JPH0793502B2 - Method for manufacturing multilayer laminate - Google Patents
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
本発明は、金属板を基板とする多層積層板の製造方法に
関するものである。The present invention relates to a method for manufacturing a multi-layer laminate using a metal plate as a substrate.
大量の情報をより高速に処理することが求められている
スーパーコンピューターなどにおいては、電子部品の実
装や配線の高密度化に伴ってプリント配線板上での発熱
量が非常に増大している。そこで装置の信頼性を高める
ために熱放散性の優れたプリント配線板が要求されてお
り、このためにプリント配線板として使用される多層積
層板において、金属板を基板としたものが特公昭56−37
720号公報や特公平1−29078号公報等において提供され
ている。これらの多層積層板では金属板の高い熱伝導性
によって優れた熱放散性を得ることができるのである。 そしてこの金属板を基板とする多層積層板は、通孔を設
けた金属板を用いて製造されている。 すなわち、第4図(a)に示すように金属板4にスルー
ホール5を形成すべき箇所においてスルーホール5の径
よりも大きな通孔3を設けておき、この複数枚の金属板
4をプリプレグ1を介して重ねると共に加熱加圧して積
層成形をおこなうことによって、第4図(b)に示すよ
うにプリプレグ1に含浸した樹脂を硬化させて各金属4
を積層接着させると共にプリプレグ1に含浸した樹脂を
金属板4の各通孔3に流入充填させて硬化させる。この
とき必要に応じて、各金属板4間に内層回路板は積層さ
れ、また最外層に銅箔などの金属箔が積層される。次ぎ
に通孔3に充填させた樹脂21の部分において第4図
(c)のようにスルーホール5を穿孔加工し、そしてこ
のスルーホール5の内周にスルーホールメッキを施すこ
とによって、第4図(d)のように樹脂21で金属板4と
の間の絶縁性が確保されたスルーホールメッキ層6を形
成することができるのある。In supercomputers and the like, which are required to process large amounts of information at higher speeds, the amount of heat generated on a printed wiring board is greatly increasing with the mounting of electronic components and the densification of wiring. Therefore, in order to improve the reliability of the device, a printed wiring board with excellent heat dissipation is required. For this reason, the multilayer laminated board used as a printed wiring board uses a metal plate as a substrate. −37
It is provided in Japanese Patent Publication No. 720 and Japanese Patent Publication No. 1-29078. In these multi-layer laminated plates, excellent heat dissipation can be obtained due to the high heat conductivity of the metal plate. The multi-layer laminated plate using this metal plate as a substrate is manufactured using a metal plate provided with through holes. That is, as shown in FIG. 4A, a through hole 3 having a diameter larger than the diameter of the through hole 5 is provided in the metal plate 4 at a position where the through hole 5 is to be formed. By laminating through 1 and heating and pressurizing to perform laminating molding, the resin impregnated in the prepreg 1 is cured as shown in FIG.
And the resin impregnated in the prepreg 1 is made to flow into and fill each through hole 3 of the metal plate 4 and hardened. At this time, the inner layer circuit board is laminated between the metal plates 4 and a metal foil such as a copper foil is laminated on the outermost layer, if necessary. Next, the through hole 5 is perforated in the portion of the resin 21 filled in the through hole 3 as shown in FIG. 4 (c), and the inner periphery of the through hole 5 is plated with the through hole to form a fourth hole. As shown in FIG. 3D, the resin 21 may be used to form the through-hole plating layer 6 that ensures insulation with the metal plate 4.
しかしこのものにあって、スルーホール5の内周面のう
ちプリプレグ1の部分を穿孔した箇所ではプリプレグ1
の基材が露出して凹凸面となっているが、金属板4の通
孔3内はプリプレグ1から流入充填された樹脂21のみで
あるために、通孔3の部分を穿孔した箇所では樹脂21が
露出した平滑面となっており、スルーホールメッキ層6
の密着性が悪く、第4図(d)に示すように通孔3の箇
所においてスルーホール5の内周からスルーホールメッ
キ層6が剥がれてフクレ22が発生し、スルーホール信頼
性が低下するおそれがあるという問題があった。 また、通孔3内にプリプレグ1から流入充填される樹脂
21と金属板4とはその熱膨張率が大きく異なるために、
成形後の冷却時などにおいて樹脂21は金属板4より大き
く収縮して樹脂21に内部応力が生じて、第4図(d)に
示すように通孔3内の樹脂21にクラック23が発生し、こ
のクラック23の箇所からメッキ液が浸入し、絶縁不良に
なるおそれがある等の問題があった。 特に、情報を高速処理する場合には大容量電力が必要で
あり、電力が大容量化すると発熱が高くなるために放熱
特性が高く要求されることになり、また金属板4を導体
として電力供給するにあたって、このような大容量電力
を流す場合には金属板4の板厚が厚いほうが電力損失が
少ない。このために、金属板4として厚さ0.15mm以上の
ものを用いることが必要であり、実用的には0.2〜3mm程
度の厚いものが好ましい。しかしこのときには金属板4
の通孔3に充填される樹脂21の部分も厚みが大きくなる
ために、通孔3の箇所でのスルーホール5の内周からの
スルーホールメッキ層6の上記のような剥がれや、通孔
3内に充填される樹脂21の上記のようなクラック発生が
著しくなるおそれがあった。 本発明は上記の点に鑑みてなされたものであって、スル
ーホールの内周に設けるスルーホールメッキの剥がれを
低減することができ、また通孔に充填した樹脂にクラッ
クが発生することを低減することができ、特に金属板の
厚みが厚い場合でもこれらを低減することができる多層
積層板の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。However, in this structure, the prepreg 1 is not formed in the inner peripheral surface of the through hole 5 where the portion of the prepreg 1 is perforated.
Although the base material is exposed and has an uneven surface, the resin 21 is filled in the through hole 3 of the metal plate 4 from the prepreg 1 only at the portion where the through hole 3 is punched. 21 is an exposed smooth surface, and the through-hole plating layer 6
4 is inferior, the through hole plating layer 6 is peeled from the inner periphery of the through hole 5 at the position of the through hole 3 as shown in FIG. There was a problem of fear. In addition, the resin that flows into and fills the through hole 3 from the prepreg 1.
Since the coefficient of thermal expansion of 21 and the metal plate 4 are greatly different,
At the time of cooling after molding, the resin 21 shrinks more than the metal plate 4 and internal stress is generated in the resin 21, and cracks 23 occur in the resin 21 in the through holes 3 as shown in FIG. 4 (d). However, there is a problem in that the plating solution may enter from the crack 23, resulting in poor insulation. In particular, when processing information at high speed, a large amount of electric power is required, and when the amount of electric power is increased, heat generation increases, so that high heat dissipation characteristics are required, and power is supplied using the metal plate 4 as a conductor. In this regard, when such a large capacity power is supplied, the thicker the metal plate 4 is, the smaller the power loss is. Therefore, it is necessary to use a metal plate 4 having a thickness of 0.15 mm or more, and a metal plate having a thickness of about 0.2 to 3 mm is preferable for practical use. However, at this time, the metal plate 4
Since the thickness of the resin 21 filled in the through hole 3 also becomes large, the above-mentioned peeling of the through hole plating layer 6 from the inner periphery of the through hole 5 at the through hole 3 and the through hole There was a possibility that the above-mentioned cracks would be significantly generated in the resin 21 filled in the No. 3 resin. The present invention has been made in view of the above points, it is possible to reduce the peeling of the through-hole plating provided on the inner periphery of the through-hole, and reduce the occurrence of cracks in the resin filled in the through-hole. It is an object of the present invention to provide a method for producing a multi-layer laminated plate, which is capable of reducing the thickness of the metal plate even when the metal plate is thick.
本発明に係る多層積層板の製造方法は、積層成形の際の
加熱加圧によって溶けず且つ電気絶縁性を有する針状あ
るいは略球状の充填剤を配合した熱硬化性樹脂を不織布
に含浸して調製されるプリプレグ1と、積層成形の際の
加熱加圧によって溶けず且つ電気絶縁性を有する針状あ
るいは略球状の充填剤を配合した樹脂2が充填された通
孔3を有する複数枚の金属板4とを複数枚づつ交互に重
ね、これを積層成形して一体化した後に、所要の通孔3
内の樹脂2の部分においてスルーホール5を穿孔するこ
とによって多層積層板を製造するにあたって、上記金属
板4として表面が粗面化された銅板を用いると共に、上
記複数枚の金属板4のうち少なくとも一枚が電力供給用
の導体を形成するための厚み0.5〜3mmのものであること
を特徴とするものであり、以下本発明を詳細に説明す
る。 金属板4としては、熱伝導性や電気絶縁性が優れる銅板
を使用することができるが、金属板4には第1図(a)
に示すようにスルーホール5を形成する箇所において通
孔3がドリル加工やパンチング加工等で穿設してある。
この通孔3はスルーホール5の直径よりも大きな直径で
形成されるものである。 一般的に銅板の表面は平滑な鏡面の状態にあり、このよ
うに表面が平滑であるとプリプレグ1の樹脂との密着性
が不十分になって、スルーホールのドリル加工時や半田
による加熱時などに銅板とプリプレグ1の樹脂との間で
界面剥離が生じ易くなる。このために、銅板の表面に粗
面を形成して樹脂との密着性を高めるようにするのが好
ましく、銅板の表面に酸化処理あるいは電解メッキ処理
を施すことによって粗面化することができる。 銅板の酸化処理は、酸化剤を含むアルカリ性水溶液で銅
板を処理することによっておこなわれるものであり、酸
化剤としては例えば亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)など
の塩素酸塩や過硫酸カリウム(K2S2O8)などが主として
用いられる。そして、酸化剤を含むアルカリ性水溶液で
銅板を処理すると、まずアルカリの作用で Cu→Cu(OH)2 (I) の反応が生じ、さらに酸化剤の作用で Cu(OH)2→CuO+H2O (II) の反応が生じ、銅板の表面に銅酸化物の皮膜が生成され
る。具体的には次のような反応が生じていると考えられ
る。 2Cu+NaClO22H2O→2Cu(OH)2+NaCl Cu(OH)2→CuO+H2O (III) このように銅板の表面に銅酸化物の皮膜を生成させるこ
とによって、銅板の表面を粗面化することができるもの
であるが、酸化によって酸化第二銅(CuO)のみが生成
されているときには皮膜は黒色を呈し、このときの処理
を黒化処理(あるいはブラックオキサイド処理)と称さ
れており、また酸化第二銅(CuO)の外に酸化第一銅(C
u2O)も含む場合には皮膜は茶色を呈し、このときの処
理をブラウン処理(あるいはブラウンオキサイド処理)
と称されている。2万倍の電子顕微鏡写真によって観察
すると、黒化処理された銅板の表面は長い針状の酸化物
結晶構造になっており、またブラウン処理された銅板の
表面は微粒子状の結晶構造になっている。ここで、黒化
処理による針状結晶は高温の作用で崩壊し易いためい、
エポキシ多層板では特に問題はないがポリイミド多層板
のように積層工程において高温を作用させる必要がある
場合には、ブラウン処理で銅板の表面処理をおこなうよ
うにするのが好ましい。 黒化処理とブラウン処理とはアルカリ溶液中の酸化剤に
よって銅板の表面を酸化処理するという点において本質
的には同じものであり、処理濃度や処理温度、処理時間
等の処理条件が異なるだけである。一般的に処理条件
(特に温度)が緩やかであるとブラウン処理となる。酸
化処理用のアルカリ性水溶液としては、亜塩素酸ナトリ
ウム(NaClO2)と水酸化ナトリウム(NaOH)、リン酸ナ
トリウム(Na3PO4)の三成分溶液が用いるのが最も一般
的であるが、黒化処理する場合にはその濃度は次の範囲
が好ましく、また液温は60〜95℃に設定し、処理時間は
2〜5分間程度に設定するのが好ましい。 亜塩素酸ナトリウム 30〜90g/ 水酸化ナトリウム 10〜20g/ リン酸ナトリウム 5〜15g/ またブラウン処理する場合には、その濃度は次の範囲が
好ましく、また液温は40〜80℃に設定し、処理時間は2
〜10分間程度に設定するのが好ましい。 亜塩素酸ナトリウム 30〜150g/ 水酸化ナトリウム 5〜20g/ リン酸ナトリウム 2〜10g/ ブラウン処理用のアルカリ性水溶液としてはこの亜塩素
酸ナトリウムと水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウムの
三成分系のものの他に、例えば次のような組成のものを
用いることもできる。 亜塩素酸ナトリウム 175 g/ 水酸化ナトリウム 20 g/ 炭酸ナトリウム 16.5g/ リン酸ナトリウム 4.7g/ (液温65℃、処理時間4分間) 亜塩素酸ナトリウム 135 g/ 水酸化ナトリウム 15.6g/ 硝酸ナトリウム 11.8g/ (液温75℃、処理時間5分間) また一般に、黒化処理された酸化皮膜は耐ハローイング
性が劣るが、ブラウン処理された酸化皮膜は耐ハローイ
ング性に優れる。ここで、金属銅は化学的親和力が水素
より低く、直接的には水酸化物または金属塩類を造らな
いが、酸化第二銅の状態では塩酸や硫酸と反応して金属
塩を造って溶解する。従って例えばスルーホールメッキ
処理の際にメッキ液中の塩酸や硫酸などにスルーホール
の内周面に露出する酸化皮膜中の酸化第二銅が溶解し、
この溶解箇所においてスルーホールの内周から酸が浸入
する溶解侵食が発生する。この溶解侵食した部分がハロ
ーのように白く見えるのでこの現象をハローイングとい
う。このようなハローイングが生じるとスルーホールの
内周と銅板との間の電気絶縁性が確保できずスルーホー
ル信頼性が低下することになる。そしてこのようなハロ
ーイングを防ぐためには、上記のようにして銅板の表面
を酸化処理した後に、さらにこれを還元処理して酸に溶
解し易い酸化第二銅を酸に溶解しにくい酸化第一銅やさ
らに金属銅に還元させるようにすればよい。還元剤とし
ては、ホルマリン、次亜燐酸化合物、ヒドラジン化合
物、水素化ホウ酸ナトリウム、ボラザン化合物、ボラゼ
ン化合物、アミンボラン化合物、金属亜鉛を溶解すると
きに発生する発生期状態の水素などを用いることができ
る。 また銅板の電解メッキ処理は、例えば特公昭45−34245
号公報に開示される方法に準じておこなうことができる
ものであり、酸性銅電解浴を使用して銅板を陰極として
通電することによって、銅板の表面に粉状銅を析出させ
て銅板の表面に粗面を形成することができる。電解浴は
硫酸銅と硫酸を主成分とする組成で形成されるが、粉状
銅を銅板の表面に析出させるためには電解浴の限界電流
密度以上の電流密度で通電する必要があり、陰極には烈
しく水素が析出するために粉状銅は銅板に密着せず粉状
銅で銅板の表面を粗面化することができない。このため
に電解浴にはさらに硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝
酸アンモニウム、硝酸銅、硝酸などの水溶性硝酸塩を添
加して用いる。硝酸塩を添加すると硝酸イオンがアンモ
ニウムイオンに還元されるために陰極に析出する水素を
奪い取ってしまい、陰極の銅板上に水素気泡が形成され
ることを防止して、銅板の表面に強固な密着性を有する
粉状銅を析出させることができるものである。このよう
に電解メッキによってこぶ付けして粗面化する場合、粗
面の状態は高温の作用で何等影響を受けるようなおそれ
はないために、前記の酸化処理による粗面が崩壊するよ
うな高温を作用させる必要のあるときに有効である。
尚、銅板の表面に析出させるメッキ金属としては特に限
定されるものではないが、銅が最も実用的である。 また、金属板4の厚みは0.5〜3mmに設定される。金属板
4を導体として大容量電力を供給する場合や、放熱特性
を良好に得る場合には、金属板4として板厚が0.5mm以
上のものを用いる必要があるのである。 一方、上記のように形成される金属板4を多層に積層す
るために用いるプリプレグ1は、基材に熱硬化性樹脂の
ワニスを含浸させて乾燥することによって調製されるも
のであるが、本発明では基材として不織布を用いる。基
材としてはガラス織布など織布を用いることが一般的で
あるが、織布は繊維の束を縦糸と横糸として織ったもの
であるために組織がち密であり、含浸させる樹脂を十分
な量で保有させることが難しい。ここで、後述のように
積層成形する際にプリプレグ1に含浸した熱硬化性樹脂
の一部が金属板4の通孔3へと流れ、この樹脂の流でプ
リプレグ1の基材が通孔3側に引っ張られるが、基材と
してガラス織布を用いた場合には上記のように樹脂を十
分な量で保有させることができないために、通孔3側へ
引っ張られた基材は通孔3の周縁角部において金属板4
を接触し、この接触箇所では基材と金属板4との間に樹
脂が殆ど介在されていず、加熱や機械的な力が作用する
とこの部分にミーズリングと称される白化が発生するお
それがある。このために本発明では基材として不織布を
用いてプリプレグ1を調製するものであり、不織布のな
かでも電気特性や耐熱特性等を考慮すればガラス繊維の
不織布を用いるのが好ましい。不織布は繊維を抄くなど
することによって形成されるために組織が疎であり、含
浸される樹脂を十分な量で保有することができる。ガラ
ス不織布とガラス織布と比較した場合、同じ厚みのプリ
プレグ1ではガラス織布を基材とするものは含浸できる
樹脂量が少なく、樹脂含量は50〜60重量%程度である
が、ガラス不織布を基材とするものは含浸できる樹脂量
を多くすることができ、樹脂含量を90重量%以上にする
ことができるものである。基材として不織布を用いてこ
のようにプリプレグ1に含浸される樹脂の量を多くする
と、積層成形する際にプリプレグ1から金属板4の通孔
3に樹脂が流れて基材が引っ張られても、基材には十分
な量の樹脂が保有されているために基材と金属板4との
間ににはこの樹脂が介在されて基材が金属板4の通孔3
の周縁角部に直接接触するようなことを少なくすること
ができるものであり、この結果ミーズリングの発生を抑
えることができるようになったのである。 また、織布は繊維の束を織ったものであるために樹脂は
繊維の束内には浸透しにくく、この部分での樹脂と繊維
との密着性が不十分になっている場合が多く、このよう
な織布を基材として用いると、積層成形後のスルーホー
ルの孔明け加工の際の外部応力で繊維と樹脂との界面が
剥離し、スルーホールメッキを施す際にメッキ液がこの
界面から浸入してメッキ染み込みが発生するおそれがあ
る。これに対して、不織布では繊維が束になっていない
ために樹脂の浸透が良好で繊維と樹脂との密着が十分で
あり、外部応力に対して強く繊維と樹脂との界面剥離が
生じにくいため、このようなメッキ染み込みの発生を低
減することができる。しかし、不織布においても他の理
由によってメッキ染み込みが発明するおそれのあること
が指摘されるに至っている。 すなわち不織布、特にガラス不織布の製造は従来から次
のようにしておこなわれている。まずガラス繊維を水や
カップリング剤、界面活性剤等と混合し、これをタンク
から金網ベルト上に送って水分を脱水することによって
ガラス繊維を集積させてマットに形成し、次にこのガラ
ス繊維のマットの上にバインダーを溶剤に混合して調製
したバインダー溶液をスプレーし、この後に加熱乾燥す
ることによって、ガラス繊維をバインダーで集合させた
ガラス不織布を得ることができるのである。ガラス不織
布はこのようにガラス繊維をバインダーで集合させて作
成されるものであるために、ガラス繊維の表面にはバイ
ンダーが付着されており、このガラス不織布を基材とし
て樹脂を含浸させてプリプレグ1を調製すると、ガラス
繊維と含浸される樹脂との間にバインダーが介在される
ことになり、ガラス繊維の表面に樹脂が直接密着されな
い部分が生じ、カップリング剤によってガラス繊維の表
面に樹脂を化学的に結合させることができない部分が生
じるおそれがある。特に上記のようにガラス繊維のマッ
トの上にバインダーをスプレーする工法ではバインダー
はガラス不織布の表面に多く付着して膜を張ったような
状態になり、ガラス不織布の表層部でこのような問題は
発生し易くなる。そしてこのようにバインダーによって
ガラス繊維の表面と樹脂との密着性が悪くなると、この
部分に界面剥離が生じてメッキ染み込みが生じることに
なるのである。 このような問題を防ぐために、本発明においてはガラス
不織布10としては第3図のように、ガラス繊維7を集積
したマット8をバインダー溶液9中に浸漬してマット8
中にバインダー溶液9を含浸させた後に、これを乾燥す
ることによって製造したものを用いるのが好ましい。す
なわち、ガラス繊維7はロービング等をカットした短繊
維状のものを用いるものであり、例えば直径が10〜13
μ、長さが数mm〜数十mm程度(特に10〜20mmが好まし
い)のものを用いることができる。このガラス繊維7を
水やカップリング剤、界面活性剤等と混合した後に、こ
のガラス繊維7をタンク14から金網ベルト15の上に一定
の厚みになるように供給し、金網ガラス15の内方から減
圧等して水分16を抜く脱水をおこなうことによってガラ
ス繊維7が集積されたマット8を作成する。そしてこの
マット8を金網ベルト15と共に浸漬槽18に導入してバイ
ンダー溶液9中に浸漬させる。バインダー溶液9はアク
リル系樹脂やエポキシ系樹脂などのバインダーと必要に
応じて配合されるシラン系等のカップリング剤とを溶剤
に溶解することによって調製される。溶剤としてはメチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブ、トルエン、アルコ
ールなどを用いることができるが、バインダー溶液9の
濃度はガラス不織布10に含有させるバインダーの量など
に応じて任意に設定される。上記のようにしてガラス繊
維7のマット8をバインダー溶液9中に浸漬させてマッ
ト8内にバインダー溶液9を浸透させた後に、金網ベル
ト15の駆動に従ってマット8を上下のヒーター17,17間
に通し、加熱乾燥してバインダー溶液9の溶剤を蒸発さ
せることによって、バインダーでガラス繊維7を集合結
合させたガラス不織布(ガラスペーパーとも称される)
10を得ることができるものである。このガラス不織布10
は40〜100g/m2程度の重量に作成するのが好ましい。 このようにバインダー溶液9にガラス繊維7のマット8
を浸漬させてバインダー溶液9を含浸させることによっ
て、ガラス不織布10の全体にバインダーを均一に付着さ
せることができるが、さらにこのように作成されるガラ
ス不織布10にあって、ガラス不織布10中に含有されるバ
インダーの固形分の含有量が、ガラス繊維とバインダー
との合計量の15重量%以下になるように、バインダー溶
液9の含浸量を調整するのが好ましい。ガラス不織布10
を基材として用いてプリプレグ1を作成する場合、理想
的な状態はガラス繊維7の表面にカップリング剤を介し
て含浸した樹脂が密着していることであるが、ガラス不
織布10にはバインダーが必然的に含まれており、このバ
インダーがガラス繊維7と含浸した樹脂との間に介在し
ているために、ガラス不織布10と含浸した樹脂との密着
性が悪くなるというのは既述した通りであるが、本発明
者等の試験の結果、バインダーの含有量が15重量%(特
に好ましくは12重量%)以下の量であれば、ガラス不織
布10と含浸した樹脂との間の密着性はメッキ染み込みが
発生するまでは悪くないということが判明した。そして
このようにバインダーの含有量を15重量%以下にして
も、従来のようにバインダー溶液9をマット8の上にス
プレーする場合にはガラス不織布10の表面にバインダー
が多く付着するために、このバインダーが多く付着する
部分で樹脂との密着性が悪くなってメッキ染み込みが発
生するおそれがある。このために第3図のようにバイン
ダー溶液9にガラス繊維7のマット8を浸漬させてバイ
ンダー溶液9を含浸させるバインダー含浸方式(バイン
ダーディップ方式)によって、ガラス不織布10の全体に
バインダーを均一に付着させるようにしなければならな
い。尚、ガラス不織布10のバインダーの含有率の上限は
上記のように15重量%に設定することが好ましく、この
含有率が低い程、ガラス不織布10と含浸する樹脂との密
着性を高くすることができるが、バインダーの含有率が
低くなるとガラス繊維7の集合強度が低下してガラス不
織布10に切れが発生し易くなるために、バインダーの含
有率の下限は5重量%程度に設定するのが好ましい。 上記のように作成される不織布を基材として、これに熱
硬化性樹脂を含浸させることによってプリプレグ1を調
製することができるが、含浸させる熱硬化性樹脂として
は、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂など特に限定されないが、電気的特性の面ではエ
ポキシ樹脂やポリイミド樹脂、あるいはこれらの変性樹
脂を用いるのが好ましい。また多層積層板は回路形成時
や半田時などに高温処理がなされるために、プリプレグ
1を調製するこの熱硬化性樹脂としては、ガラス転移温
度が170℃(より好ましくは180℃)以上の耐熱性に優れ
たものを用いるのが好ましい。プリプレグ1の調製に用
いられる熱硬化性樹脂としてはガラス転移温度が150℃
以下のものが一般的であるが、このものでは例えば260
℃の半田浴で30秒程度半田処理をおこなうと、熱ショッ
クでスルーホールに施したメッキ槽が剥離するなどの問
題が生じるおそれがあるために、本発明ではガラス転移
温度が170℃以上の耐熱性に優れたものを用いるのが好
ましいのである。またプリプレグ1を調製する際に、プ
リプレグ1の樹脂の半硬化状態が130℃での溶融粘度が7
0〜200ポイズ(より好ましくは100〜1000ポイズ)にな
るように調整するのが好ましい。溶融粘度が70ポイズ未
満の場合は、積層成形する際に樹脂が流れ過ぎて積層板
の板内において板厚のバラツキが大きくなって好ましく
なく、また2000ポイズを超える場合は樹脂の流れが悪く
なり過ぎて成形後の積層板内にボイドが残り易くなって
好ましくない。尚、上記半硬化状態とは、いわゆるBス
テージと称される状態を意味するものであり、加熱・加
圧すると樹脂が溶融してさらに硬化が進行するもので、
なお且つ手で触れてもべと付きのないものをいう。 しかして、第1図(a)のように通孔3を設けた金属板
4を基板として用いて多層積層板を製造するにあたって
は、まず金属板4の各通孔3内に樹脂2を充填する。こ
の樹脂2としては特に限定されるものではないが、上記
プリプレグ1の調製に用いた樹脂と同種のエポキシ樹脂
やポリイミド樹脂、これらの変性樹脂を半硬化状態で使
用するのが好ましい。通孔3に充填するこの樹脂2は充
填剤を配合して用いられるものである。この充填剤とし
ては、Al2O3、Al2O3・H2O、Al2O3・3H2O、シリカ、タル
ク、MgO、CaCO3、Sb2O3、Sb2O5、EガラスやDガラス、
Tガラス、Rガラス、Qガラスなどの球状粉末や、Eガ
ラスやDガラス、Tガラス、Rガラス、Qガラスなどの
ガラス繊維や、ケブラー(デュポン社製)、テクノーラ
(帝人社製)などのアラミド繊維等を細かく切断してす
りつぶした針状粉末を例示することができるものであ
り、これらのように積層成形の際の加熱加圧の作用で溶
けることがなく、また電気絶縁性を有するものが使用さ
れるものである。これらは単独で用いる他、二種以上を
組み合わせて用いることもできる。 球状粉末を充填剤として使用する場合には、中心直径が
15μm以上のものが好ましい。中心直径が15μm未満で
は後述する通孔3内の樹脂2のクラックの発生防止の効
果が小さく、また後述のスルーホールメッキ層6の密着
効果も十分に得られない。一方、針状粉末を充填剤とし
て使用する場合には、中心直径が10μm以上で長さが直
径の2倍以上のものが好ましい。中心直径が10μm未満
で長さが直径の2倍未満のものではクラックの防止の効
果が小さく、スルーホールメッキ層6の密着効果も十分
に得られない。尚、中心直径とは、充填剤の粒子の直径
の分布のピーク値、つまり粒子数が最も多い直径を意味
する。 充填剤は10〜1000PHR程度の範囲の配合量で樹脂2に配
合することによってクラックの防止やスルーホールメッ
キ層6の密着向上の効果を得ることができるが、充填剤
入り樹脂2の熱膨張率(樹脂が硬化した後の熱膨張率)
が、金属板4の熱膨張率との差が20ppm/℃以下になるよ
うに、すなわち充填剤入り樹脂2の熱膨張率をαR、金
属板4の熱膨張率をαMとすると、 αM−20ppm/℃≦αR≦αM+20ppm/℃ となるように、充填剤入り樹脂2に配合される充填剤の
種類や配合量を調製して設定するのが好ましい。 金属板4の通孔3への充填剤入り樹脂2の充填は、充填
剤入り樹脂2をワニス状など液状に調製して流し込むよ
うにしたり、粉末状に調製して流し込むようにしたりす
ることができるが、作業性の上では粉末状に調製して流
し込むようにするのが好ましい。粉末状に調製して流し
込む場合は、樹脂2を中心粒径が100〜350μmの粉末に
して用いるのが好ましい。樹脂2をこの粒径に粉砕した
のちに充填剤と混合するようにしてもよいが、予め樹脂
2と充填剤とをワニスの状態で混合しておき、加熱して
溶剤を取り除くと共に半硬化状態にした後にこの粒径に
粉砕することによって、充填剤が含有された樹脂2の粉
末として用いるようにするのが好ましい。樹脂2の中心
粒径が100μm未満では再凝集性が大きくなって塊状に
なり、通孔3への充填性が低下するおそれがあり、また
逆に樹脂2の中心粒径が350μmでは粒が大き過ぎて通
孔3へのち密な充填ができなくなって充填性が低下する
おそれがある。尚、本発明において中心粒径とは、樹脂
2の粒子の粒径の分布のピーク値、つまり粒子数が最も
多い粒径を意味する。粉末状態で充填剤入りの樹脂2を
金属板4の通孔3内に充填するにあたっては、第1図
(b)に示すように金属板4をプリプレグ1の上におい
て通孔3の下側の開口を塞いだ状態で、通孔3に多目に
充填剤入りの樹脂2を流し込んでスキージー19で金属板
4の上面をこすって余分なものを除去することによっ
て、各通孔3に均一に充填剤入りの樹脂2を充填するこ
とができる。 次に、上記のように通孔3に樹脂2を充填した金属板4
とプリプレグ1とを交互に積層して多層積層板Aを成形
するにあたっては、第2図(a)の層構成で金属板4と
プリプレグ1とを数枚づつ重ねると共に必要に応じて最
外層のプリプレグ1の外面に銅箔などの金属箔12を重
ね、さらに必要に応じて各金属板4間にはプリプレグ1
を介して片面プリント配線板や両面プリント配線板、多
層プリント配線板などの内層用回路を形成した内層回路
板11を重ねる。そして加熱加圧して積層成形をおこなう
ことによって、プリプレグ1に含浸した樹脂を硬化させ
て各金属板4と内層回路板11を積層接着させ、第2図
(b)に示す層構成で金属板4と内層回路板11とを交互
に積層すると共に最外層に金属箔12を積層接着した多層
積層板Aを得ることができる。このように積層成形する
際に金属板4の通孔3内に充填された樹脂2も硬化され
るものであり、またこのように金属板4内には予め樹脂
2が充填されているために、樹脂2が溶融硬化する際に
樹脂2の粉体間の空隙が埋められて通孔3内での体積が
目減りするのを補充するために若干量の樹脂がプリプレ
グ1から通孔3内に流れ込む程度であり、第4図の従来
例のように通孔3内の総てをプリプレグ1に含有される
熱硬化性樹脂で埋めるような必要がない。第4図の従来
例ではこのように通孔3内の総てをプリプレグ1に含有
される樹脂で埋めるために、通孔3に対応する部分にお
いて最外層のプリプレグ1に第4図(b)に鎖線で示す
ようなくぼみ20が生じるおそれがあるが、本発明におい
てはプリプレグ1から多量の樹脂が通孔3内に流れ込む
ことを原因としてこのようなくぼみが生じるおそれはな
い。しかも上記のように、金属板4の熱膨張率と通孔3
に充填される充填剤入り樹脂2の熱膨張率をその差が20
ppm/℃以下になるように小さく設定すれば、積層成形後
の冷却に際して金属板4と樹脂2との収縮の度合の差を
小さくすることができ、熱膨張率の差に起因して通孔3
の樹脂2の部分でくぼみが発生すること最小限に抑える
ことができる。金属板4の熱膨張率と充填剤入り樹脂2
の熱膨張率の差が20ppm/℃より大きいと、積層板の表面
のくぼみが大きくなって実用上好ましくない。このよう
に、本発明では表面のくぼみが小さく多層積層板Aを比
較的平坦な表面に形成することができるために、多層積
層板Aの表面の金属箔12をエッチングして回路形成する
にあたって、エッチングレジストの塗布などに支障が生
じないようにすることができるものである。 また、上記のように充填剤を配合することによって充填
剤入り樹脂2の冷却時の収縮を抑えることができるため
に、金属板4の通孔3に充填した充填剤入り樹脂2の成
形後の冷却の際の収縮と金属板4の収縮との差を小さく
することができるものであり、従って第4図の従来例の
ようにこの収縮の差に基づく樹脂2の内部応力で通孔3
内の充填した樹脂2にクラックが発生するようなことを
低減することができるものである。このクラックの発生
を低減するうえでも上記のように、金属板4の熱膨張率
と通孔3に充填される充填剤入り樹脂2の熱膨張率をそ
の差が20ppm/℃以下と小さく設定することが好ましい。
また、樹脂2に配合した充填剤は補強材として作用する
ことによってもこのクラックの発生を防いでいる。この
ように補強材として作用させるうえで、既述のように、
球状粉末を充填剤として使用する場合には中心直径が15
μm以上のものが好ましく、また針状粉末を充填剤とし
て使用する場合には中心直径が10μm以上で長さが直径
の2倍以上のものが好ましいのである。 ここで、上記のように金属板4の通孔3に充填した充填
材入り樹脂2が成形の際の目減りする分はプリプレグ1
中から通孔3に流れる樹脂で補充されることになるが、
このように樹脂がプリプレグ1から補充される結果、通
孔3内の充填剤の比率が小さくなると、上記のような充
填剤による通孔3内の樹脂2のクラック防止等の効果を
期待できなくなるおそれがあり、またプリプレグ1から
樹脂が補充された部分では充填剤の含有率が低くなって
通孔3内で充填剤の多い部分と少ない部分とができる
と、局部的に熱膨張率の差が生じてこの箇所においてク
ラックが発生するおそれがある。このために本発明で
は、プリプレグ1を調製する熱硬化性樹脂にも充填剤を
配合するようにしているのである。 この充填剤としては、上記樹脂2に配合する充填剤とし
て例示した球状粉末や針状粉末のものを用いることがで
きる。勿論、充填剤は一種単独で用いると共に複数種の
ものを組み合わせて用いることもできる。充填剤として
球状粉末を用いる場合には、中心直径が20μm以下のも
のが好ましい。また充填剤として針状粉末を用いる場合
には、中心直径が15μm以下で長さが直径の2倍以下の
ものが好ましい。中心直径が20μmを超える大きさの球
状の充填剤や、中心直径が15μmを超え、長さが直径の
2倍を超える大きさの針状の充填剤は、成形時にプリプ
レグ1の溶融樹脂が流れる際にその流れに乗って流動さ
せることが困難になり、通孔3にプリプレグ1から樹脂
を流入させて補充するにあたって、通孔3内への充填剤
の移動が不十分になり、充填剤を十分に補充できないお
それがある。プリプレグ1を調製する熱硬化性樹脂への
充填剤の配合量は、30〜150PHRの範囲に設定するのが好
ましい。充填剤の配合量が30PHR未満であると充填剤の
量が不十分で充填剤の配合による効果を十分に得ること
ができない。また充填剤の配合量が150PHRを超えると、
熱硬化性樹脂ワニスの粘度が大きくなって基材としての
不織布に熱硬化性樹脂ワニスを含浸させることが難しく
なって、プリプレグ1の作成が困難になるおそれがあ
る。 また、このように充填剤を配合した熱硬化性樹脂のワニ
スを基材に含浸させてプリプレグ1を調製するにあたっ
て、織布は組織が密であるために充填剤を内部に導入さ
せることが難しく、織布を基材として用いた場合には熱
硬化性樹脂ワニスに所定量の充填剤を配合しておいても
プリプレグ内には所定の充填剤を含ませることができな
いおそれがある。これに対して本発明のように基材とし
て不織布を用いた場合には、不織布は組織が疎であるた
めに充填剤を良好に内部に導入させることができ、多量
の充填剤を含ませたプリプレグ1を調製することが可能
になるものである。 そして、このように充填剤を配合した熱硬化性樹脂で調
製したプリプレグ1を用いることによって、成形の際に
金属板4の通孔3にプリプレグ1の熱硬化性樹脂を補充
させると同時に充填剤も補充することができるものであ
り、通孔3内の充填剤の比率が小さくなることを防ぐこ
とができると共に、通孔3内で充填剤の多い部分と少な
い部分とができることを防ぐことができ、通孔3内で局
部的に熱膨張率の差が生じることを防止してクラックの
発生を抑えることができるものである。また、プリプレ
グ1中の熱硬化性樹脂と通孔3に充填される樹脂2には
ともに充填剤が配合されているために、両者の熱膨張率
を近いものにすることができるものであり、プリプレグ
1の熱硬化性樹脂と通孔3内の樹脂2との間に層間クラ
ックが発生することを防止することができる。 以上のようにして第2図(b)のような多層積層板Aを
作成した後、ドリル加工などをおこなうことによってス
ルーホール5を穿孔する。スルーホール5は第2図
(c)に示すように、通孔3に充填した樹脂2の部分に
おいて通孔3の直径よりも小さい直径で形成されるもの
であり、従ってスルーホール5の内周と金属板4との間
には樹脂2の層が介在されて両者間の電気絶縁性は樹脂
2によって確保されることになる。尚、第2図(c)の
例では一部の金属板4にスルーホール5を貫通させるよ
うにしてあり、この金属板4から電源をとったり、アー
スをとったりすることができるようにしてある。そして
このようにスルーホール5を加工したのちに、スルーホ
ール5の内周に銅メッキなどのスルーホールメッキを施
してスルーホールメッキ層6を形成し、また金属箔12を
エッチング処理して回路を形成したりなどすることによ
って、金属板4を基板とし内層回路板11に形成された内
層回路と金属箔12の加工で形成される外層回路がそれぞ
れ設けられたプリント配線板に仕上げることができるも
のである。このものにあって、金属板4の通孔3に充填
される樹脂2中には充填剤が含有されているために、樹
脂2の部分においてスルーホール5を穿孔加工するとス
ルーホール5の内周に充填剤が露出し、スルーホール5
の内周面はこの充填剤によって凹凸面として形成される
ことになる。従って、スルーホール5の内周面が樹脂面
であっても充填剤による凹凸のアンカー効果などによっ
て、スルーホールメッキ層6の密着性を高めることがで
きるものであり、スルーホールメッキ層6がスルーホー
ル5の内周から剥がれたりすることを低減することがで
きるものである。充填剤の凹凸によってスルーホールメ
ッキ層6の密着性を高める上で、樹脂2に配合する充填
剤としては、球状充填剤の場合は中心直系が15μm以
上、針状充填剤の場合は中心直径が10μm以上で長さが
直径の2倍以上のものが好ましいのである。The method for producing a multilayer laminate according to the present invention is
A needle-shaped needle that does not melt by heat and pressure and has electrical insulation.
Rui or non-woven fabric made of thermosetting resin mixed with almost spherical filler
Prepreg 1 prepared by impregnating the
A needle-shaped needle that does not melt by heat and pressure and has electrical insulation.
A resin filled with resin 2 containing a spherical filler
Alternately stack multiple metal plates 4 with holes 3
Well, after this is laminated and integrated, the required through hole 3
A through hole 5 is punched in the resin 2 portion inside.
When manufacturing a multilayer laminate by
A copper plate having a roughened surface is used as the plate 4, and
At least one of the plurality of metal plates 4 is for power supply
Thickness of 0.5 to 3 mm to form the conductor
The present invention will be described in detail below.
It As the metal plate 4, a copper plate having excellent thermal conductivity and electrical insulation
Can be used, but the metal plate 4 is shown in FIG.
As shown in Fig.
The hole 3 is formed by drilling or punching.
This through hole 3 has a diameter larger than that of the through hole 5.
It is what is formed. Generally, the surface of a copper plate is in a state of a smooth mirror surface.
If the surface is smooth, the adhesion of the prepreg 1 to the resin
Becomes insufficient, and when drilling through holes and soldering
Between the copper plate and the resin of prepreg 1 when heating with
Interfacial peeling is likely to occur. Because of this, the surface of the copper plate
It is preferable to form a surface to increase the adhesion with the resin.
It is better to oxidize or electrolytically plate the surface of the copper plate
The surface can be roughened by applying. Oxidation treatment of copper plate is performed with an alkaline aqueous solution containing an oxidizing agent.
It is done by treating the plate,
Examples of the agent include sodium chlorite (NaClO 2 )Such
Chlorates and potassium persulfate (K 2 S 2 O 8 ) Is mainly
Used. Then, with an alkaline aqueous solution containing an oxidizing agent
When a copper plate is treated, first of all, by the action of alkali, Cu → Cu (OH) Two Reaction of (I) occurs, and Cu (OH) Two → CuO + H 2 O (II) reaction occurs and a copper oxide film is formed on the surface of the copper plate.
It Specifically, it is thought that the following reactions are occurring.
It 2Cu + NaClO 2 2H 2 O → 2Cu (OH) Two + NaCl Cu (OH) Two → CuO + H 2 O (III) In this way, a copper oxide film is formed on the surface of the copper plate.
By which the surface of the copper plate can be roughened
However, oxidation produces only cupric oxide (CuO).
The coating appears black when being treated, and the treatment at this time
Is called blackening treatment (or black oxide treatment)
In addition to cupric oxide (CuO), cuprous oxide (C
u 2 O) is also included, the film turns brown and
Brown processing (or brown oxide processing)
It is called. Observed by 20,000 times electron micrograph
Then, the surface of the blackened copper plate is a long needle-shaped oxide.
It has a crystal structure, and is made of brown-treated copper plate.
The surface has a fine-grained crystal structure. Where blackened
This is because the needle-shaped crystals produced by the treatment are likely to collapse due to the high temperature.
There is no particular problem with epoxy multilayer boards, but polyimide multilayer boards
It is necessary to apply high temperature in the laminating process like
In some cases, the surface of the copper plate will be treated with brown.
Preferably. Blackening treatment and Browning treatment are used as oxidizing agents in alkaline solutions.
Therefore, it is essential to oxidize the surface of the copper plate.
Are the same, processing concentration, processing temperature, processing time
The only difference is the processing conditions. Generally processing conditions
If the (especially temperature) is gentle, the brown processing is performed. acid
As an alkaline aqueous solution for chlorination treatment, sodium chlorite is used.
Umm (NaClO 2 ) And sodium hydroxide (NaOH), sodium phosphate
Thorium (Na 3 PO Four ) Is most commonly used
However, when blackening, the density is within the following range.
Is preferable, the liquid temperature is set to 60 to 95 ° C, and the treatment time is
It is preferable to set it for about 2 to 5 minutes. Sodium chlorite 30-90g / Sodium hydroxide 10-20g / Sodium phosphate 5-15g / In the case of browning, the concentration should be within the following range.
The liquid temperature is preferably set to 40 to 80 ° C and the treatment time is 2
It is preferable to set it for about 10 minutes. Sodium chlorite 30-150g / Sodium hydroxide 5-20g / Sodium phosphate 2-10g / As an alkaline aqueous solution for brown treatment, this chlorite
Of sodium phosphate, sodium hydroxide and sodium phosphate
In addition to the three-component system, for example, the following composition
It can also be used. Sodium chlorite 175 g / Sodium hydroxide 20 g / Sodium carbonate 16.5 g / Sodium phosphate 4.7 g / (Liquid temperature 65 ° C, processing time 4 minutes) Sodium chlorite 135 g / Sodium hydroxide 15.6 g / Sodium nitrate 11.8g / (liquid temperature 75 ℃, treatment time 5 minutes) Generally, blackened oxide film is not halo resistant.
Inferior in properties, but the brown oxide film is halo resistant
It has excellent longevity. Here, metallic copper has a chemical affinity of hydrogen.
Lower, do not make hydroxides or metal salts directly
However, in the state of cupric oxide, it reacts with hydrochloric acid and sulfuric acid to form metal.
Make salt and dissolve. So for example through-hole plating
Through holes for hydrochloric acid and sulfuric acid in the plating solution during processing
Cupric oxide in the oxide film exposed on the inner surface of
Acid penetrates from the inner circumference of the through hole at this melting point.
Dissolution erosion occurs. This dissolved and eroded part is halo
This phenomenon is called haloing because it looks white like
U When such haloing occurs, the through hole
The electrical insulation between the inner circumference and the copper plate cannot be ensured, and the through hole
Le reliability will be reduced. And such a halo
In order to prevent
Oxidation treatment, and then reduction treatment to dissolve in acid
Cuprous oxide that is difficult to dissolve and is difficult to dissolve in cupric oxide
Further, it may be reduced to metallic copper. As a reducing agent
Formalin, hypophosphite compounds, hydrazine compounds
Substance, sodium borohydride, borazane compound, boraze
Compounds, amine borane compounds, and metallic zinc
It is possible to use nascent hydrogen such as
It Further, the electrolytic plating treatment of the copper plate is performed, for example, in Japanese Patent Publication No.
Can be carried out according to the method disclosed in the publication.
The copper plate is used as a cathode by using an acidic copper electrolytic bath.
By energizing, powdery copper is deposited on the surface of the copper plate.
A rough surface can be formed on the surface of the copper plate. The electrolytic bath
Formed with a composition consisting mainly of copper sulfate and sulfuric acid, but in powder form
To deposit copper on the surface of a copper plate, the limiting current of the electrolytic bath
It is necessary to energize at a current density higher than the density, and
Powdered copper does not adhere to the copper plate because hydrogen is precipitated, and it is powdered
The surface of the copper plate cannot be roughened with copper. For this reason
In addition, the electrolytic bath should contain sodium nitrate, potassium nitrate, and
Add water-soluble nitrates such as ammonium acidate, copper nitrate, and nitric acid.
Add and use. When nitrate is added, nitrate ion
The hydrogen that is deposited on the cathode due to the reduction to the nitrogen ion
It was taken away and hydrogen bubbles were formed on the copper plate of the cathode.
And has strong adhesion to the surface of the copper plate.
The powdery copper can be deposited. like this
When roughening by bumping with electrolytic plating on the
The surface condition may be affected by high temperature.
Since it does not exist, the rough surface due to the above-mentioned oxidation treatment will collapse.
It is effective when it is necessary to apply high temperature.
The plating metal deposited on the surface of the copper plate is not particularly limited.
Although not specified, copper is the most practical. Further, the thickness of the metal plate 4 is set to 0.5 to 3 mm. Metal plate
When supplying a large amount of power with 4 as a conductor,
In order to obtain a good thickness, the thickness of the metal plate 4 should be 0.5 mm or less.
It is necessary to use the above. On the other hand, the metal plates 4 formed as described above are laminated in multiple layers.
The prepreg 1 used for the purpose is made of a thermosetting resin as a base material.
Also prepared by impregnating varnish and drying
However, a nonwoven fabric is used as the substrate in the present invention. Basis
It is common to use woven cloth such as glass woven cloth as the material.
However, woven fabric is a bundle of fibers woven as warp and weft.
Since the structure is dense, the resin to be impregnated is sufficient.
It is difficult to have a large amount. Here, as described below
Thermosetting resin with which the prepreg 1 was impregnated during lamination molding
Part of the resin flows into the through hole 3 of the metal plate 4, and the resin flows
Although the base material of the prepreg 1 is pulled toward the through hole 3 side,
If a glass woven fabric is used for the
To the side of the through hole 3 because it cannot be held in a sufficient amount
The pulled base material is attached to the metal plate 4 at the peripheral corner of the through hole 3.
The metal plate 4 between the base material and the metal plate 4 at this contact point.
Almost no fat is present, and heating or mechanical force acts
With this part, whitening called measling occurs.
It has For this reason, in the present invention, a nonwoven fabric is used as the substrate.
Prepreg 1 is prepared by using
Even if the electrical characteristics and heat resistance characteristics are taken into consideration,
It is preferable to use a non-woven fabric. Non-woven fabric is made from fibers, etc.
The tissue is sparse because it is formed by
The resin to be soaked can be retained in sufficient quantity. Gala
Compared with non-woven fabric and glass woven fabric,
Preg 1 can be impregnated with woven glass base material
Small amount of resin, resin content is about 50-60% by weight
However, the amount of resin that can be impregnated for glass based non-woven fabrics
Can be increased, and the resin content is 90% by weight or more
Is something that can be done. Use non-woven fabric as the base material
Increase the amount of resin impregnated in the prepreg 1 like
And a through hole from the prepreg 1 to the metal plate 4 when laminating
Even if the resin flows to 3 and the base material is pulled, it is sufficient for the base material.
Since a large amount of resin is stored, the base material and the metal plate 4
This resin is interposed between the base material and the through hole 3 of the metal plate 4.
To reduce the possibility of direct contact with the peripheral corners of the
As a result, the occurrence of measling is suppressed.
It was possible to get it. Also, since the woven cloth is a woven bundle of fibers, the resin is
It does not easily penetrate into the bundle of fibers, and the resin and fibers in this part
In many cases, the adhesiveness with
If a woven fabric is used as the base material, the
The interface between the fiber and the resin due to external stress during hole drilling
When peeling and applying through-hole plating, the plating solution
It may penetrate from the interface and cause plating penetration.
It On the other hand, in non-woven fabric, fibers are not bundled
Therefore, the penetration of resin is good and the adhesion between fiber and resin is sufficient.
Yes, it is strong against external stress and the interface peeling between fiber and resin does not occur.
Since it does not easily occur, the occurrence of such plating penetration is reduced.
Can be reduced. However, there are other
There is a possibility that plating penetration may be invented due to reasons
Has been pointed out. That is, the manufacture of nonwoven fabrics, especially glass nonwoven fabrics, has been
It is carried out as follows. First, the glass fiber
Mix with a coupling agent, surfactant, etc.
From the wire mesh belt to dehydrate the water
Glass fibers are accumulated to form a mat, and then this glass is
Prepared by mixing the binder with the solvent on the mat of fiber
Sprayed the binder solution, and then heat dry it.
Glass fibers were assembled with a binder by
It is possible to obtain a glass nonwoven fabric. Glass nonwoven
The cloth is made by gathering glass fibers with a binder in this way.
The surface of the glass fiber is
Is attached, and this glass non-woven fabric is used as the base material.
When prepreg 1 is prepared by impregnating it with resin,
A binder is interposed between the fiber and the resin to be impregnated
Therefore, the resin should not be directly adhered to the surface of the glass fiber.
Part of the glass fiber due to the coupling agent.
There is a portion where the resin cannot be chemically bonded to the surface.
There is a risk of twisting. Especially as described above
In the method of spraying the binder on the
Is attached to the surface of the glass non-woven fabric and forms a film.
It becomes a state, and such a problem at the surface layer part of the glass nonwoven fabric
It tends to occur. And like this with a binder
If the adhesion between the glass fiber surface and the resin deteriorates,
Interfacial peeling occurs in the part and plating penetration occurs
It will be. In order to prevent such problems, in the present invention, glass is used.
As the non-woven fabric 10, glass fibers 7 are accumulated as shown in FIG.
The mat 8 thus prepared is immersed in the binder solution 9 to form the mat 8
After impregnating the binder solution 9 therein, it is dried
It is preferable to use the one produced by You
That is, the glass fiber 7 is a short fiber obtained by cutting roving.
A fibrous material is used, for example, a diameter of 10 to 13
μ, length of several mm to tens of mm (10 to 20 mm is particularly preferable)
I) can be used. This glass fiber 7
After mixing with water, coupling agent, surfactant, etc.,
Of glass fiber 7 from tank 14 onto wire mesh belt 15
The wire mesh glass 15 to reduce the thickness from the inside.
Dehydration by removing water 16 by pressure etc.
A mat 8 in which the fibers 7 are accumulated is created. And this
The mat 8 is introduced into the dipping tank 18 together with the wire mesh belt 15 and
And soak it in a solder solution 9. Binder solution 9 is
Necessary with binders such as ril resin and epoxy resin
Solvent with silane coupling agent etc.
It is prepared by dissolving in. Methyl as a solvent
Ruethyl ketone, methyl cellosolve, toluene, alco
Although a binder or the like can be used,
Concentration is the amount of binder to be included in the glass non-woven fabric 10, etc.
It is arbitrarily set according to. Glass fiber as above
The mat 8 of the fiber 7 is dipped in the binder solution 9 to
After permeating the binder solution 9 into the
Drive the mat 15 to move the mat 8 between the upper and lower heaters 17,
And heat dry to evaporate the solvent of binder solution 9.
As a result, the glass fibers 7 are aggregated and bound by the binder.
Combined glass nonwoven fabric (also called glass paper)
You can get 10. This glass nonwoven 10
Is 40-100g / m 2 It is preferable to make it to a moderate weight. In this way, the binder solution 9 is added to the mat 8 of the glass fibers 7.
By immersing the
The binder evenly over the entire glass non-woven fabric 10.
It can be made, but it is further created in this way
Of the glass non-woven fabric 10 contained in the glass non-woven fabric 10.
The solid content of the inder is glass fiber and binder
And the binder content of 15% by weight or less of the total amount of
It is preferable to adjust the impregnation amount of the liquid 9. Glass nonwoven fabric 10
When making prepreg 1 using
The normal state is through the coupling agent on the surface of the glass fiber 7.
The resin impregnated with the
Woven fabric 10 necessarily contains a binder, which
The inder is interposed between the glass fiber 7 and the impregnated resin.
Adhesion of the glass non-woven fabric 10 and the impregnated resin
As described above, the property is deteriorated.
As a result of tests conducted by the workers, the content of the binder is 15% by weight (
And preferably 12% by weight or less)
The adhesion between the cloth 10 and the impregnated resin is not soaked by plating.
It turned out that it wasn't bad until it happened. And
In this way, keep the binder content below 15% by weight.
Also, the binder solution 9 is spread on the mat 8 as in the conventional method.
When playing, binder on the surface of the glass nonwoven fabric 10
This binder adheres a lot because of the large amount of
Adhesion to the resin deteriorates at the part and plating penetration occurs
It may occur. For this purpose, as shown in FIG.
The mat 8 of the glass fiber 7 is dipped in the solution 9
Binder impregnation method (Vine
By the Dardip method), the entire glass non-woven fabric 10
The binder should be applied evenly
Yes. The upper limit of the binder content of the glass nonwoven fabric 10 is
It is preferable to set it to 15% by weight as described above.
The lower the content, the denser the glass nonwoven fabric 10 and the impregnated resin.
It can improve the adhesion, but the binder content is
When it becomes lower, the aggregate strength of the glass fiber 7 is lowered and the glass
Woven cloth 10 is more likely to be cut, so
The lower limit of the ratio is preferably set to about 5% by weight. The non-woven fabric prepared as above is used as the base material and heat is applied to this.
Prepare prepreg 1 by impregnating it with curable resin.
Can be manufactured, but as a thermosetting resin to be impregnated
Is an epoxy resin or polyimide resin, unsaturated polyester
The resin is not particularly limited, but in terms of electrical characteristics,
Poxy resin, polyimide resin, or modified resin of these
It is preferable to use fat. In addition, the multilayer laminated board is
Because high temperature processing is done during soldering and soldering, prepreg
This thermosetting resin for preparing 1 has a glass transition temperature
Excellent heat resistance of 170 ℃ (more preferably 180 ℃) or higher
It is preferable to use the one. For preparing prepreg 1
The glass transition temperature of the thermosetting resin used is 150 ° C.
The following is common, but in this case 260
When soldering is performed for 30 seconds in a solder bath at ℃, the thermal shock
Such as peeling off the plating tank applied to the through hole
In the present invention, the glass transition
It is preferable to use a material with a temperature of 170 ° C or higher and excellent heat resistance.
It's better. Also, when preparing prepreg 1,
The prepreg 1 resin has a semi-cured state with a melt viscosity at 130 ° C of 7
0 to 200 poise (more preferably 100 to 1000 poise)
It is preferable to adjust so that. Melt viscosity is not 70 poise
If it is full, resin will flow too much during lamination molding
It is preferable that the variation of the plate thickness becomes large within the plate
No, and if it exceeds 2000 poise, the resin flow is poor.
And voids tend to remain in the laminated plate after molding.
Not preferable. The semi-cured state is the so-called B
It means a state called tage
When pressure is applied, the resin melts and cures further,
Moreover, it means something that is not sticky to the touch. Then, the metal plate provided with the through holes 3 as shown in FIG.
When manufacturing a multilayer laminated board using 4 as a substrate
First, the resin 2 is filled in each through hole 3 of the metal plate 4. This
Although the resin 2 is not particularly limited,
Epoxy resin of the same type as the resin used to prepare prepreg 1
, Polyimide resin, and these modified resins in a semi-cured state
It is preferably used. This resin 2 filling the through holes 3 is filled with
It is used by blending a filler. With this filler
For Al 2 O 3 , Al 2 O 3 ・ H 2 O, Al 2 O 3 ・ 3H 2 O, silica, tar
C, MgO, CaCO 3 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O Five , E glass and D glass,
Spherical powders such as T glass, R glass, and Q glass, and E gas
Lath, D glass, T glass, R glass, Q glass, etc.
Glass fiber, Kevlar (made by DuPont), Technora
Finely cut aramid fiber (made by Teijin) etc.
It is possible to exemplify crushed acicular powder.
As described above, melting by the action of heat and pressure during lamination molding
Do not use a material that does not come off and has electrical insulation.
It is what is done. These are used alone or in combination of two or more.
It can also be used in combination. If spherical powder is used as the filler,
It is preferably 15 μm or more. With a center diameter of less than 15 μm
Is an effect of preventing the occurrence of cracks in the resin 2 in the through holes 3 described later.
The result is small, and the through-hole plating layer 6 described later adheres well.
The effect is not sufficient. On the other hand, using needle-shaped powder as a filler
When used with a center diameter of 10 μm or more and a straight length
The diameter is preferably twice the diameter or more. Central diameter less than 10 μm
If the length is less than twice the diameter, it is effective in preventing cracks.
The result is small and the adhesion effect of through-hole plating layer 6 is sufficient.
Can't get to. The central diameter is the diameter of the filler particles.
Means the peak value of the distribution of, that is, the diameter with the largest number of particles
To do. Filler is added to resin 2 in a compounding amount in the range of 10 to 1000 PHR.
To prevent cracks and through hole
It is possible to obtain the effect of improving the adhesion of the layer 6, but the filler
Coefficient of thermal expansion of resin 2 (coefficient of thermal expansion after resin is cured)
However, the difference from the coefficient of thermal expansion of the metal plate 4 is less than 20ppm / ℃
Sea urchin, that is, the coefficient of thermal expansion of the resin 2 with filler is α R ,Money
The coefficient of thermal expansion of the metal plate 4 is α M Then α M −20ppm / ℃ ≦ α R ≤ α M Of the filler mixed in the resin 2 with filler so that it becomes +20 ppm / ° C.
It is preferable to set and set the type and amount of the compound. The filling of the resin 2 containing the filler into the through holes 3 of the metal plate 4
Prepare resin 2 with agent in liquid form such as varnish and pour it
Or prepare it in powder form and pour it in.
However, in terms of workability, it should be prepared in powder form and then flowed.
It is preferable that it is soaked. Prepare in powder form and sink
In case of filling, resin 2 into powder with central particle size of 100-350μm
It is preferable to use it. Resin 2 was crushed to this particle size
It may be mixed with the filler afterwards, but
2 and the filler are mixed in a varnish state and heated.
After removing the solvent and making it semi-cured,
Powder of resin 2 containing filler by crushing
It is preferably used as a powder. Center of resin 2
If the particle size is less than 100 μm, the re-aggregation property increases and the particles become lumpy.
And the filling property into the through hole 3 may decrease, and
On the contrary, when the center particle size of the resin 2 is 350 μm, the particles are too large to pass through.
It becomes impossible to densely fill the holes 3 and the filling property deteriorates.
There is a risk. In the present invention, the central particle size means the resin
The peak value of the particle size distribution of 2 particles, that is, the number of particles is the most
Means more particle size. Resin 2 with filler in powder form
When filling the through holes 3 of the metal plate 4, as shown in FIG.
Place the metal plate 4 on the prepreg 1 as shown in (b).
The lower opening of the through hole 3 is blocked, and the through hole 3 is often
Pour resin 2 with filler and squeegee 19 into metal plate
By rubbing the top of 4 to remove the excess
The resin 2 containing the filler is evenly filled in each through hole 3.
You can Next, the metal plate 4 having the through holes 3 filled with the resin 2 as described above
And prepreg 1 are laminated alternately to form a multi-layer laminate A
In doing so, the metal plate 4 and the metal plate 4 having the layer structure shown in FIG.
Put several pieces of prepreg 1 on top of each other and, if necessary,
On the outer surface of the outer layer prepreg 1, overlay a metal foil 12 such as copper foil.
Prepreg 1 between each metal plate 4 if necessary.
Single-sided printed wiring board or double-sided printed wiring board, through
Inner layer circuit formed with inner layer circuit such as layer printed wiring board
Stack the boards 11. Then, heat and pressure are applied to perform laminated molding.
To cure the resin impregnated in the prepreg 1.
2 and each metal plate 4 and the inner circuit board 11 are laminated and adhered, and FIG.
Alternating metal plate 4 and inner layer circuit board 11 in the layer structure shown in (b)
Is a multi-layer in which metal foil 12 is laminated and adhered to the outermost layer
The laminated board A can be obtained. Laminated in this way
At this time, the resin 2 filled in the through holes 3 of the metal plate 4 is also cured.
In addition, the metal plate 4 is made of resin in advance in this way.
When the resin 2 melts and hardens because it is filled with 2
The voids between the resin 2 powders are filled and the volume in the through holes 3 is
Some amount of resin is pre-prepared to replenish the depletion.
It is about to flow into the through hole 3 from the group 1
As in the example, all of the holes 3 are contained in the prepreg 1.
There is no need to fill with thermosetting resin. Conventional in Figure 4
In the example, all of the inside of the through hole 3 is contained in the prepreg 1 in this way.
The resin corresponding to the through hole 3
The outermost prepreg 1 is shown by a chain line in FIG. 4 (b).
There is a possibility that the hollow 20 may occur, but in the present invention,
As a result, a large amount of resin flows from the prepreg 1 into the through hole 3.
There is no danger of such a depression due to
Yes. Moreover, as described above, the coefficient of thermal expansion of the metal plate 4 and the through hole 3
The difference in the coefficient of thermal expansion of the resin 2 with filler filled in
If it is set to be smaller than ppm / ℃
The difference in the degree of shrinkage between the metal plate 4 and the resin 2
It can be made small, and due to the difference in the coefficient of thermal expansion, the through holes 3
Minimize the occurrence of dents in the resin 2 part of
be able to. Coefficient of thermal expansion of metal plate 4 and resin 2 with filler
If the difference in coefficient of thermal expansion between the
This is not preferable in practice because the depression becomes large. like this
In addition, in the present invention, the surface depression is small and
Multilayer product because it can be formed on a relatively flat surface
The metal foil 12 on the surface of the layer A is etched to form a circuit.
In doing so, there is a problem in applying the etching resist.
It is something that can be prevented. In addition, filling by adding a filler as described above
Since it is possible to suppress the shrinkage of the agent-containing resin 2 during cooling
The resin 2 containing the filler filled in the through holes 3 of the metal plate 4
The difference between the shrinkage during cooling after shaping and the shrinkage of the metal plate 4 is reduced.
Therefore, the conventional example of FIG.
As a result, the internal stress of the resin 2 based on this difference in contraction causes the through hole 3
That cracks occur in the filled resin 2 inside
It can be reduced. The occurrence of this crack
As described above, the coefficient of thermal expansion of the metal plate 4 can be reduced.
And the coefficient of thermal expansion of the filled resin 2 filled in the through holes 3
It is preferable to set a small difference of 20 ppm / ° C. or less.
Further, the filler compounded in the resin 2 acts as a reinforcing material.
This also prevents the occurrence of this crack. this
As described above, when acting as a reinforcing material,
When using spherical powder as a filler, the center diameter is 15
It is preferable that the particle size is at least μm, and needle-like powder is used as the filler.
When used as a center, the center diameter is 10 μm or more and the length is the diameter.
2 times or more is preferable. Here, the filling that is filled in the through holes 3 of the metal plate 4 as described above.
The prepreg 1 is the amount that resin 2 containing material loses its appearance during molding.
It will be replenished with resin flowing from the inside to the through hole 3,
As a result of the resin being replenished from the prepreg 1 as described above,
When the ratio of the filler in the holes 3 becomes small, the filling as described above is performed.
The effect of preventing the crack of the resin 2 in the through hole 3 by the filler
There is a possibility that you can not expect it, and from prepreg 1
Filler content is low in the area where the resin is replenished
In the through hole 3, there can be a portion with a large amount of filler and a portion with a small amount of filler
Then, a difference in the coefficient of thermal expansion locally occurs, causing a crack at this point.
A rack may occur. For this reason in the present invention
Is also a filler in the thermosetting resin for preparing the prepreg 1.
I try to mix them. As the filler, a filler to be mixed with the resin 2 is used.
It is possible to use the spherical powders and needle powders listed above.
Wear. Of course, the filler may be used alone or in combination with multiple types.
It is also possible to use a combination of items. As a filler
When using spherical powders, those with a center diameter of 20 μm or less
Is preferred. When using acicular powder as a filler
Has a center diameter of 15 μm or less and a length of less than twice the diameter.
Those are preferable. A sphere with a central diameter exceeding 20 μm
-Shaped fillers, with a central diameter of over 15 μm and a length of diameter
Needle-shaped fillers that are more than double the size can
When the molten resin of leg 1 flows, it flows along with the flow.
It becomes difficult to insert resin from the prepreg 1 into the through hole 3.
Filler into the through hole 3 when flowing in and replenishing
Movement is insufficient and the filler cannot be replenished sufficiently.
It has To prepare thermosetting resin to prepare prepreg 1
It is preferable to set the compounding amount of the filler in the range of 30 to 150 PHR.
Good If the compounding amount of the filler is less than 30 PHR,
Insufficient amount to obtain sufficient effect of filler composition
I can't. Also, if the compounding amount of the filler exceeds 150 PHR,
As the viscosity of the thermosetting resin varnish increases,
Difficult to impregnate non-woven fabric with thermosetting resin varnish
It may be difficult to make the prepreg 1.
It In addition, a thermosetting resin crocodile containing such a filler is also used.
For preparing prepreg 1 by impregnating the base material with
The woven cloth has a dense structure, so that the filler is introduced inside.
It is difficult to apply, and when woven fabric is used as the substrate, heat
Even if the curable resin varnish is mixed with a specified amount of filler
The prepreg cannot contain the specified filler.
There is a possibility that On the other hand, as a base material like the present invention,
If a non-woven fabric is used as the
For this reason, a large amount of filler can be introduced inside.
It is possible to prepare prepreg 1 containing the filler of
It will be. Then, prepare with a thermosetting resin that contains a filler in this way.
By using the prepreg 1 made,
Replenish the through hole 3 of the metal plate 4 with the thermosetting resin of the prepreg 1.
The filler can be replenished at the same time
To prevent the ratio of the filler in the through hole 3 from decreasing.
In addition to being able to
It is possible to prevent the formation of the
It is possible to prevent a difference in the coefficient of thermal expansion from occurring locally and
The occurrence can be suppressed. In addition,
For the thermosetting resin in the ring 1 and the resin 2 filled in the through holes 3,
Since both are filled with filler, the coefficient of thermal expansion of both
Can be close to the prepreg
Between the thermosetting resin No. 1 and the resin 2 in the through hole 3, an interlayer clath
Can be prevented from occurring. As described above, the multilayer laminated plate A as shown in FIG.
After creating, perform drilling etc.
The through hole 5 is drilled. Through hole 5 is shown in Fig. 2.
As shown in (c), the resin 2 filled in the through hole 3
Formed with a diameter smaller than the diameter of the through hole 3
Between the inner periphery of the through hole 5 and the metal plate 4.
The resin 2 layer is interposed between the
Will be secured by 2. In addition, in FIG. 2 (c)
In the example, let's make a through hole 5 through some metal plate 4.
The power supply from this metal plate 4
It is designed so that you can take a break. And
After processing the through hole 5 in this way,
Through hole plating such as copper plating is applied to the inner circumference of the base 5.
To form the through-hole plating layer 6 and the metal foil 12
By forming a circuit by etching, etc.
Of the inner layer circuit board 11 using the metal plate 4 as a substrate.
The outer layer circuit formed by processing the layer circuit and the metal foil 12 respectively.
It can also be finished on a printed wiring board provided
Of. In this thing, filling the through hole 3 of the metal plate 4
Since the resin 2 used contains a filler,
When the through hole 5 is drilled in the oil 2 part,
The filler is exposed on the inner periphery of the through hole 5 and the through hole 5
The inner peripheral surface of this is formed as an uneven surface by this filler
It will be. Therefore, the inner peripheral surface of the through hole 5 is a resin surface.
However, due to the uneven anchor effect of the filler,
The adhesion of the through-hole plating layer 6 can be improved.
The through hole plating layer 6 is a through hole.
It is possible to reduce the peeling from the inner circumference of the rule 5.
It can be done. Through holes due to unevenness of the filler
Filling to be mixed with the resin 2 in order to improve the adhesion of the kick layer 6
In the case of spherical fillers, the central straight line is 15 μm or less.
In the case of needle-shaped fillers, the center diameter is 10 μm or more and the length is
It is preferable that the diameter is at least twice the diameter.
以下本発明を実施例によって具体的に説明する。 [1] 金属板 <金属板の表面処理No1−酸化処理(黒化処理)−> 500mm×400mm×0.5mmの銅板を用い、直径が1.5mmの通孔
を1.8mmピッチで縦100×横60の個数設けた。そしてこの
銅板をまず前処理した。前処理は、塩化第二銅(CuCl2
・2H2O)2.4kgと工業用塩酸(35%)18とを42の水
に配合して調製した25℃の塩化銅溶液に25秒浸漬したの
ちに水洗し、次いで工業用塩酸70を155の水に配合
して調製した塩酸溶液に60秒浸漬したのちに水洗するこ
とによっておこなった。次ぎに、亜塩素酸ナトリウム31
g/、水酸化ナトリウム15g/、リン酸ナトリウム12g/
の組成で調製した95℃の黒化処理液に銅板を2分間浸
漬し、銅板を黒化処理した。この後さらに銅板を水洗し
て120℃で60分間乾燥した。この黒化処理後の銅板の表
面は黒色を呈した。この銅板を第1表における「金属
板」の項目の水準No1とする。 <金属板の表面処理No2−酸化処理(ブラウン処理)−
> 上記No1で用いたものと同様に形成した銅板を前処理し
た。前処理は、まずエレクトロ・ブライト#402−Lア
ルカリクリーナー(株式会社荏原電産製)を用いて時間
4分、液温70℃の条件で銅板をアルカリ洗浄したのち水
洗し、次ぎにエレクトロ・ブライトアッシドクリーナー
#4A(株式会社荏原電産製)を用いて時間2.5分、液温6
7℃の条件で酸性洗浄したのち水洗し、さらにエレクト
ロ・ブライトコブラエッチ(株式会社荏原電産製)を用
いて時間1.5分、液温51℃の条件で銅板をソフトエッチ
ングしたのち水洗し、そしてエレクトロ・ブライト#49
9−B(株式会社荏原電産製)を用いて時間1分、液温
常温の条件で処理することによっておこなった。次い
で、亜塩素酸ナトリウム95g/、水酸化ナトリウム6.5g
/、リン酸ナトリウム2.0/の組成で調製した80℃の
ブラウン処理液に銅板を2分間浸漬し、銅板をブラウン
処理した。この後さらに銅板を水洗及び湯洗して乾燥し
た。このブラウン処理後の銅板の表面は茶色を呈した。
この銅板を第1表における「金属板」の項目の水準No2
とする。 <金属板の表面処理No3−酸化・還元処理−> 上記No1と同様にして銅板を黒化処理することによって
酸化させ、この黒化処理した銅板をpH5に調製した次亜
燐酸水溶液に20分間浸漬することによって還元処理し、
水洗して乾燥した。このように酸化・還元処理した銅板
を第1表における「金属板」の項目の水準No3とする。 <金属板の表面処理No4−電解メッキ処理−> CuSO450g/、H2SO4100g/、HNO315g/の組成の浴温2
5℃の酸性銅電解浴を調製し、上記No1で用いたものと同
じように形成した銅板を陰極として電解浴に浸漬し、電
流密度7A/dm2で5分間電解メッキ処理した。この銅板を
第1表における「金属板」の項目の水準No4とする。 [2] 基材 <ガラス不織布の作成No1> バインダーとして用いるノボラック型エポキシ樹脂とア
ミノシランカップリング剤とをメチルエチルケトンとト
ルエンとの混合溶剤に溶解してバインダー溶液を調製し
た。そして第3図のバインダー浸漬法の装置を用い、中
心直径13μ、中心長さ(長さの分布のピーク値)15mmの
ガラス繊維を集積したマットを作成し、マットをバイン
ダー溶液に浸漬した後に、これを乾燥することによっ
て、バインダー(固形分)の含有率が12重量%のガラス
不織布を得た。このガラス不織布の重量は60g/m2であっ
た。このバインダーディップ法で得たガラス不織布を、
第1表の「基材」の項目の水準No1とする。 <ガラス不織布の作成No2> バインダーの含有率を15重量%に調整するようにした他
は、上記と同様にしてバインダーディップ法で得た。こ
のガラス不織布を第1表の「基材」の項目の水準No2と
する。 <ガラス不織布の作成No3> バインダーの含有率を18重量%を調整するようにした他
は、上記と同様にしてバインダーディップ法で得た。こ
のガラス不織布を第1表の「基材」の項目の水準No3と
する。 <ガラス不織布の作成No4> 上記No1と同様にしてガラス繊維のマットを作成し、上
記No1と同様に調整したバインダー溶液をこのマットの
上にスプレー装置で均一に塗布した後に、これを乾燥す
ることによって、バインダー(固形分)の含有率が12重
量%のガラス不織布を得た。このガラス不織布の重量は
60g/m2であった。このバインダースプレー法で得たガラ
ス不織布を、第1表の「基材」の項目の水準No4とす
る。 [3] 樹脂 <樹脂の調製No1> 多官能エポキシ樹脂(ダウケミカル社製Quatrex501;樹
脂分75重量%、MEK25重量%)にその樹脂分100重量部に
対して、2−エチル−4−メチルイミダゾールを0.2重
量部配合して多官能エポキシ樹脂組成物を調製した。こ
の樹脂の硬化状態でのガラス転移温度をTMMで測定した
ところ170℃であった。この樹脂を第1表の「樹脂」の
項目の水準No1とする。 <樹脂の調製No2> ビスフェノールA型エポキシ樹脂85重量部、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂15重量部、ジシアンジアミド
を1重量部、ベンジルジメチルジアミンを1当量配合し
てエポキシ樹脂組成物を調製した。この樹脂の硬化状態
でのガラス転移温度は140℃であった。この樹脂を第1
表の「樹脂」の項目の水準No2とする。 [4] プリプレグ <プリプレグの作成No1> 第2表に示す組み合わせで、No1あるいはNo2のエポキシ
樹脂のワニスに、第1表の「プリプレグ用充填剤(球
状)」と「プリプレグ用充填剤(針状)」の各項目の水
準No1〜No5の充填剤を配合し、均一に混合した。この充
填剤としては、Eガラスの球状粉末と針状粉末を使用し
た。そしてこの樹脂ワニスにNo1〜No5の基材を浸漬して
樹脂ワニスを含浸させた後に、150℃で5分間加熱して
乾燥することによって、樹脂含量が91重量%のプリプレ
グを作成した。このプリプレグに含有されている樹脂の
130℃での溶融粘度を測定したところ、600ポイズであっ
た。この溶融粘度600ポイズのものを、第1表の「プリ
プレグ溶融粘度」の項目の水準No1とする。 <プリプレグの作成No2> 乾燥条件を150℃、2分間に設定する他は上記No1と同様
にしてプリプレグを作成した。このプリプレグに含有さ
れている樹脂の130℃での溶融粘度を測定したところ、4
0ポイズであった。この溶融粘度40ポイズのものを、第
1表の「プリプレグ溶融粘度」の項目の水準No2とす
る。 <プリプレグの作成No3> 乾燥条件を150℃、3分間に設定する他は上記No1と同様
にしてプリプレグを作成した。このプリプレグに含有さ
れている樹脂の130℃での溶融粘度を測定したところ、7
0ポイズであった。この溶融粘度70ポイズのものを、第
1表の「プリプレグ溶融粘度」の項目の水準No3とす
る。 <プリプレグの作成No4> 乾燥条件を150℃、7分間に設定する他は上記No1と同様
にしてプリプレグを作成した。このプリプレグに含有さ
れている樹脂の130℃での溶融粘度を測定したところ、2
000ポイズであった。この溶融粘度2000ポイズのもの
を、第1表の「プリプレグ溶融粘度」の項目の水準No4
とする。 <プリプレグの作成No5> 乾燥条件を150℃、8分間に設定する他は上記No1と同様
にしてプリプレグを作成した。このプリプレグに含有さ
れている樹脂の130℃での溶融粘度を測定したところ、3
000ポイズであった。この溶融粘度3000ポイズのもの
を、第1表の「プリプレグ溶融粘度」の項目の水準No5
とする。 [5] 充填樹脂 <充填用樹脂の調製No1> 第2表に示す組み合わせで、上記プリプレグの作成に用
いたものと同じ樹脂ワニスに、第1表の「充填樹脂用充
填剤」の項目のNo1〜No4の充填剤を400PHRの配合量で配
合し、均一に混合した。この充填剤としては、Eガラス
の球状粉末と針状粉末を使用した。そしてこれを150℃
で5分間加熱することによって溶剤を除去して固形化
し、これをさらに粉砕することによって充填剤入りの粉
末状充填用樹脂を調製した。この充填剤入り樹脂の硬化
時の熱膨張率を測定したところ、24ppm/℃であった。銅
板の熱膨張率は17ppm/℃であるために、銅板の熱膨張率
との差は7ppm/℃である。この銅板の熱膨張率との差が7
ppm/℃のものを、第1表の「金属板と充填用樹脂の熱膨
張率の差」の項目の水準No1とする。 また、粉砕の粒度を調整することによって、充填用樹脂
として中心粒径が300μmのものと、60μmのものと、1
00μmのものと、500μmのものを調製した。中心粒径
が300μmのもをを第1表の「充填樹用脂粒度」の項目
の水準No1とし、中心粒径が60μmのものを水準No2と
し、中心粒径が100μmのものを水準No3とし、中心粒径
が500μmのものを水準No4とする。 <充填用樹脂の調製No2> 樹脂ワニスへの充填剤の配合量を180PHRに設定するよう
にした他は、上記No1と同様にして充填剤入りの粉末状
充填用樹脂を調製した。この充填用樹脂の硬化時の熱膨
張率を測定したところ、37ppm/℃であった。従って銅板
の熱膨張率との差は20ppm/℃である。この銅板の熱膨張
率との差が20ppm/℃のものを、第1表の「金属板と充填
用樹脂の熱膨張率の差」の項目の水準No2とする。また
粉砕の粒度を調整することによって、充填用樹脂として
中心粒径が300μm、60μm、100μm、500μmのもの
を調製した。それぞれを第1表の「充填用樹脂粒度」の
項目の水準No1、水準No2、水準No3、水準No4とする。 <充填用樹脂の調製No3> 樹脂ワニスへの充填剤の配合量を120PHRに設定するよう
にした他は、上記No1と同様にして充填剤入りの粉末状
充填用樹脂を調製した。この充填用樹脂の硬化時の熱膨
張率を測定したところ、42ppm/℃であった。従って銅板
の熱膨張率との差は25ppm/℃である。この銅板の熱膨張
率との差が25ppm/℃のものを、第1表の「金属板と充填
用樹脂の熱膨張率の差」の項目の水準No2とする。また
粉砕の粒度を調整することによって、充填用樹脂として
中心粒径が300μm、60μm、100μm、500μmのもの
を調製した。それぞれを第1表の「充填用樹脂粒度」の
項目の水準No1、水準No2、水準No3、水準No4とする。 実施例1 金属板として第1表の「金属板」の項目の水準No1のも
のを使用し、プリプレグとして「基材」の項目の水準No
1のものと、「樹脂」の項目の水準No1のものと、「プリ
プレグ用充填剤(球状)」の項目の水準No1のものとを
用いて「プリプレグ溶融粘度」の項目の水準No1のよう
に作成したものを使用し、さらに充填剤入り樹脂として
「充填樹脂用充填剤」の項目の水準No1のものを用いて
「金属板と充填用樹脂の熱膨張率の差」の項目の水準No
1のように熱膨張率を調整すると共に「充填用樹脂粒
度」の項目の水準No1のように粒度調整したものを使用
し、まず第1図(b)のようにプリプレグ1の上に金属
板4を重ね、スキージー19を用いて金属板4の各通孔3
に充填剤入り樹脂2を充填した。そしてこの金属板4を
3枚、両面銅張エポキシ樹脂積層板の銅箔をエッチング
加工して回路を設けることによって形成した両面プリン
ト配線板を内層回路板11として2枚用い、これらを第2
図(a)のように上記プリプレグ1を介して交互に重ね
ると共に最上層と最下層にプリプレグ1を介して金属箔
12として35μ厚の銅箔を用いて重ねた。次ぎに、20kg/c
m2の加圧条件を維持しつつ140℃で20分間、次いで170℃
で90分間加熱すると共に20分間を要して冷却することに
よって積層成形をおこない、金属板4と内層回路板11と
を交互に積層し表面に金属箔12を張った第2図(b)の
ような多層積層板を得た。 このように成形した多層積層板について、第2図(c)
のように金属板4の通孔3の部分において多層積層板に
直径が0.9mmのスルーホールをドリル加工し、次いで銅
メッキおこなって第2図(d)のようにスルーホール5
の内周にスルーホールメッキ層6を施した。 実施例2〜31 金属板4、プリプレグ1、充填剤入り樹脂2としてそれ
ぞれ第2表に示す組み合わせで調製したものを用い、あ
とは上記実施例1と同様にして多層積層板を作成し、さ
らにこの多層積層板についてスルーホール5を加工する
と共にスルーホールメッキ層6を施した。 比較例 金属板4として上記と同様な通孔を設けた銅板を、表面
の粗面化処理をおこなわずに用いた。またプリプレグ1
は、上記<樹脂の調製No1>で調製した第1表の「樹
脂」の項目の水準No1の多官能エポキシ樹脂組成物の樹
脂ワニス(充填剤配合せず)を210g/m2のガラス織布に
含浸させ、150℃で5分間加熱して乾燥することによっ
て作成した。このプリプレグ1は樹脂含量が55重量%で
あった。そして金属板4を3枚、両面銅張エポキシ樹脂
積層板の銅箔をエッチング加工して回路を設けることに
よって形成した両面プリント配線板を内層回路板11とし
て2枚、プリプレグ1を介して交互に重ねると共に最上
層と最下層にプリプレグを介して金属箔12として35μ厚
の銅箔を用いて重ね、あとは上記実施例1と同様にして
多層積層板を作成し、さらにこの多層積層板についてス
ルーホール5を加工すると共にスルーホールメッキ層6
を施した。 上記の実施例1〜31及び比較例で作成した多層積層板に
ついて、スルーホールメッキ層の密着性、スルーホール
の通孔内でのクラックの発生の有無、ミーズリングの発
生の有無、表面の凹凸の状態、スルーホールでのメッキ
液の染み込みの発生の有無、金属板とプリプレグの樹脂
との間の密着性、多層積層板の板内での板厚のバラツ
キ、成形性、通孔内での充填剤の片寄り、通孔内への充
填用樹脂の充填性をそれぞれ測定した。 スルーホールメッキ層の密着性の試験は、多層積層板を
50mm×50mmの大きさに切断したものをサンプルとし、こ
のサンプルを260℃の半田浴に60秒間浮かべ、サンプル
中の50個のスルーホールのうちスルーホールメッキ層に
剥がれ(フクレ)が生じたものの個数を計測することに
よっておこなった。結果を第2表の「スルーホールメッ
キ密着性」の欄に示した。スルーホールの通孔内でのク
ラックの発生の有無の測定は、スルーホールメッキを施
す前の積層板について、50個選んだスルーホールのうち
金属板の通孔内の部分においてクラックが生じたものの
個数を計測することによっておこなった。結果を第2表
の「クラック」の欄に示した。ミーズリングの発生の有
無の測定は、ミーズリングの発生個数を計測することに
よっておこなった。結果を第2表の「ミーズリング」の
欄に示した。表面の凹凸の状態の測定は、スルーホール
を加工する前の多層積層板の銅箔の表面の凹の深さを針
接触式表面粗さ計(株式会社東京精密製サーフコム550
A)で計測し、その最大値を第2表の「表面凹凸」の欄
に示した。メッキ染み込みの発生の有無の試験は、50個
選んだスルーホールのうちプリプレグの部分においてス
ルーホールメッキ液の染み込みが生じたものの個数を、
スルーホールの孔を切断して顕微鏡で観察して計測する
ことによっておこなった。結果を第2表の「メッキ液染
み込み」の欄に示した。金属板とプリプレグ樹脂との密
着性の試験は、多層積層板を50mm×50mmに切断したもの
をサンプルとし、サンプルを260℃の半田浴に1分間浸
漬し、金属板とプリプレグ樹脂との間に剥離によるフク
レが発生するかどうかを検査することによっておこなっ
た。10枚のサンプルについて試験をおこない、フクレが
発生したものの枚数を第2表の「金属板と樹脂の密着
性」の欄に示した。多層積層板の板内での板厚のバラツ
キの試験は、500mm×300mmの寸法に成形される多層積層
板の第5図に示すa1〜a4、bの各点での板厚を測定する
ことによっておこない、bの板厚−(a1の板厚+a2の板
厚+a3の板厚+a4の板厚)/4の式で算出することによっ
てした数値を第2表の「板厚のバラツキ」の欄に示し
た。成形性の測定は、多層積層板の表面の銅箔をエッチ
ングして除去し、多層積層板の露出表面にボイドが発生
しているか否かを目視観察しておこなった。第2表の
「成形性」の欄に、ボイドが発生しているものを
「×」、ボイドが発生していないものを「○」で表示し
た。通孔内での充填剤の片寄りの測定は、サンプル中の
10個のスルーホールを断面観察し、充填剤が通孔内で片
寄っているか均一に分散しているかを目視で判断するこ
とによっておこなった。第2表の「充填剤片寄り」の欄
に、充填剤が片寄っているものを「×」、充填剤が均一
に分散しているものを「○」で表示した。通孔内への充
填用樹脂の充填性の測定は、金属板の通孔に第1図
(b)のようにスキージーを用いて粉状の充填剤入り樹
脂を充填する際に、この粉状の充填剤入り樹脂が再凝集
して塊が発生するか否か、及び通孔内に空隙があるか否
かを通孔の表面を目視観察することによっておこなっ
た。第2表の「樹脂充填性」の欄に、塊が発生して空隙
があるものを「×」、塊が発生せず空隙のないものを
「○」で表示した。 第2表の結果にみられるように、各実施例のものは、比
較例のものよりも、スルーホール密着性を高めることが
できると共にクラックの発生を抑えることができ、さら
にミーズリングの発生も抑えることができることが確認
される。The present invention will be specifically described below with reference to examples. [1] Metal plate <Surface treatment No. 1 of metal plate-Oxidation treatment (blackening treatment)-> Using a copper plate of 500 mm × 400 mm × 0.5 mm, through holes with a diameter of 1.5 mm are arranged at a pitch of 1.8 mm, length 100 × width 60 The number of Then, this copper plate was first pretreated. The pretreatment is cupric chloride (CuCl 2
・ 2H 2 O) (2.4 kg) and industrial hydrochloric acid (35%) 18 were mixed in 42 water, soaked in a copper chloride solution at 25 ° C for 25 seconds and then washed with water, and then industrial hydrochloric acid 70 was added to 155 It was performed by immersing in a hydrochloric acid solution prepared by mixing it with water for 60 seconds and then washing with water. Next, sodium chlorite 31
g /, sodium hydroxide 15g /, sodium phosphate 12g /
The copper plate was blackened by immersing the copper plate in the blackening treatment liquid of 95 ° C. prepared with the above composition for 2 minutes. Thereafter, the copper plate was further washed with water and dried at 120 ° C. for 60 minutes. The surface of the copper plate after this blackening treatment was black. This copper plate is referred to as the level No. 1 of the "metal plate" item in Table 1. <Metal plate surface treatment No. 2-Oxidation treatment (Brown treatment)-
> A copper plate formed in the same manner as that used in No. 1 above was pretreated. The pretreatment is to first electroclean the copper plate with an electro bright # 402-L alkaline cleaner (Ebara Densan Co., Ltd.) for 4 minutes at a liquid temperature of 70 ° C, then wash it with water, and then electro bright. 2.5 minutes using Asido Cleaner # 4A (manufactured by Ebara Densan Co., Ltd.), liquid temperature 6
After acid cleaning under conditions of 7 ° C, washing with water, further using Electro Bright Cobra Etch (manufactured by Ebara Densan Co., Ltd.) for 1.5 minutes, soft etching of copper plate under conditions of liquid temperature 51 ° C, then washing with water, and Electro Bright # 49
9-B (manufactured by Ebara Densan Co., Ltd.) was performed for 1 minute at a liquid temperature of room temperature. Next, sodium chlorite 95g /, sodium hydroxide 6.5g
The copper plate was brown-treated by immersing the copper plate in a brown treatment liquid of 80 ° C. prepared with a composition of /, sodium phosphate 2.0 / for 2 minutes. After this, the copper plate was further washed with water and hot water and dried. The surface of the copper plate after the brown treatment was brown.
This copper plate is the No. 2 level of the item "metal plate" in Table 1.
And <Surface treatment No3 of metal plate-oxidation / reduction treatment-> As in No. 1 above, the copper plate is blackened to be oxidized, and the blackened copper plate is immersed in an aqueous solution of hypophosphorous acid adjusted to pH 5 for 20 minutes. Reduction process by
It was washed with water and dried. The copper plate thus oxidized / reduced is designated as No. 3 in the "Metal plate" item in Table 1. <Metal plate surface treatment No. 4- electrolytic plating treatment> CuSO 4 50g /, H 2 SO 4 100g /, HNO 3 15g / bath temperature 2
An acidic copper electrolytic bath at 5 ° C. was prepared, a copper plate formed in the same manner as that used in No. 1 above was immersed in the electrolytic bath as a cathode, and electrolytic plating treatment was performed at a current density of 7 A / dm 2 for 5 minutes. This copper plate is designated as level 4 in the "metal plate" item in Table 1. [2] Base Material <Glass Nonwoven Fabric Preparation No. 1> A novolak type epoxy resin used as a binder and an aminosilane coupling agent were dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and toluene to prepare a binder solution. Then, using the apparatus for binder immersion method shown in FIG. 3, a mat having glass fibers having a center diameter of 13 μ and a center length (peak value of length distribution) of 15 mm was accumulated, and after the mat was immersed in the binder solution, By drying this, a glass nonwoven fabric having a binder (solid content) content of 12% by weight was obtained. The weight of this glass nonwoven fabric was 60 g / m 2 . The glass nonwoven fabric obtained by this binder dip method,
It shall be the No. 1 level in the item "Substrate" in Table 1. <Glass Nonwoven Fabric Preparation No. 2> A binder dip method was used in the same manner as above except that the binder content was adjusted to 15% by weight. This glass non-woven fabric is designated as Level 2 in the item "Substrate" in Table 1. <Glass Nonwoven Fabric Preparation No. 3> A binder dip method was used in the same manner as above except that the binder content was adjusted to 18% by weight. This glass non-woven fabric is designated as No. 3 in the item "Substrate" in Table 1. <Creation of glass non-woven fabric No4> A mat of glass fibers is prepared in the same manner as No. 1 above, and the binder solution prepared in the same manner as No. 1 above is applied evenly on this mat with a spray device and then dried. Thus, a glass nonwoven fabric having a binder (solid content) content of 12% by weight was obtained. The weight of this glass nonwoven is
It was 60 g / m 2 . The glass non-woven fabric obtained by this binder spray method is designated as No. 4 in the item "Substrate" in Table 1. [3] Resin <Resin Preparation No. 1> Polyfunctional epoxy resin (Quatrex 501 manufactured by Dow Chemical Co .; resin content 75% by weight, MEK 25% by weight) is added to 2-ethyl-4-methylimidazole per 100 parts by weight of the resin content. 0.2 parts by weight was blended to prepare a polyfunctional epoxy resin composition. The glass transition temperature of this resin in a cured state was 170 ° C. when measured by TMM. This resin is designated as Level 1 in the "Resin" section of Table 1. <Resin Preparation No. 2> An epoxy resin composition was prepared by blending 85 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin, 15 parts by weight of a phenol novolac type epoxy resin, 1 part by weight of dicyandiamide and 1 equivalent of benzyldimethyldiamine. The glass transition temperature of this resin in the cured state was 140 ° C. This resin is first
It shall be the No. 2 level of the "resin" item in the table. [4] Prepreg <Preparation of prepreg No1> In the combination shown in Table 2, No. 1 or No. 2 epoxy resin varnish was added to the “prepreg filler (spherical)” and “prepreg filler (needle-shaped) shown in Table 1. ) ”, The fillers of the levels No1 to No5 in each item were mixed and mixed uniformly. As the filler, spherical powder of E glass and acicular powder were used. Then, No. 1 to No. 5 base materials were dipped in this resin varnish to impregnate the resin varnish, and then heated at 150 ° C. for 5 minutes and dried to prepare a prepreg having a resin content of 91 wt%. Of the resin contained in this prepreg
When the melt viscosity at 130 ° C. was measured, it was 600 poise. This melt viscosity of 600 poise is designated as the level No. 1 in the "prepreg melt viscosity" item in Table 1. <Preparation No. 2 of prepreg> A prepreg was prepared in the same manner as No. 1 above, except that the drying condition was set to 150 ° C for 2 minutes. When the melt viscosity of the resin contained in this prepreg at 130 ° C. was measured, it was 4
It was 0 poise. This melt viscosity of 40 poise is designated as Level 2 in the "Prepreg melt viscosity" item in Table 1. <Preparation No. 3 of prepreg> A prepreg was prepared in the same manner as No. 1 above except that the drying condition was set to 150 ° C for 3 minutes. When the melt viscosity at 130 ° C. of the resin contained in this prepreg was measured, it was 7
It was 0 poise. This melt viscosity of 70 poise is designated as No. 3 in the "Prepreg melt viscosity" item in Table 1. <Preparation No. 4 of prepreg> A prepreg was prepared in the same manner as No. 1 above except that the drying conditions were set to 150 ° C for 7 minutes. When the melt viscosity of the resin contained in this prepreg at 130 ° C. was measured, it was 2
It was 000 poise. This melt viscosity of 2000 poise is the standard No. 4 in the "Prepreg melt viscosity" item in Table 1.
And <Preparation No. 5 of prepreg> A prepreg was prepared in the same manner as No. 1 above, except that the drying condition was set to 150 ° C for 8 minutes. When the melt viscosity at 130 ° C. of the resin contained in this prepreg was measured, it was 3
It was 000 poise. This melt viscosity of 3000 poise is the level 5 of the "prepreg melt viscosity" item in Table 1.
And [5] Filling resin <Preparation No. 1 of filling resin> With the combination shown in Table 2, the same resin varnish as used in the preparation of the above prepreg was added to No. 1 of the item "Filler for filling resin" in Table 1. The No. 4 fillers were compounded in a compounding amount of 400 PHR and mixed uniformly. As the filler, spherical powder of E glass and acicular powder were used. And this is 150 ℃
The mixture was heated for 5 minutes to remove the solvent and solidify, and this was further pulverized to prepare a powdery filling resin containing a filler. The coefficient of thermal expansion of this filled resin when cured was 24 ppm / ° C. Since the thermal expansion coefficient of the copper plate is 17 ppm / ° C, the difference from the thermal expansion coefficient of the copper plate is 7 ppm / ° C. The difference from the coefficient of thermal expansion of this copper plate is 7
Those with ppm / ° C shall be the level No1 of the item of “Difference in coefficient of thermal expansion between metal plate and filling resin” in Table 1. In addition, by adjusting the particle size of the pulverization, the resin for filling has a central particle diameter of 300 μm, 60 μm, and 1
One of 00 μm and one of 500 μm were prepared. Those with a median particle diameter of 300 μm are designated as level No. 1 in the “Fill particle size for filled trees” in Table 1, those with a central particle size of 60 μm are designated as level No 2, and those with a central particle size of 100 μm are designated as level No 3. The level No. 4 is the one with a central particle size of 500 μm. <Preparation No. 2 of Filling Resin> A powdery filling resin containing a filler was prepared in the same manner as in No. 1 above, except that the amount of the filler to be added to the resin varnish was set to 180 PHR. The coefficient of thermal expansion of the filling resin when cured was 37 ppm / ° C. Therefore, the difference from the coefficient of thermal expansion of the copper plate is 20 ppm / ° C. The difference between the coefficient of thermal expansion of this copper plate and the coefficient of thermal expansion of 20 ppm / ° C is set as the level No. 2 in the item "Difference in coefficient of thermal expansion between metal plate and filling resin" in Table 1. Further, by adjusting the particle size of the pulverization, resin having a central particle size of 300 μm, 60 μm, 100 μm, 500 μm was prepared as a filling resin. These are designated as Level No. 1, Level No. 2, Level No. 3 and Level No. 4 in the “Filling Resin Particle Size” item in Table 1. <Preparation of Filling Resin No3> A powdery filling resin containing a filler was prepared in the same manner as in No. 1 except that the compounding amount of the filler in the resin varnish was set to 120 PHR. The coefficient of thermal expansion of the filling resin when cured was 42 ppm / ° C. Therefore, the difference from the coefficient of thermal expansion of the copper plate is 25 ppm / ° C. The difference between the coefficient of thermal expansion of this copper plate and the coefficient of thermal expansion of 25 ppm / ° C shall be the level No2 of the item “Difference in coefficient of thermal expansion of metal plate and filling resin” in Table 1. Further, by adjusting the particle size of the pulverization, resin having a central particle size of 300 μm, 60 μm, 100 μm, 500 μm was prepared as a filling resin. These are designated as Level No. 1, Level No. 2, Level No. 3 and Level No. 4 in the “Filling Resin Particle Size” item in Table 1. Example 1 As the metal plate, the one having the level No. 1 of the item "metal plate" in Table 1 was used, and as the prepreg, the level No. of the item "base material" was used.
Using No. 1 of the "resin" item and No. 1 of the "filler for prepreg (spherical)" level No. 1 of the "prepreg melt viscosity" item Using the prepared one and using the level 1 of the "filler for the filling resin" item as the filled resin, the level No. of the item "Difference in thermal expansion coefficient between the metal plate and the filling resin"
The thermal expansion coefficient is adjusted as shown in 1 and the particle size is adjusted as shown in Level No. 1 of the "filling resin particle size" item. First, as shown in Fig. 1 (b), a metal plate is placed on the prepreg 1. 4 and stack each through hole 3 of the metal plate 4 with a squeegee 19.
Was filled with Resin 2 containing a filler. Then, three metal plates 4 and two double-sided printed wiring boards formed by etching a copper foil of a double-sided copper-clad epoxy resin laminated plate to form a circuit are used as the inner layer circuit board 11, and these are used as the second layer.
As shown in FIG. 1A, the prepregs 1 are alternately stacked and the uppermost layer and the lowermost layer are stacked with the prepreg 1 on the metal foil.
As the layer 12, copper foil having a thickness of 35 μm was used. Next, 20kg / c
20 minutes at 140 ℃, then 170 ℃ while maintaining the pressurization condition of m 2
By laminating and forming by heating for 90 minutes and cooling for 20 minutes, the metal plates 4 and the inner layer circuit board 11 were alternately laminated and the metal foil 12 was put on the surface of FIG. 2 (b). A multi-layer laminate as described above was obtained. FIG. 2 (c) of the multilayer laminated plate molded in this way.
As shown in FIG. 2 (d), a through hole having a diameter of 0.9 mm is drilled in the through hole 3 of the metal plate 4 in the multilayer laminated plate, and then copper plating is performed to form the through hole 5 as shown in FIG.
A through-hole plating layer 6 was applied to the inner circumference of the. Examples 2 to 31 The metal plates 4, the prepreg 1, and the filled resin 2 prepared in the combinations shown in Table 2 were used, and thereafter, a multilayer laminate was prepared in the same manner as in Example 1 above. Through holes 5 were processed and a through hole plating layer 6 was applied to this multilayer laminated plate. Comparative Example As the metal plate 4, a copper plate provided with the same through holes as above was used without surface roughening treatment. Also prepreg 1
Is a glass woven fabric of 210 g / m 2 with a resin varnish (without a filler) of the multifunctional epoxy resin composition of the level No 1 of the “resin” item in Table 1 prepared in <Resin No. 1> above. It was prepared by impregnating the same with the above, heating at 150 ° C. for 5 minutes and drying. This prepreg 1 had a resin content of 55% by weight. Then, three metal plates 4, two double-sided printed wiring boards formed by etching the copper foil of the double-sided copper-clad epoxy resin laminated plate to form a circuit as the inner layer circuit board 11, and alternately through the prepreg 1 The uppermost layer and the lowermost layer are overlaid with each other by using a 35 μm-thick copper foil as the metal foil 12 through the prepreg, and then a multilayer laminated board is prepared in the same manner as in Example 1 above. The hole 5 is processed and the through hole plating layer 6 is formed.
Was applied. Regarding the multilayer laminates prepared in the above Examples 1 to 31 and Comparative Example, the adhesion of the through-hole plating layer, the presence or absence of cracks in the through-holes, the presence or absence of measling, surface irregularities Condition, presence or absence of soaking of plating solution in through holes, adhesion between metal plate and resin of prepreg, variation in thickness of multilayer laminated plate, formability, The offset of the filler and the filling property of the filling resin into the through hole were measured. For the adhesion test of the through-hole plating layer, use the multilayer laminate.
A sample cut into a size of 50 mm × 50 mm was used as a sample, and this sample was floated in a solder bath at 260 ° C for 60 seconds. Of the 50 through holes in the sample, peeling (blurring) occurred in the through hole plating layer. This was done by counting the number. The results are shown in the column of "Through hole plating adhesion" in Table 2. The presence or absence of cracks in the through-holes was measured by measuring the cracks in the through-holes of the metal plate among the 50 selected through-holes in the laminated plate before through-hole plating. This was done by counting the number. The results are shown in the column of "crack" in Table 2. The presence / absence of measling was measured by counting the number of measling. The results are shown in the column "Meads ring" in Table 2. The surface roughness is measured by measuring the depth of the recess on the surface of the copper foil of the multilayer laminate before processing the through holes by using a needle contact surface roughness meter (Surfcom 550 manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.).
It was measured in A) and the maximum value is shown in the column of "surface irregularities" in Table 2. For the test for the presence of plating soak, the number of the 50 selected through holes where the through hole plating liquid soaked in the prepreg part
The measurement was performed by cutting the through hole, observing with a microscope, and measuring. The results are shown in the column of "Soak in plating solution" in Table 2. For the adhesion test between the metal plate and the prepreg resin, a sample obtained by cutting the multilayer laminated plate into 50 mm x 50 mm was used as a sample, and the sample was immersed in a solder bath at 260 ° C for 1 minute, and between the metal plate and the prepreg resin. It was carried out by inspecting whether blistering due to peeling occurred. The test was carried out on 10 samples, and the number of those in which blisters were generated is shown in the column of "Adhesion between metal plate and resin" in Table 2. The variation of the plate thickness of the multilayer laminated plate is measured by measuring the plate thickness at each point of a 1 to a 4 and b shown in Fig. 5 of the multilayer laminated plate molded to a size of 500 mm × 300 mm. The value calculated by the formula of b plate thickness- (a 1 plate thickness + a 2 plate thickness + a 3 plate thickness + a 4 plate thickness) / 4 is shown in Table 2 It is shown in the column of "Thickness variation". The moldability was measured by etching and removing the copper foil on the surface of the multilayer laminate, and visually observing whether or not a void was generated on the exposed surface of the multilayer laminate. In the column of "formability" in Table 2, those in which voids are generated are indicated by "x", and those in which voids are not occurred are indicated by "○". The offset of the filler in the through hole is measured by
This was done by observing the cross section of 10 through holes and visually observing whether the filler was offset or evenly dispersed in the through holes. In the column of “Filler offset” in Table 2, “Fixed” indicates that the filler is offset, and “O” indicates that the filler is uniformly dispersed. The filling property of the filling resin into the through hole is measured by filling the through hole of the metal plate with a powdery filler-containing resin using a squeegee as shown in FIG. 1 (b). It was carried out by visually observing the surface of the through hole whether or not the resin containing the filler of (1) re-aggregated to generate a lump and whether or not there was a void in the through hole. In the column of “resin filling property” in Table 2, those having lumps and voids are indicated by “X”, and those without lumps and no voids are indicated by “◯”. As can be seen from the results in Table 2, each of the examples has a higher through-hole adhesion than the comparative example and can suppress the occurrence of cracks, and also causes measling. It is confirmed that it can be suppressed.
上述のように本発明は、積層成形の際の加熱加圧によっ
て溶けず且つ電気絶縁性を有する針状ありは略球状の充
填剤を配合した熱硬化性樹脂を不織布に含浸して調製さ
れるプリプレグと、積層成形の際の加熱加圧によって溶
けず且つ電気絶縁性を有する針状あるいは略球状の充填
剤を配合した樹脂が充填された通孔を有する金属板とを
複数枚づつ交互に重ね、これを積層成形して一体化した
後に、所要の通孔内の樹脂の部分においてスルーホール
を穿孔することによって多層積層板を製造するにあたっ
て、上記金属板として表面が粗面化された銅板を用いる
と共に、上記複数枚の金属板のうち少なくとも一枚を電
力供給用の導体を形成するための厚み0.5〜3mmのものを
用いるようにしたので、次に列挙する効果を有する。 金属板の通孔には充填剤入りの樹脂が充填されている
ために、この通孔の部分で穿孔されるスルーホールの内
周面には充填剤が露出して凹凸面となり、凹凸面のアン
カー効果等によってスルーホールに対するスルーホール
メッキ層の密着性を高め、金属板として電力供給用の導
体を形成するために0.5〜3mmと厚みが厚いものを用いる
場合でも、スルーホールメッキ層の剥がれを防ぐことが
できる。 金属板の通孔に充填される樹脂の成形後の収縮を充填
剤によって抑制することができるために、成形後の樹脂
の収縮と金属板の収縮の差を小さくすることができ、金
属板として電力供給用の導体を形成するために0.5〜3mm
と厚みが厚いものを用いる場合でも、通孔に充填される
樹脂に内部応力によってクラックが発生することを低減
することができる。 熱硬化性樹脂を不織布に含浸して調製されるプリプレ
グを用いるようにしているために、不織布は組織が疎で
あって多量の熱硬化性樹脂を含浸させることができ、積
層成形の際にプリプレグから樹脂が金属板の通孔に流れ
てもプリプレグの基材である不織布は多量に含浸された
樹脂が介在され直接金属板に当たることがなく、ミーズ
リングの発生を抑えることができる。 充填剤入りの樹脂が充填された通孔を有する金属板と
組み合わせて使用するプリプレグとして、充填剤を配合
した熱硬化性樹脂を不織布に含浸して調製されるプリプ
レグを用いるために、厚みが0.5〜3mmと厚い金属板の通
孔内の充填剤入りの樹脂が成形の際に目減りしても、プ
リプレグ中の充填剤を配合した樹脂で補充することがで
き、通孔内の充填剤の比率が小さくなることを防ぐこと
ができると共に、通孔内で充填剤の多い部分と少ない部
分が生じないようにして熱膨張率の差によるクラックが
発生することを防ぐことができ、しかも不織布は組織が
疎であって充填剤を配合した樹脂でも多量に含ませるこ
とができ、プリプレグから通孔内に充填剤を配合した樹
脂を良好に補充させることができる。 また本発明において、金属板として酸化処理や酸化・還
元処理、あるいは電解メッキ処理して表面を粗面化した
銅板を用いるようにしているために、粗面によって金属
板とプリプレグの樹脂との間の密着性を高めることがで
きる。 また、金属板として厚みが0.5〜3mmのものを用いるの
で、金属板による放熱性能を高く得ることができると共
に、大容量の電力をこの金属板を導体として流すことが
可能になる。 またプリプレグの基材である不織布としてガラス不織布
を用い、しかもこのガラス不織布を、ガラス繊維を集積
したマットをバインダー溶液中に浸漬してマット中にバ
インダー溶液を含浸させた後に、これを乾燥することに
よって作成するようにすれば(請求項5,6に記載)、バ
インダーをガラス不織布の全体に均一に付着させること
ができてバインダーが一部に片寄らないために、バイン
ダーによってガラス不織布の繊維と含浸した熱硬化性樹
脂との間の密着性が低下することを防止でき、繊維と樹
脂との間に界面剥離が生じてメッキ液の染み込みが発生
することを低減することができる。 また、プリプレグの熱硬化性樹脂として、ガラス転移温
度が170℃以上のものを用いるようにすれば(請求項7
に記載)、回路形成時や半田処理時などの高温の加工に
耐えることができる。 また、プリプレグの熱硬化性樹脂として、130℃での溶
融粘度が70〜2000ポイズのものを用いるようにすれば
(請求項9に記載)、ボイドが板内に発生することなく
板厚のバラツキを小さく抑えて積層成形をおこなうこと
ができる。 また、金属板の通孔に充填される充填剤入り樹脂を、金
属板との熱膨張率の差が20ppm/℃以下になるように形成
すれば(請求項12に記載)、成形後の樹脂の収縮と金属
板の収縮との差に起因して生じる上記クラックの発生を
確実に抑えることができ、また成形後に樹脂が金属板よ
りも大きく収縮することによって発生する多層積層板の
表面のくぼみを低減することができる。 また、プリプレグの熱硬化性樹脂に配合される充填剤と
して、中心直径が20μm以下の球状充填剤や、あるいは
中心直径が15μm以下で長さが直径の2倍以下の針状充
填剤を用い、配合量を30〜150PHRに設定するようにすれ
ば(請求項10,11に記載)、成形時に金属板の通孔にプ
リプレグから樹脂が補充される際に、同時にプリプレグ
から充填剤を良好に通孔内に流入させるようにすること
ができ、また通孔内で充填剤の多い部分と少ない部分と
ができることを防ぐことができると共に通孔内で局部的
に熱膨張率の差を生じることを防止してクラック発生を
抑えることができる。 また、金属板の通孔に充填される充填剤入り樹脂の充填
剤として、直径が15μm以上の球状充填剤や、あるいは
直径が10μm以上、長さが直径の2倍以上の針状充填剤
を用いるようにすれば(請求項13,14に記載)、補強効
果で充填剤によるクラックの防止の効果を確実に得るこ
とができる。 また、金属板の通孔に充填される充填剤入り樹脂の樹脂
を、粒径100〜350μmの粉末にして用いるようにすれば
(請求項15に記載)、金属板の通孔に作業性良く且つち
密にこの樹脂を充填することができる。As described above, the present invention is prepared by impregnating a non-woven fabric with a thermosetting resin containing a needle-shaped or substantially spherical filler that does not melt by heat and pressure during lamination molding and has electrical insulation. Alternately superimpose a plurality of prepregs and metal plates with through holes filled with a resin that contains a needle-shaped or substantially spherical filler that does not melt due to heat and pressure during lamination molding and that has electrical insulation properties. When a multilayer laminated plate is manufactured by laminating and integrating these to form a through hole in a resin portion in a required through hole, a copper plate whose surface is roughened as the metal plate is used. In addition to being used, at least one of the plurality of metal plates having a thickness of 0.5 to 3 mm for forming a conductor for power supply is used, so that the following effects can be obtained. Since the resin containing the filler is filled in the through holes of the metal plate, the filler is exposed at the inner peripheral surface of the through hole drilled at the through holes to form an uneven surface. The adhesion of the through-hole plating layer to the through-hole is improved by the anchor effect, etc., and even when using a thick metal plate of 0.5 to 3 mm to form a conductor for power supply, peeling of the through-hole plating layer is possible. Can be prevented. Since the shrinkage of the resin filled in the through holes of the metal plate after molding can be suppressed by the filler, it is possible to reduce the difference between the shrinkage of the resin after molding and the shrinkage of the metal plate. 0.5-3mm to form a conductor for power supply
Even when a thick resin is used, it is possible to reduce the occurrence of cracks in the resin filled in the through holes due to internal stress. Since the prepreg prepared by impregnating the thermosetting resin into the non-woven fabric is used, the non-woven fabric can be impregnated with a large amount of the thermosetting resin, and the prepreg can be impregnated during lamination molding. Even if the resin flows through the through hole of the metal plate, the non-woven fabric which is the base material of the prepreg does not directly contact the metal plate due to the interposition of a large amount of impregnated resin, and the occurrence of measling can be suppressed. As a prepreg to be used in combination with a metal plate having a through hole filled with a resin containing a filler, in order to use a prepreg prepared by impregnating a nonwoven fabric with a thermosetting resin containing a filler, a thickness of 0.5 Even if the resin containing the filler in the through holes of a metal plate with a thickness of ~ 3 mm is lost during molding, it can be replenished with the resin containing the filler in the prepreg, and the ratio of the filler in the through holes can be increased. Can be prevented from becoming small, and it is possible to prevent the generation of cracks due to the difference in the coefficient of thermal expansion by preventing the portions having a large amount of filler and the portions having a small amount of filler in the through holes. It is possible to add a large amount of a resin that is sparse and contains a filler, and it is possible to satisfactorily replenish the resin containing the filler in the through holes from the prepreg. Further, in the present invention, since the copper plate whose surface is roughened by oxidation treatment, oxidation / reduction treatment, or electrolytic plating treatment is used as the metal plate, the metal plate and the resin of the prepreg are roughened by the rough surface. The adhesion of can be improved. In addition, since the metal plate having a thickness of 0.5 to 3 mm is used, it is possible to obtain high heat dissipation performance by the metal plate and to allow a large amount of electric power to flow as the conductor. Further, a glass non-woven fabric is used as a non-woven fabric as a base material of the prepreg, and the glass non-woven fabric is dipped in a binder solution to impregnate the mat with the glass fiber, so that the mat solution is impregnated with the binder solution, and then dried. If it is made by (as defined in claims 5 and 6), the binder can be uniformly attached to the entire glass non-woven fabric and the binder does not deviate to a part. It is possible to prevent the adhesiveness between the resin and the thermosetting resin from being lowered, and it is possible to reduce the occurrence of interfacial peeling between the fiber and the resin and the penetration of the plating solution. If the thermosetting resin of the prepreg has a glass transition temperature of 170 ° C. or higher (claim 7)
It is possible to withstand high temperature processing such as circuit formation and soldering. Further, when the thermosetting resin of the prepreg has a melt viscosity at 130 ° C. of 70 to 2000 poises (claim 9), the thickness of the varieties of the prepreg does not vary and the variation of the thickness of the prepreg does not occur. It is possible to carry out lamination molding while suppressing the above. Further, if the resin containing a filler to be filled in the through holes of the metal plate is formed so that the difference in the coefficient of thermal expansion from the metal plate is 20 ppm / ° C. or less (claim 12), the resin after molding is formed. It is possible to reliably suppress the occurrence of the above-mentioned cracks caused by the difference between the shrinkage of the metal plate and the shrinkage of the metal plate, and also it is possible to form a dent on the surface of the multi-layer laminated plate caused by the resin shrinking more than the metal plate after molding. Can be reduced. As the filler to be mixed with the thermosetting resin of the prepreg, a spherical filler having a central diameter of 20 μm or less, or a needle-shaped filler having a central diameter of 15 μm or less and a length of 2 times or less of the diameter is used. When the compounding amount is set to 30 to 150 PHR (claims 10 and 11), when the resin is replenished from the prepreg into the through hole of the metal plate during molding, the filler is satisfactorily passed through the prepreg at the same time. It can be made to flow into the holes, and it is possible to prevent formation of a portion having a large amount of filler and a portion having a small amount of filler in the through hole, and to make a difference in the coefficient of thermal expansion locally in the through hole. It is possible to prevent the occurrence of cracks. Further, as the filler of the resin containing the filler to be filled in the through holes of the metal plate, a spherical filler having a diameter of 15 μm or more, or a needle-shaped filler having a diameter of 10 μm or more and a length of twice the diameter or more. If used (claims 13 and 14), it is possible to reliably obtain the effect of preventing cracks due to the filler due to the reinforcing effect. Further, if the resin of the resin containing the filler to be filled in the through holes of the metal plate is used in the form of powder having a particle size of 100 to 350 μm (claim 15), the workability in the through holes of the metal plate is improved. Moreover, the resin can be densely filled.
第1図(a)(b)は本発明における積層板の製造の各
工程での一部の断面図、第2図(a)(b)(c)
(d)は本発明における積層板の製造の各工程での一部
の断面図、第3図は本発明で用いるガラス不織布の製造
に用いる装置の概略図、第4図(a)(b)(c)
(d)は従来における積層板の製造の各工程での一部の
断面図、第5図は多層積層板は板厚のバラツキの測定方
法を示す概略図である。 1はプリプレグ、2は樹脂、3は通孔、4は金属板、5
はスルーホール、6はスルーホールメッキ層である。FIGS. 1 (a) and (b) are partial cross-sectional views in respective steps of manufacturing a laminated plate according to the present invention, and FIGS. 2 (a), (b) and (c).
(D) is a partial cross-sectional view in each step of manufacturing the laminated plate in the present invention, FIG. 3 is a schematic view of an apparatus used for manufacturing the glass nonwoven fabric used in the present invention, and FIGS. 4 (a) and (b). (C)
(D) is a partial cross-sectional view in each step of manufacturing a conventional laminated plate, and FIG. 5 is a schematic view showing a method for measuring variations in plate thickness of a multilayer laminated plate. 1 is a prepreg, 2 is a resin, 3 is a through hole, 4 is a metal plate, 5
Is a through hole, and 6 is a through hole plating layer.
フロントページの続き (72)発明者 澤 佳秀 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−311795(JP,A) 特開 昭63−192297(JP,A) 特開 昭60−127782(JP,A) 特公 昭60−236294(JP,B2)Front Page Continuation (72) Inventor Yoshihide Sawa 1048 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works, Ltd. (56) References JP 63-311795 (JP, A) JP 63-192297 (JP, A) ) JP-A-60-127782 (JP, A) JP-B-60-236294 (JP, B2)
Claims (15)
つ電気絶縁性を有する針状あるいは略球状の充填剤を配
合した熱硬化性樹脂を不織布に含浸して調製されるプリ
プレグと、積層成形の際の加熱加圧によって溶けず且つ
電気絶縁性を有する針状あるいは略球状の充填剤を配合
した樹脂が充填された通孔を有する金属板とを複数枚ず
つ交互に重ね、これを積層成形して一体化した後に、所
要の通孔内の樹脂の部分においてスルーホールを穿孔す
ることによって多層積層板を製造するにあたって、上記
金属板として表面が粗面化された銅板を用いると共に、
上記複数枚の金属板のうち少なくとも一枚が電力供給用
の導体を形成するための厚み0.5〜3mmのものであること
を特徴とする多層積層板の製造方法。1. A prepreg prepared by impregnating a non-woven fabric with a thermosetting resin containing a needle-shaped or substantially spherical filler which does not melt by heat and pressure during lamination molding and has an electrically insulating property, and a lamination. Multiple sheets of metal plates with through holes that are not melted by heat and pressure during molding and that are electrically insulative and that are filled with a resin that is mixed with a needle-shaped or substantially spherical filler that has electrical insulation are stacked alternately. After molding and integration, when manufacturing a multilayer laminate by punching through holes in the resin portion in the required through holes, while using a copper plate having a roughened surface as the metal plate,
A method for producing a multilayer laminate, wherein at least one of the plurality of metal plates has a thickness of 0.5 to 3 mm for forming a conductor for power supply.
されたものであることを特徴とする請求項1に記載の多
層積層板の製造方法。2. The method for producing a multi-layer laminate according to claim 1, wherein the roughening is performed by oxidizing the surface of a copper plate.
に還元処理してなされたものであることを特徴とする請
求項1に記載の多層積層板の製造方法。3. The method for producing a multi-layer laminate according to claim 1, wherein the roughening is performed by subjecting the surface of the copper plate to an oxidation treatment and then a reduction treatment.
なされたものであることを特徴とする請求項1に記載の
多層積層板の製造方法。4. The method for producing a multi-layer laminate according to claim 1, wherein the roughening is performed by electroplating the surface of a copper plate.
徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の多層積層板
を製造方法。5. The method for producing a multilayer laminate according to claim 1, wherein the non-woven fabric is a glass non-woven fabric.
たマットをバインダー溶液中に浸漬してマット中にバイ
ンダー溶液を含浸させた後に、これを乾燥することによ
って、バインダーの含有量がガラス繊維とバインダーと
の合計量の15重量%以下のものとして形成されたもので
あることを特徴とする請求項5に記載の多層積層板の製
造方法。6. The glass non-woven fabric is obtained by immersing a mat in which glass fibers are accumulated in a binder solution to impregnate the mat solution with the binder solution and then drying the mat so that the content of the binder becomes glass fiber. The method for producing a multi-layer laminate according to claim 5, wherein the multi-layer laminate is formed as 15% by weight or less of the total amount of the binder.
転移温度が170℃以上のものであることを特徴とする請
求項1乃至6のいずれかに記載の多層積層板の製造方
法。7. The method for producing a multilayer laminate according to claim 1, wherein the thermosetting resin of the prepreg has a glass transition temperature of 170 ° C. or higher.
シ樹脂、ポリイミド樹脂、またはこれらの変性樹脂、の
いずれかであることを特徴とする請求項1乃至7のいず
れかに記載の多層積層板の製造方法。8. The multi-layer laminate according to claim 1, wherein the thermosetting resin of the prepreg is an epoxy resin, a polyimide resin, or a modified resin thereof. Manufacturing method.
での溶融粘度が70〜2000ポイズのものであることを特徴
とする請求項1乃至8のいずれかに記載の多層積層板の
製造方法。9. The thermosetting resin of the prepreg is 130 ° C.
The method for producing a multilayer laminate according to any one of claims 1 to 8, characterized in that the melt viscosity thereof is 70 to 2000 poise.
れる充填剤は、中心直径が20μm以下の球状充填剤であ
り、配合量が30〜150PHRであることを特徴とする請求項
1乃至9のいずれかに記載の多層積層板の製造方法。10. The filler to be blended with the thermosetting resin of the prepreg is a spherical filler having a center diameter of 20 μm or less, and the blending amount is 30 to 150 PHR. A method for producing a multilayer laminate according to any one of 1.
れる充填剤は、中心直径が15μm以下、長さが直径2倍
以下の針状充填剤であり、配合量が30〜150PHRであるこ
とを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の多層
積層板の製造方法。11. The filler to be blended with the thermosetting resin of the prepreg is a needle-shaped filler having a central diameter of 15 μm or less and a length of 2 times or less, and the blending amount is 30 to 150 PHR. The method for manufacturing a multilayer laminate according to any one of claims 1 to 9, wherein:
張率の差が20ppm/℃以下であることを特徴とする請求項
1乃至11のいずれかに記載の多層積層板の製造方法。12. The method for producing a multilayer laminate according to claim 1, wherein the filler-containing resin has a difference in coefficient of thermal expansion from a metal plate of 20 ppm / ° C. or less. .
径が15μm以下の球状充填剤であることを特徴とする請
求項1乃至12のいずれかに記載の多層積層板の製造方
法。13. The method for producing a multilayer laminate according to claim 1, wherein the filler of the resin containing a filler is a spherical filler having a center diameter of 15 μm or less.
径が10μm以上、長さが直径の2倍以上の針状充填剤で
あることを特徴とする請求項1乃至12のいずれかに記載
の多層積層板の製造方法。14. The filler of a resin containing a filler is a needle-shaped filler having a central diameter of 10 μm or more and a length of twice the diameter or more. A method for producing the multilayer laminate described.
100〜350μmの粉末であることを特徴とする請求項1乃
至14のいずれかに記載の多層積層板の製造方法。15. The resin of the resin containing a filler has a median particle size.
The method for producing a multilayer laminate according to any one of claims 1 to 14, which is a powder having a particle size of 100 to 350 µm.
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