JPH0827461B2 - 液晶表示パネル及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示パネル及びその製造方法Info
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- JPH0827461B2 JPH0827461B2 JP62061269A JP6126987A JPH0827461B2 JP H0827461 B2 JPH0827461 B2 JP H0827461B2 JP 62061269 A JP62061269 A JP 62061269A JP 6126987 A JP6126987 A JP 6126987A JP H0827461 B2 JPH0827461 B2 JP H0827461B2
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- wiring
- crystal display
- display panel
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、自動車用計器盤及びOA機器などに使用する
液晶表示パネル、特に駆動用電子回路素子を一体的に実
装した液晶、ELなどの液晶表示パネル及びその製造方法
に関する。
液晶表示パネル、特に駆動用電子回路素子を一体的に実
装した液晶、ELなどの液晶表示パネル及びその製造方法
に関する。
近年、マンマシーンインターフェースとしてグラフィ
ック表示が広く用いられるようになり、これに伴って自
動車の計器盤にも液晶表示装置が使用されるようにな
り、このことは、カラー液晶表示素子の実用化に伴って
さらに加速される傾向にある。
ック表示が広く用いられるようになり、これに伴って自
動車の計器盤にも液晶表示装置が使用されるようにな
り、このことは、カラー液晶表示素子の実用化に伴って
さらに加速される傾向にある。
ところで、このような液晶表示装置(以下、液晶表示
パネルという)では、そのパネル状の形態を活かし、そ
の電極基板の一方を拡張させた上で、この拡張した部分
に駆動用の電子回路素子(LSI)を直接搭載し、両者を
モジュール化したものが知られている。なお、このよう
な例については、例えば特開昭53−60199号、特開昭53
−104198号公報などに開示がある。
パネルという)では、そのパネル状の形態を活かし、そ
の電極基板の一方を拡張させた上で、この拡張した部分
に駆動用の電子回路素子(LSI)を直接搭載し、両者を
モジュール化したものが知られている。なお、このよう
な例については、例えば特開昭53−60199号、特開昭53
−104198号公報などに開示がある。
そこで、このような液晶表示パネルの従来例について
第2図によって説明する。
第2図によって説明する。
この第2図は、ガラス基板1および電極基板であるガ
ラス基板2によって構成された液晶表示パネルを示し、
ガラス基板2の上には、液晶表示パネルを駆動するため
のLSIチップ4が接着剤5を用いて固定され、Au及びAl
ワイヤ線6を用いて配線回路に接続する方法により、実
装されている。この液晶表示部とLSIチップ4の端子間
の金属配線7、およびLSIチップ4の端子と外部回路と
の接続用端子間の金属配線8は同一導体材料、例えばCr
−Cu2層膜またはAl膜などからなる導体層が用いられ
る。
ラス基板2によって構成された液晶表示パネルを示し、
ガラス基板2の上には、液晶表示パネルを駆動するため
のLSIチップ4が接着剤5を用いて固定され、Au及びAl
ワイヤ線6を用いて配線回路に接続する方法により、実
装されている。この液晶表示部とLSIチップ4の端子間
の金属配線7、およびLSIチップ4の端子と外部回路と
の接続用端子間の金属配線8は同一導体材料、例えばCr
−Cu2層膜またはAl膜などからなる導体層が用いられ
る。
また、この第2図において、3はガラス基板1,2間に
挟持されている液晶を封止している封止剤である。な
お、この第2図には表わし難いので省略してあるが、実
際には保護用の樹脂がLSIチップ4を覆って設けてあ
る。
挟持されている液晶を封止している封止剤である。な
お、この第2図には表わし難いので省略してあるが、実
際には保護用の樹脂がLSIチップ4を覆って設けてあ
る。
次に、第3図は第2図のA−A′線による断面を示し
たもので、この第3図において、1,2はガラス基板、3
は封止剤、4はLSIチップ、5は接着剤、6はワイヤ
線、7及び8は金属配線であり、Cr−Cu2層膜あるいはA
l膜からなる。9は液晶層、10及び11はIn2O3,SnO2また
はこれらの混合物よりなる透明導電膜からなる透明電極
である。
たもので、この第3図において、1,2はガラス基板、3
は封止剤、4はLSIチップ、5は接着剤、6はワイヤ
線、7及び8は金属配線であり、Cr−Cu2層膜あるいはA
l膜からなる。9は液晶層、10及び11はIn2O3,SnO2また
はこれらの混合物よりなる透明導電膜からなる透明電極
である。
ところで、このような構造を有するLSIチップを実装
した液晶表示パネルでは、各種の信頼性が要求される。
そして、この信頼性の評価としては、非通電信頼性試験
と通電信頼試験の2種に分けられる。なお、通電信頼性
試験とは液晶表示パネルの各種条件下における動作試験
のことである。
した液晶表示パネルでは、各種の信頼性が要求される。
そして、この信頼性の評価としては、非通電信頼性試験
と通電信頼試験の2種に分けられる。なお、通電信頼性
試験とは液晶表示パネルの各種条件下における動作試験
のことである。
まず、非通電信頼性試験の中には、高温放置(90℃−
500h)、高温高湿放置(70℃/95%RH−1000h)、温湿度
サイクル 温度サイクル 振動試験(10G,10〜500Hz−各100h)がある。
500h)、高温高湿放置(70℃/95%RH−1000h)、温湿度
サイクル 温度サイクル 振動試験(10G,10〜500Hz−各100h)がある。
そこで、第2図及び第3図の構造を有する従来の液晶
表示パネルについて、上記の各種非通電信頼性試験をし
た。その結果、高温高湿試験において配線の腐蝕が認め
られ、目標仕様を満足しないことがわかった。
表示パネルについて、上記の各種非通電信頼性試験をし
た。その結果、高温高湿試験において配線の腐蝕が認め
られ、目標仕様を満足しないことがわかった。
なお、上記従来の液晶表示パネルにおいては、通常、
前記金属配線の保護のためにその表面にエポキシ樹脂等
の合成樹脂皮膜を形成することが行われているが、この
ような合成樹脂皮膜は防湿性が十分ではなく、上記のよ
うな高温高湿下における金属配線の腐蝕を有効に防止す
ることはできない。
前記金属配線の保護のためにその表面にエポキシ樹脂等
の合成樹脂皮膜を形成することが行われているが、この
ような合成樹脂皮膜は防湿性が十分ではなく、上記のよ
うな高温高湿下における金属配線の腐蝕を有効に防止す
ることはできない。
したがって、このように従来の液晶表示パネルが、高
温高湿試験において、金属配線が腐蝕することは、長時
間において配線の断線が起こり、表示不良につながり、
液晶表示パネルの信頼性を著しく低下させるものであ
り、かつ製品としては不完全なものである。
温高湿試験において、金属配線が腐蝕することは、長時
間において配線の断線が起こり、表示不良につながり、
液晶表示パネルの信頼性を著しく低下させるものであ
り、かつ製品としては不完全なものである。
以上のように、従来の液晶表示パネルでは、自動車用
などに適用した際に必要な信頼性を充分に保つのが困難
であるという問題点があった。
などに適用した際に必要な信頼性を充分に保つのが困難
であるという問題点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題を解消し、
高温高湿下においても、配線の腐蝕のおそれがなく、自
動車などの表示素子に使用しても充分な信頼性を保つこ
とができる液晶表示パネルを提供するところにある。
高温高湿下においても、配線の腐蝕のおそれがなく、自
動車などの表示素子に使用しても充分な信頼性を保つこ
とができる液晶表示パネルを提供するところにある。
この目的を達成するため、本発明は、電子回路素子を
搭載した液晶表示パネルの金属配線を中性水溶液中で電
解処理を施すことにより、その表面に薄い実質的にノン
ポーラスな酸化膜を形勢することを骨子とするものであ
る。
搭載した液晶表示パネルの金属配線を中性水溶液中で電
解処理を施すことにより、その表面に薄い実質的にノン
ポーラスな酸化膜を形勢することを骨子とするものであ
る。
すなわち、本発明の第1番目の発明は液晶表示パネル
に関する発明であって、その要旨は、 「表示素子の電極基板の一方を拡張させて配線基板と
し、この配線基板に表示素子駆動用の電子回路素子を搭
載した液晶表示パネルにおいて、上記回路素子を構成す
る配線が、実質的にノンポーラスな酸化膜が表面に形成
された導体からなることを特徴とする液晶表示パネ
ル。」にあり、 本発明の第2番目の発明は前記液晶表示パネルの製造
方法に関する発明であって、その要旨は、 「表示素子の電極基板の一方を拡張させて配線基板と
し、この配線基板に表示素子駆動用の電子回路素子を搭
載した液晶表示パネルを製造する方法において、配線基
板上への配線形成の後、前記配線を中性電解液により、
電気化学的処理をすることにより、前記配線表面に実質
的にノンポーラスな酸化膜を形成することを特徴とする
液晶表示パネルの製造方法。」にある。
に関する発明であって、その要旨は、 「表示素子の電極基板の一方を拡張させて配線基板と
し、この配線基板に表示素子駆動用の電子回路素子を搭
載した液晶表示パネルにおいて、上記回路素子を構成す
る配線が、実質的にノンポーラスな酸化膜が表面に形成
された導体からなることを特徴とする液晶表示パネ
ル。」にあり、 本発明の第2番目の発明は前記液晶表示パネルの製造
方法に関する発明であって、その要旨は、 「表示素子の電極基板の一方を拡張させて配線基板と
し、この配線基板に表示素子駆動用の電子回路素子を搭
載した液晶表示パネルを製造する方法において、配線基
板上への配線形成の後、前記配線を中性電解液により、
電気化学的処理をすることにより、前記配線表面に実質
的にノンポーラスな酸化膜を形成することを特徴とする
液晶表示パネルの製造方法。」にある。
上記のような本発明は、以下の知見に基づいてなされ
たものである。すなわち、本件の発明者らは、上記従来
技術の問題点として述べたような金属配線の腐蝕を防止
するためには、まず水分と接触させなければよいと考
え、金属配線上に有機物あるいは無機物を被覆すること
を検討した。そこで、配線上に被覆する材料のピンホー
ルテスト、つまり配線上のつきまわりを評価する方法と
して、配線上にポリイミド樹脂を被覆し、その表面上に
水滴をたらした後、金属配線に電圧を印加し、配線の溶
解状態を調べていた。その際、Al配線の場合はポリイミ
ド樹脂にピンホールがあっても、溶解電流が流れないこ
とがわかった。
たものである。すなわち、本件の発明者らは、上記従来
技術の問題点として述べたような金属配線の腐蝕を防止
するためには、まず水分と接触させなければよいと考
え、金属配線上に有機物あるいは無機物を被覆すること
を検討した。そこで、配線上に被覆する材料のピンホー
ルテスト、つまり配線上のつきまわりを評価する方法と
して、配線上にポリイミド樹脂を被覆し、その表面上に
水滴をたらした後、金属配線に電圧を印加し、配線の溶
解状態を調べていた。その際、Al配線の場合はポリイミ
ド樹脂にピンホールがあっても、溶解電流が流れないこ
とがわかった。
この現象は、水溶液と接触したAl配線表面は十分に緻
密、すなわち、防湿性乃至防蝕性の観点から実質的にノ
ンポーラスな酸化膜が生成し、溶解を防止しているので
はないかと推定した。そこで、Al配線を中性水溶液で電
解処理、つまりAl配線を極にして、DC電圧50Vを印加
して処理した。この試料を高温高湿(70℃/95%RH)し
たところ、Al配線の腐蝕はまったく生じないことを発見
したものである。つまり、Al配線を中性水溶液中で電解
処理することにより、表面に前記実質的にノンポーラス
な酸化膜が生成し、これが防蝕に効果があることを明ら
かにしたものである。
密、すなわち、防湿性乃至防蝕性の観点から実質的にノ
ンポーラスな酸化膜が生成し、溶解を防止しているので
はないかと推定した。そこで、Al配線を中性水溶液で電
解処理、つまりAl配線を極にして、DC電圧50Vを印加
して処理した。この試料を高温高湿(70℃/95%RH)し
たところ、Al配線の腐蝕はまったく生じないことを発見
したものである。つまり、Al配線を中性水溶液中で電解
処理することにより、表面に前記実質的にノンポーラス
な酸化膜が生成し、これが防蝕に効果があることを明ら
かにしたものである。
その結果について以下に示す。第4図は高温高湿試験
用テストパターンを示す。このパターンはくし型構造に
なっており、片側パターンのみを選択的に電解処理かで
きるようになっている。そこで、配線材料としてAlを用
い、第4図のパターンを作製し。そこで、次に電解液と
して純水(pH=7.0)を用い、第4図のパターンの片側
端子を極にして、DC電圧を50V印加し、60秒間の電解
処理をした。したがって、もう一方のパターは電解処理
されていないことになる。このように作製した高温高湿
試験用パターンを信頼性評価試験である高温高湿試験
(70℃/95%RH)した。その結果、高温高湿試験506時間
後において、交互に電解処理をしたAlパターンは腐蝕が
発生していないことが確認された。一方、電解処理をし
ていないAlパターンは完全に腐蝕が認められた。このよ
うに中性水溶液で電解処理することにより、Al配線の腐
蝕が防止され、信頼性が向上することが確認された。こ
の腐蝕が防止される理由としては、電解処理することに
よりAl表面に薄い緻密な酸化膜が生成していることが考
えられ、その酸化膜の膜厚を調べた結果を第5図に示
す。第5図の縦軸は酸化膜の膜厚、横軸は印加電圧を示
す。なお、電解液としては純水(pH=7.0)であり、印
加時間60秒である。また、電解電流は電圧印加時に急激
に流れるが、直ちに下がってほとんど流れなくなること
を確認している。したがって、酸化膜の生成膜厚は、印
加電圧に比例するこになる。
用テストパターンを示す。このパターンはくし型構造に
なっており、片側パターンのみを選択的に電解処理かで
きるようになっている。そこで、配線材料としてAlを用
い、第4図のパターンを作製し。そこで、次に電解液と
して純水(pH=7.0)を用い、第4図のパターンの片側
端子を極にして、DC電圧を50V印加し、60秒間の電解
処理をした。したがって、もう一方のパターは電解処理
されていないことになる。このように作製した高温高湿
試験用パターンを信頼性評価試験である高温高湿試験
(70℃/95%RH)した。その結果、高温高湿試験506時間
後において、交互に電解処理をしたAlパターンは腐蝕が
発生していないことが確認された。一方、電解処理をし
ていないAlパターンは完全に腐蝕が認められた。このよ
うに中性水溶液で電解処理することにより、Al配線の腐
蝕が防止され、信頼性が向上することが確認された。こ
の腐蝕が防止される理由としては、電解処理することに
よりAl表面に薄い緻密な酸化膜が生成していることが考
えられ、その酸化膜の膜厚を調べた結果を第5図に示
す。第5図の縦軸は酸化膜の膜厚、横軸は印加電圧を示
す。なお、電解液としては純水(pH=7.0)であり、印
加時間60秒である。また、電解電流は電圧印加時に急激
に流れるが、直ちに下がってほとんど流れなくなること
を確認している。したがって、酸化膜の生成膜厚は、印
加電圧に比例するこになる。
前述した高温高湿試験をした試料は、印加電圧50Vで
あることから、酸化膜の膜厚としては約400Å程度(第
5図参照)であり、この程度の膜厚でも信頼性に十分耐
えることを確認した。さらに、酸化膜の膜厚が300Åの
試料を信頼性評価である高温高湿試験(70℃/95%RH)
をした結果、Al配線の腐蝕は認められないことを確認し
た。したがって、酸化膜の最低膜厚は300Å以上あれば
よいことを確認した。
あることから、酸化膜の膜厚としては約400Å程度(第
5図参照)であり、この程度の膜厚でも信頼性に十分耐
えることを確認した。さらに、酸化膜の膜厚が300Åの
試料を信頼性評価である高温高湿試験(70℃/95%RH)
をした結果、Al配線の腐蝕は認められないことを確認し
た。したがって、酸化膜の最低膜厚は300Å以上あれば
よいことを確認した。
以上のように、本発明において、回路素子を構成する
配線表面に形成する酸化膜は、前記配線に高温高湿下で
の十分な耐腐蝕性を付与するに足る緻密さを有する、す
なわち、防湿性乃至防蝕性の観点から実質的にノンポー
ラスなものである。そして、このようなナンポーラスな
酸化膜は、電気化学的処理における電解液として中性の
ものを使用することによって形成されるものであって、
従来公知のアルマイトのようち電解液を0.4以下の酸性
としたものにおいては、形成される酸化膜が300Å〜400
Åの穴を有するポーラスなものとなって、所期の緻密さ
を有するものは得られない。また、このようなポーラス
な酸化膜は、電気絶縁性の点でも、所要の性能を有しな
いものである。
配線表面に形成する酸化膜は、前記配線に高温高湿下で
の十分な耐腐蝕性を付与するに足る緻密さを有する、す
なわち、防湿性乃至防蝕性の観点から実質的にノンポー
ラスなものである。そして、このようなナンポーラスな
酸化膜は、電気化学的処理における電解液として中性の
ものを使用することによって形成されるものであって、
従来公知のアルマイトのようち電解液を0.4以下の酸性
としたものにおいては、形成される酸化膜が300Å〜400
Åの穴を有するポーラスなものとなって、所期の緻密さ
を有するものは得られない。また、このようなポーラス
な酸化膜は、電気絶縁性の点でも、所要の性能を有しな
いものである。
以上、配線を構成する素材としてAlを使用した場合に
ついて説明したが、本発明において前記配線を構成する
素材としては、Al以外にCu、Ti等も同様に使用すること
ができる。
ついて説明したが、本発明において前記配線を構成する
素材としては、Al以外にCu、Ti等も同様に使用すること
ができる。
本発明は、上記のように、配線基板上に形成した配線
を中性水溶液中で電解処理して、その表面に十分に緻
密、すなわち、防湿性乃至防蝕性の観点から実質的にノ
ンポーラスな酸化膜を形成することにより、前記配線の
高温高湿下での腐蝕が防止される。そして、これによ
り、前記配線の断線及び短絡がなくなることから、表示
不良などの誤動作がなくなり、信頼性が向上することが
確認された。
を中性水溶液中で電解処理して、その表面に十分に緻
密、すなわち、防湿性乃至防蝕性の観点から実質的にノ
ンポーラスな酸化膜を形成することにより、前記配線の
高温高湿下での腐蝕が防止される。そして、これによ
り、前記配線の断線及び短絡がなくなることから、表示
不良などの誤動作がなくなり、信頼性が向上することが
確認された。
以下、本発明による液晶表示パネルについて、図示の
実施例により詳細に説明する。
実施例により詳細に説明する。
第1図は本発明の液晶表示パネルの一実施例で、この
第1図において1,2はガラス基板、3は封止剤、4はLSI
チップ、5は接着剤、6はワイヤ線、7及び8は金属配
線、9は液晶層、10及び11はIn2O3,SnO2またはこれら
の混合物よりなる透明導電膜からなる透明電極である。
第1図において1,2はガラス基板、3は封止剤、4はLSI
チップ、5は接着剤、6はワイヤ線、7及び8は金属配
線、9は液晶層、10及び11はIn2O3,SnO2またはこれら
の混合物よりなる透明導電膜からなる透明電極である。
12及び13は酸化膜層であり、金属配線7及び8の表面
に形成してある。14はコーティング樹脂であり、LSIチ
ップを保護するためである。
に形成してある。14はコーティング樹脂であり、LSIチ
ップを保護するためである。
液晶表示部分100は、ガラス基板1とガラス基板2の
間に液晶層9をはさむ構造となっている。そのガラス基
板1には透明電極10、ガラス基板2には透明電極11が形
成されている。この透明電極11は、液晶表示素子部分か
ら外部に出ており、そこで金属配線7及び8を一部積層
して電気的な接続を確保している。
間に液晶層9をはさむ構造となっている。そのガラス基
板1には透明電極10、ガラス基板2には透明電極11が形
成されている。この透明電極11は、液晶表示素子部分か
ら外部に出ており、そこで金属配線7及び8を一部積層
して電気的な接続を確保している。
本発明によれば、金属配線7及び8の表面には緻密な
酸化膜層が設けてあるので、高温高湿試験において、腐
蝕を防止し、配線の溶解、断線がなくなり、信頼性の向
上をはかることができた。
酸化膜層が設けてあるので、高温高湿試験において、腐
蝕を防止し、配線の溶解、断線がなくなり、信頼性の向
上をはかることができた。
表1にこの実施例による液晶表示パネルの高温高湿試
験結果を示す。
験結果を示す。
この表1の中には、比較のために金属配線がCr−Cu2
層膜、Al(電解処理をしないもの)膜からなる液晶表示
パネルを一緒に示した。この表1は、第1図の実施例に
おける金属配線7,8の厚さは2.0μmと一定にしてある。
この中で本実施例におけるAl配線上の酸化膜層の厚さは
150,300,430Åである。
層膜、Al(電解処理をしないもの)膜からなる液晶表示
パネルを一緒に示した。この表1は、第1図の実施例に
おける金属配線7,8の厚さは2.0μmと一定にしてある。
この中で本実施例におけるAl配線上の酸化膜層の厚さは
150,300,430Åである。
これから明らかなように、高温高湿試験(70/95%RH
−1000時間)を満足するためには、酸化膜層の厚さが30
0Å以上あればよいことが確認された。
−1000時間)を満足するためには、酸化膜層の厚さが30
0Å以上あればよいことが確認された。
そして、必要に応じて、上記酸化膜の表面に、さら
に、エポキシ樹脂等による保護皮膜を形成することによ
り、前記配線表面の汚染防止等の保護を一層十分なもの
とすることができる。
に、エポキシ樹脂等による保護皮膜を形成することによ
り、前記配線表面の汚染防止等の保護を一層十分なもの
とすることができる。
なお、本発明では中性水溶液中で電解処理することに
より、配線表面に緻密な酸化膜層を形成して配線の水に
よる腐蝕を防止しているが、仮に、金属配線を電解処理
せずして、溶液中に浸すだけで金属配線の表面上に緻密
な皮膜を生成する電解液があれば非常に有効である。
より、配線表面に緻密な酸化膜層を形成して配線の水に
よる腐蝕を防止しているが、仮に、金属配線を電解処理
せずして、溶液中に浸すだけで金属配線の表面上に緻密
な皮膜を生成する電解液があれば非常に有効である。
このような電解液の特性としては、弱い酸、アルカリ
性溶液でなく、中性溶液がよいと考えられる。
性溶液でなく、中性溶液がよいと考えられる。
さらに、一歩進んで、液晶表示パネルの配線材料とし
て、導電性樹脂が採用できれば、高温高湿下での腐蝕の
問題はまったくないと考えられる。
て、導電性樹脂が採用できれば、高温高湿下での腐蝕の
問題はまったくないと考えられる。
以上説明したように、本発明によれば、電子回路素子
を搭載した液晶表示パネルにおいて金属配線の腐蝕をな
くすることができることから、従来技術の問題点を解決
できる上、歩留まりの改善も期待でき、自動車用などと
して充分な信頼性を保つことができる表示パネルが得ら
れる。
を搭載した液晶表示パネルにおいて金属配線の腐蝕をな
くすることができることから、従来技術の問題点を解決
できる上、歩留まりの改善も期待でき、自動車用などと
して充分な信頼性を保つことができる表示パネルが得ら
れる。
第1図は本発明の液晶表示パネルの一実施例の断面図、
第2図は従来例の液晶表示パネルの一例の斜視図、第3
図は第2図のA−A′断面図、第4図は高温高湿試験用
テストパターンを示す概略図、第5図は酸化膜厚と電解
時の印加電圧との関係を示す特性図、である。 1,2……ガラス基板、3……封止剤、4……LSIチップ、
5……接着剤、6……ワイヤ線、7,8……金属配線、9
……液晶層、10,11……透明電極、12,13……酸化層、14
……コーティング樹脂、100……液晶表示部分
第2図は従来例の液晶表示パネルの一例の斜視図、第3
図は第2図のA−A′断面図、第4図は高温高湿試験用
テストパターンを示す概略図、第5図は酸化膜厚と電解
時の印加電圧との関係を示す特性図、である。 1,2……ガラス基板、3……封止剤、4……LSIチップ、
5……接着剤、6……ワイヤ線、7,8……金属配線、9
……液晶層、10,11……透明電極、12,13……酸化層、14
……コーティング樹脂、100……液晶表示部分
Claims (6)
- 【請求項1】表示素子の電極基板の一方を拡張させて配
線基板とし、この配線基板に表示素子駆動用の電子回路
素子を搭載した液晶表示パネルにおいて、上記回路素子
を構成する配線が、実質的にノンポーラスな酸化膜が表
面に形成された導体からなることを特徴とする液晶表示
パネル。 - 【請求項2】配線が、Al配線であり、酸化膜が酸化アル
ミニウム膜であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の液晶表示パネル。 - 【請求項3】酸化膜の膜厚が300Å以上であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の液晶
表示パネル。 - 【請求項4】表示素子の電極基板の一方を拡張させて配
線基板とし、この配線基板に表示素子駆動用の電子回路
素子を搭載した液晶表示パネルを製造する方法におい
て、配線基板上への配線形成の後、前記配線を中性電解
液により、電気化学的処理をすることにより、前記配線
表面に実質的にノンポーラスな酸化膜を形成することを
特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 - 【請求項5】前記中性電解液が水素イオン濃度6〜8
(pH=6〜8)の範囲にある水溶液であることを特徴と
する特許請求の範囲第4項記載の液晶表示パネルの製造
方法。 - 【請求項6】配線が、Al配線であり、酸化膜が酸化アル
ミニウム膜であることを特徴とする特許請求の範囲第4
項または第5項記載の液晶表示パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62061269A JPH0827461B2 (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62061269A JPH0827461B2 (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6803797A Division JPH09230367A (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63229431A JPS63229431A (ja) | 1988-09-26 |
| JPH0827461B2 true JPH0827461B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=13166333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62061269A Expired - Lifetime JPH0827461B2 (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827461B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4101165A1 (de) * | 1991-01-17 | 1992-07-23 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen einer fluessigkristall-anzeigevorrichtung und danach hergestellte fluessigkristall-anzeigevorrichtung |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5917252A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| JPS60220317A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-05 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子 |
-
1987
- 1987-03-18 JP JP62061269A patent/JPH0827461B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63229431A (ja) | 1988-09-26 |
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