JPH0830025B2 - ２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類 - Google Patents
２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の詳細な説明】 ［目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、糖尿病合併症に対する治療薬（例えば、白
内障）として新規な２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪
酸類及びその塩に関する。
内障）として新規な２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪
酸類及びその塩に関する。
（当該発明が解決しようとする問題点） 本発明者等は、アルドース・リダクターゼ阻害作用を
有する誘導体の合成とその薬理活性について永年に亘り
鋭意研究を行なった結果、既知の化合物とは全く構造を
異にする新規な２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類
及びその塩が、アルドース・リダクターゼ阻害作用を有
し、糖尿病合併症に対する治療薬（例えば、白内障）と
して有用であることを見出し、本発明を完成した。
有する誘導体の合成とその薬理活性について永年に亘り
鋭意研究を行なった結果、既知の化合物とは全く構造を
異にする新規な２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類
及びその塩が、アルドース・リダクターゼ阻害作用を有
し、糖尿病合併症に対する治療薬（例えば、白内障）と
して有用であることを見出し、本発明を完成した。
［構成］ 本発明の新規な２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸
類は、 一般式 ［式中、R1は、炭素数４乃至20個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基を示し、R2は、水素原子又は水酸基の保護基を
示し、R3は、水素原子又はカルボキシ基の保護基を示
す。］を有する。
類は、 一般式 ［式中、R1は、炭素数４乃至20個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基を示し、R2は、水素原子又は水酸基の保護基を
示し、R3は、水素原子又はカルボキシ基の保護基を示
す。］を有する。
上記一般式（Ｉ）において、 R1で定義された「炭素数４乃至20個の直鎖又は分枝鎖
アルキル基」とは、例えば、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチ
ル、２−メチルブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、
４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチル
ペンチル、3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチ
ル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3
−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、ｎ−ヘプチ
ル、４−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、２−メ
チルヘキシル、3,3−ジメチルペンチル、2,2−ジメチル
ペンチル、1,1−ジメチルペンチル、1,2−ジメチルペン
チル、1,3−ジメチルペンチル、2,3−ジメチルペンチ
ル、ｎ−オクチル、４−メチルヘプチル、３−メチルヘ
プチル、２−メチルヘプチル、3,3−ジメチルヘキシ
ル、2,2−ジメチルヘキシル、1,1−ジメチルヘキシル、
1,2−ジメチルヘキシル、1,3−ジメチルヘキシル、2,3
−ジメチルヘキシル、ｎ−ノニル、４−メチルオクチ
ル、３−メチルオクチル、２−メチルオクチル、3,3−
ジメチルヘプチル、2,2−ジメチルヘプチル、1,1−ジメ
チルヘプチル、1,2−ジメチルヘプチル、1,3−ジメチル
ヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、デシル、３−メチ
ルノニル、８−メチルノニル、３−エチルオクチル、3,
7−ジメチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデ
シル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、１
−メチルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、13,1
3−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチル
ヘキサデシル、オクタデシル、１−メチルヘプタデシ
ル、ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシル及びドコシ
ルを挙げることができるが、好適には炭素数５乃至18の
直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
アルキル基」とは、例えば、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチ
ル、２−メチルブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、
４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチル
ペンチル、3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチ
ル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3
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ル、ｎ−オクチル、４−メチルヘプチル、３−メチルヘ
プチル、２−メチルヘプチル、3,3−ジメチルヘキシ
ル、2,2−ジメチルヘキシル、1,1−ジメチルヘキシル、
1,2−ジメチルヘキシル、1,3−ジメチルヘキシル、2,3
−ジメチルヘキシル、ｎ−ノニル、４−メチルオクチ
ル、３−メチルオクチル、２−メチルオクチル、3,3−
ジメチルヘプチル、2,2−ジメチルヘプチル、1,1−ジメ
チルヘプチル、1,2−ジメチルヘプチル、1,3−ジメチル
ヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、デシル、３−メチ
ルノニル、８−メチルノニル、３−エチルオクチル、3,
7−ジメチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデ
シル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、１
−メチルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、13,1
3−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチル
ヘキサデシル、オクタデシル、１−メチルヘプタデシ
ル、ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシル及びドコシ
ルを挙げることができるが、好適には炭素数５乃至18の
直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
R2で定義された「水酸基の保護基」は、反応における
保護基及び生体に投与する際のプロドラッグ化のための
保護基を示し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブ
チル、ペンチル、ヘキシルのような低級アルキル基；ホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレ
リル、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリ
デカノイル、パルミトイル、ステアロイルのようなアル
キルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよう
なハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチル
のような低級アルコキシアルキルカルボニル基、（Ｅ）
−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキル
カルボニル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、α−ナ
フトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル
基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのよ
うなハロゲン化アリールカルボニル基、2,4,6−トリメ
チルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル
化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級
アルコキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾ
イル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリール
カルボニル基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイル
のような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニ
ル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリ
ールアルボニル基等の芳香族アシル基；トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、
ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリ
ル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシ
リルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメ
チルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソ
プロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのよう
な１乃至２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキ
ルシリル基などのシリル基；メトキシメチル、1,1−ジ
メチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポ
キシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、
ｔ−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基、
２−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化
低級アルコキシメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチルのようなハ
ロゲン化低級アルコキシメチル等のアルコキシメチル
基;1−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエチ
ル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低級アルコ
キシ化エチル基、2,2,2−トリクロロエチルのようなハ
ロゲン化エチル基、２−（フェニルゼレニル）エチルの
ようなアリールゼレニル化エチル基等の置換エチル基；
ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナ
フチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチ
ル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリー
ル基で置換された低級アルキル基、４−メチルベンジ
ル、２、４、６−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメ
チルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフ
ェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニ
トロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジ
ル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジフェニ
ルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、ピペロ
ニルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、
ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃至３
個のアリール基で置換された低級アルキル基等のアラル
キル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ
−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのよう
な低級アルコキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエ
トキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカル
ボニルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基
で置換された低級アルコキシカルボニル基等のアルコキ
シカルボニル基；ビニルオキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニルのようなアルケニルオキシカルボニル基；
ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニト
ロベンジルオキシカルボニルのような、１乃至２個の低
級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されてい
てもよいアラルキルオキシカルボニル基のような反応に
おける保護基及びピバロイルオキシメチルオキシカルボ
ニルのような生体に投与する際のプロドラッグ化のため
の生体内で加水分解され易い保護基を挙げることがで
き、好適には低級アルキル基、脂肪族アシル基、芳香族
アシル基、アラルキル基、アルケニルオキシカルボニル
基及びアラルキルオキシカルボニル基である。
保護基及び生体に投与する際のプロドラッグ化のための
保護基を示し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブ
チル、ペンチル、ヘキシルのような低級アルキル基；ホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレ
リル、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリ
デカノイル、パルミトイル、ステアロイルのようなアル
キルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよう
なハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチル
のような低級アルコキシアルキルカルボニル基、（Ｅ）
−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキル
カルボニル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、α−ナ
フトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル
基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのよ
うなハロゲン化アリールカルボニル基、2,4,6−トリメ
チルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル
化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級
アルコキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾ
イル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリール
カルボニル基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイル
のような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニ
ル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリ
ールアルボニル基等の芳香族アシル基；トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、
ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリ
ル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシ
リルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメ
チルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソ
プロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのよう
な１乃至２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキ
ルシリル基などのシリル基；メトキシメチル、1,1−ジ
メチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポ
キシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、
ｔ−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基、
２−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化
低級アルコキシメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシ
メチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチルのようなハ
ロゲン化低級アルコキシメチル等のアルコキシメチル
基;1−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエチ
ル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低級アルコ
キシ化エチル基、2,2,2−トリクロロエチルのようなハ
ロゲン化エチル基、２−（フェニルゼレニル）エチルの
ようなアリールゼレニル化エチル基等の置換エチル基；
ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナ
フチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチ
ル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリー
ル基で置換された低級アルキル基、４−メチルベンジ
ル、２、４、６−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメ
チルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフ
ェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニ
トロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジ
ル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジフェニ
ルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、ピペロ
ニルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、
ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃至３
個のアリール基で置換された低級アルキル基等のアラル
キル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ
−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのよう
な低級アルコキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエ
トキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカル
ボニルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基
で置換された低級アルコキシカルボニル基等のアルコキ
シカルボニル基；ビニルオキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニルのようなアルケニルオキシカルボニル基；
ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニト
ロベンジルオキシカルボニルのような、１乃至２個の低
級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されてい
てもよいアラルキルオキシカルボニル基のような反応に
おける保護基及びピバロイルオキシメチルオキシカルボ
ニルのような生体に投与する際のプロドラッグ化のため
の生体内で加水分解され易い保護基を挙げることがで
き、好適には低級アルキル基、脂肪族アシル基、芳香族
アシル基、アラルキル基、アルケニルオキシカルボニル
基及びアラルキルオキシカルボニル基である。
R3で定義された「カルボキシ基の保護基」とは、反応
における保護基を示し、例えば、前記低級アルキル基;
2、２、２−トリクロロエチル、２−ブロモエチル、２
−クロロエチル、２−フルオロエチル、２、２−ジブロ
モエチルのようなハロゲノ低級アルキル基；フェニル、
ナフチルのようなアリール基；ビニル、アリルのような
アリル基；前記アラルキル基等の反応における保護基を
挙げることができ、好適には低級アルキル基、アリル基
及びアリール基で置換された低級アルキル基であり、特
に好適には、分枝鎖状の低級アルキル基、アリール基、
アリル基及びアリール基で置換された低級アルキル基で
ある。
における保護基を示し、例えば、前記低級アルキル基;
2、２、２−トリクロロエチル、２−ブロモエチル、２
−クロロエチル、２−フルオロエチル、２、２−ジブロ
モエチルのようなハロゲノ低級アルキル基；フェニル、
ナフチルのようなアリール基；ビニル、アリルのような
アリル基；前記アラルキル基等の反応における保護基を
挙げることができ、好適には低級アルキル基、アリル基
及びアリール基で置換された低級アルキル基であり、特
に好適には、分枝鎖状の低級アルキル基、アリール基、
アリル基及びアリール基で置換された低級アルキル基で
ある。
本発明の化合物（Ｉ）は、塩にすることができるが、
そのような塩としては、好適にはナトリウム塩、カリウ
ム塩又はカルシウム塩のようなアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸塩
のようなアミノ酸塩をあげることができる。
そのような塩としては、好適にはナトリウム塩、カリウ
ム塩又はカルシウム塩のようなアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸塩
のようなアミノ酸塩をあげることができる。
本発明の化合物（Ｉ）は、分子内に不斉炭素を有し、
各々がＳ配位、Ｒ配位である立体異性体が存在するが、
その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包
含される。
各々がＳ配位、Ｒ配位である立体異性体が存在するが、
その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包
含される。
化合物（Ｉ）において、好適な基としては、 （１） R1が、炭素数５乃至18の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基である化合物 （２） R2が、低級アルキル基、脂肪族アシル基、芳香
族アシル基、アラルキル基、アルケニルオキシカルボニ
ル基及びアラルキルオキシカルボニル基である化合物 （３） R3が、低級アルキル基、アリール基、アリル基
及びアリール基で置換された低級アルキル基である化合
物 （４） R3が、分枝鎖状の低級アルキル基、アリール
基、アリル基及びアリール基で置換された低級アルキル
基である化合物 （５） R1が、炭素数５乃至18の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基であり、R2が、低級アルキル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、アラルキル基及びアラルキルオキシカ
ルボニル基であり、R3が、低級アルキル基、アリール
基、アリル基及びアリール基で置換された低級アルキル
基である化合物 （６） R1が、炭素数５乃至18の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基であり、R2が、低級アルキル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、アラルキル基及びアラルキルオキシカ
ルボニル基であり、R3が、分枝鎖状の低級アルキル基、
アリール基、アリル基及びアリール基で置換された低級
アルキル基である化合物 をあげることができる。
ル基である化合物 （２） R2が、低級アルキル基、脂肪族アシル基、芳香
族アシル基、アラルキル基、アルケニルオキシカルボニ
ル基及びアラルキルオキシカルボニル基である化合物 （３） R3が、低級アルキル基、アリール基、アリル基
及びアリール基で置換された低級アルキル基である化合
物 （４） R3が、分枝鎖状の低級アルキル基、アリール
基、アリル基及びアリール基で置換された低級アルキル
基である化合物 （５） R1が、炭素数５乃至18の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基であり、R2が、低級アルキル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、アラルキル基及びアラルキルオキシカ
ルボニル基であり、R3が、低級アルキル基、アリール
基、アリル基及びアリール基で置換された低級アルキル
基である化合物 （６） R1が、炭素数５乃至18の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基であり、R2が、低級アルキル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、アラルキル基及びアラルキルオキシカ
ルボニル基であり、R3が、分枝鎖状の低級アルキル基、
アリール基、アリル基及びアリール基で置換された低級
アルキル基である化合物 をあげることができる。
本発明の代表的化合物としては、例えば、第１表に記
載する化合物を挙げることができるが、本発明はこれら
の化合物に限定されるものではない。
載する化合物を挙げることができるが、本発明はこれら
の化合物に限定されるものではない。
上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、５、
６、７、８、９、19、20、21、22、23、33、34、35、3
6、37、47、48、49、50、51、61、62、63、64、65、7
1、72、73、74及び75の化合物をあげることができる。
６、７、８、９、19、20、21、22、23、33、34、35、3
6、37、47、48、49、50、51、61、62、63、64、65、7
1、72、73、74及び75の化合物をあげることができる。
更に、好適な化合物としては、５、７、９、19、21、
23、33、35、37、47、49、51、61、63、65、71、73及び
75の化合物をあげることができる。
23、33、35、37、47、49、51、61、63、65、71、73及び
75の化合物をあげることができる。
本発明の２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類は、
以下に記載する方法によって、公知化合物（II）を出発
原料として製造することができる。
以下に記載する方法によって、公知化合物（II）を出発
原料として製造することができる。
上記式中、R1、R2及びR3は前記と同意義を示す。
フルオロメチルケトン化合物（II）とアルデヒド化合
物（III）をウェルチとセパーらの方法（J.T.Welch,K.
W.Seper,Tetrahedron Lett.,25,5247（1984））に従っ
て、アルドール縮合反応に付し、syn−２−フルオロ−
３−ヒドロキシケトン誘導体（IV）のラセミ体を得た。
製造された化合物（IV）を用い、メタノール、エタノー
ル、プロパノールのような低級アルコール類中でマグネ
シウムモノパーフタレイト、カルシウムモノパーフタレ
イトのようなアルカリ土類金属モノパーフタレイトによ
って常法に従い、バイヤービリガー反応を行なうことに
より、エステル化合物（Ｖ）を製造した。このエステル
化合物（Ｖ）のカルボキシ基の保護基を常法に従って、
以下の様に脱離し、本発明化合物（VI）を得た。
物（III）をウェルチとセパーらの方法（J.T.Welch,K.
W.Seper,Tetrahedron Lett.,25,5247（1984））に従っ
て、アルドール縮合反応に付し、syn−２−フルオロ−
３−ヒドロキシケトン誘導体（IV）のラセミ体を得た。
製造された化合物（IV）を用い、メタノール、エタノー
ル、プロパノールのような低級アルコール類中でマグネ
シウムモノパーフタレイト、カルシウムモノパーフタレ
イトのようなアルカリ土類金属モノパーフタレイトによ
って常法に従い、バイヤービリガー反応を行なうことに
より、エステル化合物（Ｖ）を製造した。このエステル
化合物（Ｖ）のカルボキシ基の保護基を常法に従って、
以下の様に脱離し、本発明化合物（VI）を得た。
即ち、カルボキシ基の保護基として、低級アルキル基
又はアリル基を使用した場合には、酸又は塩基で処理す
ることにより除去することができる。酸としては、塩
酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸が用
いられ、塩基としては、化合物の他の部分に影響を与え
ないものであれば特に限定はないが、好適には炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて実施さ
れる。尚、塩基による加水分解では異性化が起こること
がある。使用される溶媒としては通常の加水分解反応に
使用されるものであれば特に限定はなく、水又は水とメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノールのようなアル
コール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が好適で
ある。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩基
等によって異なり特に限定はないが、副反応を抑制する
ために、通常は０℃乃至150℃で、１乃至10時間であ
る。
又はアリル基を使用した場合には、酸又は塩基で処理す
ることにより除去することができる。酸としては、塩
酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸が用
いられ、塩基としては、化合物の他の部分に影響を与え
ないものであれば特に限定はないが、好適には炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて実施さ
れる。尚、塩基による加水分解では異性化が起こること
がある。使用される溶媒としては通常の加水分解反応に
使用されるものであれば特に限定はなく、水又は水とメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノールのようなアル
コール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が好適で
ある。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩基
等によって異なり特に限定はないが、副反応を抑制する
ために、通常は０℃乃至150℃で、１乃至10時間であ
る。
カルボキシ基の保護基がジフェニルメチルのようなジ
アリール置換メチル基である場合には、通常酸性条件下
で除去する。使用される反応溶媒としてはアニソールの
ような芳香族炭化水素類がよく、酸としてはトリフルオ
ロ酢酸のようなフッ素置換有機酸が用いられる。反応温
度及び反応時間は出発物質等によって異なるが、通常は
室温で30分乃至10時間である。
アリール置換メチル基である場合には、通常酸性条件下
で除去する。使用される反応溶媒としてはアニソールの
ような芳香族炭化水素類がよく、酸としてはトリフルオ
ロ酢酸のようなフッ素置換有機酸が用いられる。反応温
度及び反応時間は出発物質等によって異なるが、通常は
室温で30分乃至10時間である。
カルボキシ基の保護基がアラルキル基又はハロゲノ低
級アルキル基である場合には、通常還元剤と接触させる
ことにより除去することができる。還元剤としては、カ
ルボキシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場
合には、亜鉛−酢酸が好適であり、アラルキル基である
場合には、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い、
接触還元を行なうか、又は硫化カリウム、硫化ナトリウ
ムのようなアルカリ金属硫化物を用いて実施される。反
応は溶媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類；テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる
還元剤等によって異なるが、通常は０℃乃至室温付近
で、５分乃至12時間である。
級アルキル基である場合には、通常還元剤と接触させる
ことにより除去することができる。還元剤としては、カ
ルボキシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場
合には、亜鉛−酢酸が好適であり、アラルキル基である
場合には、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い、
接触還元を行なうか、又は硫化カリウム、硫化ナトリウ
ムのようなアルカリ金属硫化物を用いて実施される。反
応は溶媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類；テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる
還元剤等によって異なるが、通常は０℃乃至室温付近
で、５分乃至12時間である。
尚、所望により、常法に従って、上記生成したカルボ
ン酸化合物を水と酢酸エチルのような水と混和しない有
機溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウム水溶
液、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭酸塩若
しくは重炭酸塩水溶液を、０℃乃至室温下に加え、pH7
付近と析出した沈殿を濾取することにより塩を形成する
ことができる。
ン酸化合物を水と酢酸エチルのような水と混和しない有
機溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウム水溶
液、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭酸塩若
しくは重炭酸塩水溶液を、０℃乃至室温下に加え、pH7
付近と析出した沈殿を濾取することにより塩を形成する
ことができる。
一方、化合物（Ｖ）の３位水酸基を保護基で常法に従
って保護し本発明化合物（VII）を製造し、所望によ
り、カルボキシ基の保護基を常法に従って、除去し、水
酸基の保護された本発明化合物（VIII）を製造した。
って保護し本発明化合物（VII）を製造し、所望によ
り、カルボキシ基の保護基を常法に従って、除去し、水
酸基の保護された本発明化合物（VIII）を製造した。
水酸基の保護化反応の方法は周知であるが、例えば、
水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、
アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基又はピバロイルオキ
シメチルオキシカルボニル基である場合には、式R2′Ｘ
を有する化合物（式中、R2′は前記R2の定義における脂
肪族アシル基、芳香族アシル基、アルコキシカルボニル
基、アルケニルオキシカルボニル基、アラルキルオキシ
カルボニル基又はピバロイルオキシメチルオキシカルボ
ニル基と同意義を示し、Ｘは、塩素、臭素、沃素のよう
なハロゲン原子；アセトキシ、プロピオニルオキシのよ
うなアルキルカルボニルオキシ基、クロロアセチルオキ
シ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキ
シ、トリフルオロアセチルオキシのようなハロゲン化ア
ルキルカルボニルオキシ基、メトキシアセチルオキシの
ような低級アルコキシアルキルカルボニルオキシ基、
（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルオキシのような不
飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪族アシルオキ
シ基；ベンゾイルオキシのようなアリールカルボニルオ
キシ基、２−ブロモベンゾイルオキシ、４−クロロベン
ゾイルオキシのようなハロゲン化アリールカルボニルオ
キシ基、2,4,6−トリメチルベンゾイルオキシ、４−ト
ルオイルオキシのような低級アルキル化アリールカルボ
ニルオキシ基、４−アニソイルオキシのような低級アル
コキシ化アリールカルボニルオキシ基、４−ニトロベン
ゾイルオキシ、２−ニトロベンゾイルオキシのようなニ
トロ化アリールカルボニルオキシ基等の芳香族アシルオ
キシ基；トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲノ
メチルオキシ基；メタンスルホニルオキシ、エタンスル
ホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ
基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタフル
オロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級アル
カンスルホニルオキシ基及びベンゼンスルホニルオキ
シ、ｐ−トルエンスルホニルオキシのようなアリールス
ルホニルオキシ基等の脱離基を示す。）又は式R2′O
R2′を有する酸無水物（式中、R2′は前記と同意義を示
す。）を使用することによって、溶媒中、加熱又は非加
熱下、塩基の存在又は非存在下に実施される。
水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、
アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基又はピバロイルオキ
シメチルオキシカルボニル基である場合には、式R2′Ｘ
を有する化合物（式中、R2′は前記R2の定義における脂
肪族アシル基、芳香族アシル基、アルコキシカルボニル
基、アルケニルオキシカルボニル基、アラルキルオキシ
カルボニル基又はピバロイルオキシメチルオキシカルボ
ニル基と同意義を示し、Ｘは、塩素、臭素、沃素のよう
なハロゲン原子；アセトキシ、プロピオニルオキシのよ
うなアルキルカルボニルオキシ基、クロロアセチルオキ
シ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキ
シ、トリフルオロアセチルオキシのようなハロゲン化ア
ルキルカルボニルオキシ基、メトキシアセチルオキシの
ような低級アルコキシアルキルカルボニルオキシ基、
（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルオキシのような不
飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪族アシルオキ
シ基；ベンゾイルオキシのようなアリールカルボニルオ
キシ基、２−ブロモベンゾイルオキシ、４−クロロベン
ゾイルオキシのようなハロゲン化アリールカルボニルオ
キシ基、2,4,6−トリメチルベンゾイルオキシ、４−ト
ルオイルオキシのような低級アルキル化アリールカルボ
ニルオキシ基、４−アニソイルオキシのような低級アル
コキシ化アリールカルボニルオキシ基、４−ニトロベン
ゾイルオキシ、２−ニトロベンゾイルオキシのようなニ
トロ化アリールカルボニルオキシ基等の芳香族アシルオ
キシ基；トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲノ
メチルオキシ基；メタンスルホニルオキシ、エタンスル
ホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ
基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタフル
オロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級アル
カンスルホニルオキシ基及びベンゼンスルホニルオキ
シ、ｐ−トルエンスルホニルオキシのようなアリールス
ルホニルオキシ基等の脱離基を示す。）又は式R2′O
R2′を有する酸無水物（式中、R2′は前記と同意義を示
す。）を使用することによって、溶媒中、加熱又は非加
熱下、塩基の存在又は非存在下に実施される。
水酸基の保護基が、シリル基、アルコキシメチル基、
置換エチル基、アラルキル基又は低級アルキル基である
場合には、例えば、式R2″Ｘを有する化合物（式中、
R2″は、前記R2の定義におけるシリル基、アルコキシメ
チル基、置換エチル基、アラルキル基又は低級アルキル
基を同意義を示し、Ｘは前記と同意義を示す。）を使用
することによって、溶媒中、加熱又は非加熱下、塩基の
存在又は非存在下に実施される。
置換エチル基、アラルキル基又は低級アルキル基である
場合には、例えば、式R2″Ｘを有する化合物（式中、
R2″は、前記R2の定義におけるシリル基、アルコキシメ
チル基、置換エチル基、アラルキル基又は低級アルキル
基を同意義を示し、Ｘは前記と同意義を示す。）を使用
することによって、溶媒中、加熱又は非加熱下、塩基の
存在又は非存在下に実施される。
［効果］ 本発明の新規な２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸
類及びその塩は、アルドース・リダクターゼ阻害作用を
有し、糖尿病合併症に対する治療剤として有用である。
類及びその塩は、アルドース・リダクターゼ阻害作用を
有し、糖尿病合併症に対する治療剤として有用である。
本発明の化合物（Ｉ）の投与形態としては、例えば、
錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等
により経口投与又は注射剤若しくは坐剤等による非経口
投与を挙げることができる。これらの製剤は、賦形剤、
結合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加
剤を用いて周知の方法で製造される。その使用量は症
状、年齢等により異なるが、１日0.01-100mg/kg体重を
通常成人に対して、１日１回又は数回に分けて投与する
ことができる。
錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等
により経口投与又は注射剤若しくは坐剤等による非経口
投与を挙げることができる。これらの製剤は、賦形剤、
結合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加
剤を用いて周知の方法で製造される。その使用量は症
状、年齢等により異なるが、１日0.01-100mg/kg体重を
通常成人に対して、１日１回又は数回に分けて投与する
ことができる。
以下に、実施例及び参考例をあげて本発明を更に具体
的に説明する。
的に説明する。
実施例１ （±）−ｔ−ブチルsyn−２−フルオロ−３−ヒドロ
キシミリステート 4,5−syn−2,2−ジメチル−４−フルオロ−５−ヒド
ロキシ−３−オキソヘキサデカン2.7gをエタノール（9
9.5％）100mlに溶解し、マグネシウムモノパーフタレイ
ト６水和物22gを加え、50℃で一夜攪拌した。減圧下濃
縮し、酢酸エチルにて希釈した。酢酸エチル層を２回水
洗し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムにて乾
燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査の油状物をシ
リカゲルカラムに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝
4:1にて精製し、目的化合物を1.1g（39％）の収率で得
た。
キシミリステート 4,5−syn−2,2−ジメチル−４−フルオロ−５−ヒド
ロキシ−３−オキソヘキサデカン2.7gをエタノール（9
9.5％）100mlに溶解し、マグネシウムモノパーフタレイ
ト６水和物22gを加え、50℃で一夜攪拌した。減圧下濃
縮し、酢酸エチルにて希釈した。酢酸エチル層を２回水
洗し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムにて乾
燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残査の油状物をシ
リカゲルカラムに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝
4:1にて精製し、目的化合物を1.1g（39％）の収率で得
た。
赤外吸収スペクトル νmax（フィルム）;3550,1747cm
-1 マススペクトルm/z:319（M+＋１）,297,261,219,183. NMRスペクトル（60MHz）（CDCl3）δppm 0.85−1,05（3H,m）,1.1-1.8（32H,m）,2.2（1H,broad,
OH）,3.94（1H,dm,JFH＝25Hz,C3−Ｈ）,4.67（1H,dd,J
＝49,3Hz,C2−Ｈ）． 参考例１ （±）−syn−２−フルオロ−３−ヒドロキシミリス
チン酸 実施例１で得られたｔ−ブチルエステル1.0gを、30ml
の塩化メチレンに溶解し、10mlのトリフルオロ酢酸を加
え、室温３時間攪拌した。減圧下、溶媒を留去し、生成
する結晶を、ｎ−ヘキサンにて洗浄すると、0.71g（86
％）の収量で目的化合物が得られた 融点:82〜83℃ 赤外吸収スペクトル νmax（ヌジョール）;3280,3000-
2400（broad）,1736cm-1 マススペクトルm/z:263（M+＋１）,262,244,226,224,18
5.172. 参考例 （±）−ｔ−ブチルsyn−２−フルオロ−３−ベンジ
ルオキシカルボニルオキシミリステート 実施例１で得られたアルコール318mg（1mmol）を塩化
メチレン5mlに溶解し、ベンジルオキシクロロフォルメ
ート255mg（1.5mmol）を加え、更に氷冷下、200mgの４
−ジメチルアミノピリジンを加え、１時間攪拌した。原
料が残っていたので、更にベンジルオキシクロロフォル
メート60mgとトリエチルアミン60mgを加え、室温にて30
分攪拌すると原料は消失した。酢酸エチルで希釈し、希
塩酸、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、濾過して濃縮した。残査の油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝9:1
にて精製すると、定量的に目的化合物が得られた。
-1 マススペクトルm/z:319（M+＋１）,297,261,219,183. NMRスペクトル（60MHz）（CDCl3）δppm 0.85−1,05（3H,m）,1.1-1.8（32H,m）,2.2（1H,broad,
OH）,3.94（1H,dm,JFH＝25Hz,C3−Ｈ）,4.67（1H,dd,J
＝49,3Hz,C2−Ｈ）． 参考例１ （±）−syn−２−フルオロ−３−ヒドロキシミリス
チン酸 実施例１で得られたｔ−ブチルエステル1.0gを、30ml
の塩化メチレンに溶解し、10mlのトリフルオロ酢酸を加
え、室温３時間攪拌した。減圧下、溶媒を留去し、生成
する結晶を、ｎ−ヘキサンにて洗浄すると、0.71g（86
％）の収量で目的化合物が得られた 融点:82〜83℃ 赤外吸収スペクトル νmax（ヌジョール）;3280,3000-
2400（broad）,1736cm-1 マススペクトルm/z:263（M+＋１）,262,244,226,224,18
5.172. 参考例 （±）−ｔ−ブチルsyn−２−フルオロ−３−ベンジ
ルオキシカルボニルオキシミリステート 実施例１で得られたアルコール318mg（1mmol）を塩化
メチレン5mlに溶解し、ベンジルオキシクロロフォルメ
ート255mg（1.5mmol）を加え、更に氷冷下、200mgの４
−ジメチルアミノピリジンを加え、１時間攪拌した。原
料が残っていたので、更にベンジルオキシクロロフォル
メート60mgとトリエチルアミン60mgを加え、室温にて30
分攪拌すると原料は消失した。酢酸エチルで希釈し、希
塩酸、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、濾過して濃縮した。残査の油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝9:1
にて精製すると、定量的に目的化合物が得られた。
NMRスペクトル（60MHz）（CDCl3）δppm 0.80−1,50（3H,m）,1.1-1.9（32H,m）,4.79（1H,dd,J
＝3,47Hz.C2−Ｈ）,3.35（5H,s）． 参考例３ （±）−syn−２−フルオロ−３−ベンジルオキシカ
ルボニルオキシミリスチン酸 参考例２で得られた化合物を参考例１と同様に処理
し、目的化合物を、342mg（86％）の収量で得た。
＝3,47Hz.C2−Ｈ）,3.35（5H,s）． 参考例３ （±）−syn−２−フルオロ−３−ベンジルオキシカ
ルボニルオキシミリスチン酸 参考例２で得られた化合物を参考例１と同様に処理
し、目的化合物を、342mg（86％）の収量で得た。
融点:77.5-78℃（ｎ−ヘキサンから再結晶）。
赤外吸収スペクトル νmax（ヌジョール）;3200,1752,
1727cm-1 マススペクトルm/z:396（M+）． ハイマススペクトル 計算値：C22H33O5Fとして、396.23122 実測値:396.23192 NMRスペクトル（60MHz）（CDCl3）δppm 0.80−1,0（3H,m）,1.1-2.0（20H,m）,4.98（1H,dd,J＝
49,3Hz.C2−Ｈ）,4.8-5.4（1H,m,C3−Ｈ）,5.12（2H,
s）,7.33（5H,s）,8.66（1H,bs,COOH）． 参考例４ （±）−syn−2,2−ジメチル−４−フルオロ−５−ヒ
ドロキシ−３−オキソヘキサデカン ｔ−ブチルフルオロメチルケトン1.8g（15mmol）のテ
トラヒドロフラン（10ml）溶液に、リチウム ヘキサメ
チルジシラザイド16mmolのテトラヒドロフラン（10ml）
溶液を、−78℃、窒素気流下加えた。５分後に、ｎ−ド
デカナール2.8g（15mmol）のテトラヒドロフラン（10m
l）溶液を加えた。30分攪拌したのち、酢酸のテトラヒ
ドロフラン溶液を加え中和した。酢酸エチルで希釈し、
炭酸水素ナトリウム水、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した。濾過後濃縮し、シリカゲルクロ
マトに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝9:1にて精
製し、4.0g（87％）の目的化合物を得た。
1727cm-1 マススペクトルm/z:396（M+）． ハイマススペクトル 計算値：C22H33O5Fとして、396.23122 実測値:396.23192 NMRスペクトル（60MHz）（CDCl3）δppm 0.80−1,0（3H,m）,1.1-2.0（20H,m）,4.98（1H,dd,J＝
49,3Hz.C2−Ｈ）,4.8-5.4（1H,m,C3−Ｈ）,5.12（2H,
s）,7.33（5H,s）,8.66（1H,bs,COOH）． 参考例４ （±）−syn−2,2−ジメチル−４−フルオロ−５−ヒ
ドロキシ−３−オキソヘキサデカン ｔ−ブチルフルオロメチルケトン1.8g（15mmol）のテ
トラヒドロフラン（10ml）溶液に、リチウム ヘキサメ
チルジシラザイド16mmolのテトラヒドロフラン（10ml）
溶液を、−78℃、窒素気流下加えた。５分後に、ｎ−ド
デカナール2.8g（15mmol）のテトラヒドロフラン（10m
l）溶液を加えた。30分攪拌したのち、酢酸のテトラヒ
ドロフラン溶液を加え中和した。酢酸エチルで希釈し、
炭酸水素ナトリウム水、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した。濾過後濃縮し、シリカゲルクロ
マトに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝9:1にて精
製し、4.0g（87％）の目的化合物を得た。
融点:34-35℃（ｎ−ヘキサンから再結晶）。
赤外吸収スペクトル νmax（ヌジョール）;3500,1703c
m-1 マススペクトルm/z:303（M+＋１）,245,225,118,103,8
5,57. NMRスペクトル（60MHz）（CDCl3）δppm 0.8−1,0（3H,m）,1.2-2.0（29H,m）,2.17（1H,d,J＝7H
z,OH）,4.96（1H,dd,J＝2.5,48Hz）,3.6-4.0（1H,m）．
m-1 マススペクトルm/z:303（M+＋１）,245,225,118,103,8
5,57. NMRスペクトル（60MHz）（CDCl3）δppm 0.8−1,0（3H,m）,1.2-2.0（29H,m）,2.17（1H,d,J＝7H
z,OH）,4.96（1H,dd,J＝2.5,48Hz）,3.6-4.0（1H,m）．
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/96 Ｚ 9546−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 7/08 Ａ // Ａ６１Ｋ 31/19 ＡＢＬ ＡＥＤ
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中、 R1は、炭素数４乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を
示し、 R2は、水素原子又は下記Ａ群より選択される水酸基の保
護基を示し、 R3は、水素原子又は下記Ｂ群より選択されるカルボキシ
基の保護基を示す。）で表される２−フルオロ−３−ヒ
ドロキシ脂肪酸類及びその塩。 ［Ａ群］ 低級アルキル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、シ
リル基、アルコキシメチル基、置換エチル基、アラルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカル
ボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、及び、ピバ
ロイルオキシメチルオキシカルボニル基 ［Ｂ群］ 低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、アリール
基、アリル基、及び、アラルキル基
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62273139A JPH0830025B2 (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | ２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62273139A JPH0830025B2 (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | ２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01117841A JPH01117841A (ja) | 1989-05-10 |
| JPH0830025B2 true JPH0830025B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=17523663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62273139A Expired - Lifetime JPH0830025B2 (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | ２−フルオロ−３−ヒドロキシ脂肪酸類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0830025B2 (ja) |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP62273139A patent/JPH0830025B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01117841A (ja) | 1989-05-10 |
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