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JPH0797544B2 - 電解コンデンサおよびこれに用いる電極箔およびその処理方法 - Google Patents
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JPH0797544B2 - 電解コンデンサおよびこれに用いる電極箔およびその処理方法 - Google Patents

電解コンデンサおよびこれに用いる電極箔およびその処理方法

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JPH0797544B2
JPH0797544B2 JP2108247A JP10824790A JPH0797544B2 JP H0797544 B2 JPH0797544 B2 JP H0797544B2 JP 2108247 A JP2108247 A JP 2108247A JP 10824790 A JP10824790 A JP 10824790A JP H0797544 B2 JPH0797544 B2 JP H0797544B2
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JP
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foil
electrolytic capacitor
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cathode
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努 宮下
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信英通信工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電解コンデンサおよびこれに用いる電極箔およ
びその処理方法に関する。
(従来の技術) 電解コンデンサ用電極箔は陽極箔と陰極箔とから成る。
一般に陽極箔はアルミニウム箔を電気化学的あるいは化
学的に表面を粗面化した後、電解液中に浸漬して陽極酸
化し、箔表面に誘電体となる酸化アルミニウム皮膜を形
成したものが用いられる。
また、陰極箔はアルミニウム箔を電気化学的あるいは化
学的に表面を粗面化した後、表面の水和防止処理等をし
て形成される。
電解コンデンサは前記陽極箔と陰極箔とをセパレータを
挟んで巻回し、電解液を含浸した後、アルミニウム等の
金属ケースに密封して構成される。
(発明が解決しようとする課題) 電解コンデンサの主な特性のうちの一つの高温での寿命
試験における静電容量変化率がある。これは、85℃とか
105℃といった高温雰囲気中で負荷または無負荷試験を
実施した際の試験前後の容量変化を示す特性である。
近来は、電解コンデンサの小型化に伴って使用される電
極箔もエッチング倍率が高倍率のものになってきてい
る。電極箔が高倍率になると箔表面のエッチング構造が
微細になり実効表面積が増大するので、空気や駆動用電
解液といった環境において酸化されやすくなり、上記の
寿命試験において静電容量の変化が大きかった。
特に、陰極箔は表面にほとんど皮膜が形成されていない
ので、容量減少を起こしやすかった。
本発明は上述の問題点に鑑みてなされたものであり、容
量減少を抑制して高温寿命特性の安定した電解コンデン
サを提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 上記目的による本発明では、エッチングが施され表面が
粗面化された陰極箔の箔表面に、ケイ素を付着させたこ
とを特徴とする。ケイ素の付着量は1mg/m2以上であるこ
とが好ましい。
電極箔の処理方法としては、エッチングを施して表面を
粗面化した陰極箔をケイ酸を含む水溶液中に浸漬処理し
た後、熱処理を行うことを特徴とする。この水溶液はケ
イ酸のアルカリ金属塩が利用できるが、特にケイ酸ナト
リウムまたはケイ酸カリウムが望ましい。熱処理温度と
しては200℃以上が好適である。
(作用) 電解コンデンサの寿命試験における容量減少の原因とし
ては、主として陰極箔が電解液と反応して箔表面に水和
皮膜が形成されるためと考えられる。本発明によれば、
エッチングが施され表面が粗面化された陰極箔表面に薄
いケイ素含有皮膜を形成するため、電解液中での水和反
応が抑制される。
(実施例) 以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。
〔実施例1〕 市販の50μm厚陰極用エッチド箔を用い、1wt%ケイ酸
ナトリウム水溶液中に90℃5分間浸漬した後水洗し、続
いて500℃1分の熱処理を行った。次に、この陰極箔と
市販の90μm厚6.3WV用陽極箔とをセパレータを挟んで
巻回し、エチレングリコール−純水−アジピン酸アンモ
ニウム系の電解液を含浸して6.3V330μFのコンデンサ
を作製した。
〔実施例2〕 市販の50μm厚陰極用エッチド箔を用い、0.5wt%ケイ
酸ナトリウム水溶液中に90℃2分間浸漬した後、500℃
1分間の熱処理を行った。次に、この陰極箔を用いて実
施例1と同様にして6.3V330μFのコンデンサを作製し
た。
〔従来例〕
市販の50μm厚陰極用エッチド箔をそのまま使用して実
施例1と同様に6.3V330μFのコンデンサを作製した。
作製した6.3V330μFのコンデンサについて、105℃、10
00時間の負荷および無負荷試験を実施した結果を第1表
に示した。また、第1図には負荷試験中の容量変化の経
過を示した。本発明による実施例1および2は従来例に
比較して、容量減少が著しく少なく、また、Tanδ変化
も少なく良好な特性であった。
実施例1および2については、処理を行った陰極箔のSi
の付着量も示しておいた。Si付着量に関しては実験の結
果1mg/m2以上の場合に効果が現われることがわかった。
第2図は実施例1において熱処理温度を変化させた場合
の105℃、1000時間寿命試験後の容量変化率を示す図で
ある。熱処理温度は高い程効果が大きく、200℃以上が
好適である。
第3図は実施例1においてケイ酸ナトリウムの濃度を変
化させた場合のコンデンサの容量変化率を示す図であ
る。ケイ酸ナトリウムの濃度は0.1wt%以上が良い。
第4図は実施例1においてケイ酸ナトリウム水溶液の温
度を変化させた場合のコンデンサの容量変化率を示す図
であり、温度が低いと効果が少なくなるので、処理温度
は50℃以上であることが望ましい。
以上、本発明につき好適な実施例をあげて種々説明した
が、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発
明の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るの
はもちろんのことである。
(発明の効果) 以上述べたように、本発明によれば容量減少およびTan
δ変化の少ない電解コンデンサを得ることができるの
で、長寿命化、高信頼性化に大いに寄与できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は105℃負荷試験における容量変化を示す図、第
2図は熱処理温度と容量変化率との関係を示す図、第3
図はケイ酸ナトリウム濃度と容量変化率との関係を示す
図、第4図はケイ酸ナトリウム水溶液の温度と容量変化
を示す図である。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】エッチングが施され表面が粗面化された陰
    極箔の箔表面に、ケイ素を付着させたことを特徴とする
    電解コンデンサ。
  2. 【請求項2】陰極箔表面のケイ素付着量が1mg/m2以上で
    ある請求項1記載の電解コンデンサ。
  3. 【請求項3】エッチングが施され表面が粗面化された陰
    極箔の箔表面に、ケイ素を付着させたことを特徴とする
    電解コンデンサ用電極箔。
  4. 【請求項4】陰極箔表面のケイ素付着量が1mg/m2以上で
    ある請求項3記載の電解コンデンサ用電極箔
  5. 【請求項5】エッチングを施して表面を粗面化した陰極
    箔をケイ酸を含む水溶液中に浸漬処理した後、熱処理を
    行うことを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の処理方
    法。
  6. 【請求項6】前記水溶液がケイ酸ナトリウムまたはケイ
    酸カリウムである請求項5記載の電解コンデンサ用電極
    箔の処理方法。
  7. 【請求項7】前記熱処理温度が200℃以上である請求項
    5または請求項6記載の電解コンデンサ用電極箔の処理
    方法。
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