネルMOSトランジスタであり、その
他は第1図の同一番号の素子と同一機能をする。第3図
においては、PチャネルMOSトランジスタの働きは、メ
モリセル2の電流検出機能だけとなり、第1図の実施例
に対して充分電流能力を小さくすることが可能であり、
その結果、PチャネルMOSトランジスタ20の電流能力を
小さくすることができる。ここで、PチャネルMOSトラ
ンジスタ19,20の電流能力は低下するが、このMOSトラン
ジスタに流れる電流はメモリセル2の電流で決まること
から、電流値は第1図のそれに対して変化せず、電流能
力すなわちサイズの低下によって負荷容量をさらに低減
することが可能であり、さらにNチャネルMOSトランジ
スタ21,22についても同様なことが言えるため、電流値
を換えることなく負荷容量を低下することが可能であ
り、さらに高速化ができる。
FIG. 3 shows another embodiment of the present invention. Reference numeral 27 is an N-channel MOS transistor for charging the bit line, and the other functions are the same as those of the elements having the same numbers in FIG. In FIG. 3, the function of the P-channel MOS transistor is only the current detection function of the memory cell 2, and the current capacity can be made sufficiently smaller than that of the embodiment of FIG.
As a result, the current capacity of the P channel MOS transistor 20 can be reduced. Here, the current capability of the P-channel MOS transistors 19 and 20 is reduced, but the current flowing in this MOS transistor is determined by the current of the memory cell 2, so the current value does not change from that of FIG. It is possible to further reduce the load capacitance by decreasing the capacity, that is, the size, and the same can be said for the N-channel MOS transistors 21 and 22, so that the load capacitance can be reduced without changing the current value. Yes, it can be faster.

実施例の電流比較回路は、メモリセルの電流検出後、電
圧レベル変換なしに差動増幅回路でも可能であり、又ダ
ミーMOSトランジスタから電流検出回路に至る回路をメ
モリセルのそれと一致させ、メモリセルが選択された時
の初期状態を一定化することで、ビット線電位が安定す
る前に比較出力を得ることも可能である。
The current comparison circuit of the embodiment can be a differential amplifier circuit without voltage level conversion after detecting the current of the memory cell, and the circuit from the dummy MOS transistor to the current detection circuit can be matched with that of the memory cell. By making the initial state constant when is selected, it is possible to obtain a comparison output before the bit line potential stabilizes.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように本発明によれば、メモリセル及びダミーMO
Sトランジスタの電流検出を行ない、それを比例増幅し
て比較回路に入力することによって、比較回路部での電
流を大きくすることができ、高速化が可能である。又、
従来例はメモリセルの電流を取り出すためにNチャネル
MOSトランジスタ10のソース及びゲートの2本の信号が
必要であるが、本発明のよれば、電流検出端子の1本の
信号でよく、センス増幅回路部に選択機能をもたせる場
合等ではパターン化が容易に行なえる。さらに、メモリ
セルとダミーMOSトランジスタを同等の特性とすること
で、比較回路での電流能力とメモリセル及びダミーMOS
トランジスタを同等の特性とすることで、比較回路での
電流能力とメモリセル及びダミーMOSトランジスタの電
流能力は同一の特性のMOSトランジスタのサイズ比だけ
で決まり、バラツキ等をほとんど考慮することなく安定
に作ることができる。
As described above, according to the present invention, the memory cell and the dummy MO are
By detecting the current of the S-transistor, amplifying it proportionally and inputting it to the comparison circuit, the current in the comparison circuit section can be increased and the speed can be increased. or,
The conventional example uses N-channel to extract the current of the memory cell.
Two signals of the source and the gate of the MOS transistor 10 are required, but according to the present invention, only one signal of the current detection terminal is required, and patterning can be performed when the sense amplifier circuit section has a selection function. Easy to do. Furthermore, by making the memory cell and the dummy MOS transistor have the same characteristics, the current capacity in the comparison circuit and the memory cell and the dummy MOS transistor are
By making the transistors have the same characteristics, the current capacity of the comparison circuit and the current capacity of the memory cell and dummy MOS transistor are determined only by the size ratio of the MOS transistors of the same characteristics, and can be stable without considering variations. Can be made.

また、充電用のトランジスタを設けることにより、各ト
ランジスタの負荷容量を低減できるために、高速化が可
能である。
Further, since the load capacity of each transistor can be reduced by providing the charging transistor, the speed can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明によるセンス増幅回路の一例図 第2図は従来のセンス増幅回路図 第3図は本発明によるセンス増幅回路の一例図 2……メモリセル 25……ダミーMOSトランジスタ 8,9……ビット線電位安定化回路を構成するMOSトランジ
スタ 10,11……データ検出用MOSトランジスタ 20,21……電圧レベル変換用MOSトランジスタ 22,23……電流比較回路を構成するMOSトランジスタ 19,24……電流検出用MOSトランジスタ
1 is an example of a sense amplifier circuit according to the present invention. FIG. 2 is a conventional sense amplifier circuit diagram. FIG. 3 is an example of a sense amplifier circuit according to the present invention. ...... MOS transistors that compose the bit line potential stabilization circuit 10,11 …… Data detection MOS transistors 20,21 …… Voltage level conversion MOS transistors 22,23 …… MOS transistors that compose the current comparison circuit 19,24 ... MOS transistor for current detection

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】メモリセルと、 前記メモリセルに接続されるビット線と、 前記ビット線の電位に応じて導通状態が制御される第1
のトランジスタと、 電源端子と前記ビット線との間に接続され、前記第1の
トランジスタを介して前記ビット線の電流を検出する第
2のトランジスタと、 前記第2のトランジスタと並列に接続され、前記第1の
トランジスタを介して前記ビット線を充電する第3のト
ランジスタと、 前記メモリセルと同等の特性を有するダミーセルと、 電源端子と前記ダミーセルとの間に接続され、前記ダミ
ーセルに流れる電流を検出する第4のトランジスタと、 前記第2のトランジスタと共に第1のカレントミラー回
路を構成する第5のトランジスタと、前記第4のトラン
ジスタと共に第2のカレントミラー回路を構成する第6
のトランジスタとを有し、前記第5のトランジスタと前
記第6のトランジスタに流れる電流を比較するカレント
ミラー型の差動増幅回路と、 を備えることを特徴とするセンス増幅回路。
1. A memory cell, a bit line connected to the memory cell, and a conduction state controlled according to a potential of the bit line.
A second transistor that is connected between the power supply terminal and the bit line, and that detects the current of the bit line through the first transistor, and is connected in parallel with the second transistor, A third transistor that charges the bit line via the first transistor, a dummy cell having the same characteristics as the memory cell, and a current flowing in the dummy cell connected between a power supply terminal and the dummy cell A fourth transistor for detecting, a fifth transistor forming a first current mirror circuit together with the second transistor, and a sixth transistor forming a second current mirror circuit together with the fourth transistor.
And a current mirror type differential amplifier circuit that compares the currents flowing in the fifth transistor and the sixth transistor.
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