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JPH0831272B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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JPH0831272B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH0831272B2
JPH0831272B2 JP61228741A JP22874186A JPH0831272B2 JP H0831272 B2 JPH0831272 B2 JP H0831272B2 JP 61228741 A JP61228741 A JP 61228741A JP 22874186 A JP22874186 A JP 22874186A JP H0831272 B2 JPH0831272 B2 JP H0831272B2
Authority
JP
Japan
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memory
voltage
memory bank
capacitor
memory device
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP61228741A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS6381686A (en
Inventor
繁 菊田
通裕 山田
博司 宮本
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体記憶装置に関し、特に複数のメモリ
バンクを有するダイナミツク・ランダムアクセスメモリ
(以下ダイナミツクRAMと称する)に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a dynamic random access memory (hereinafter referred to as dynamic RAM) having a plurality of memory banks.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のダイナミツクRAMにおけるストレージゲートへ
の電圧印加装置の構成を第2図に示し、以下これを用い
て従来の技術を説明する。
The structure of a voltage applying device for a storage gate in a conventional dynamic RAM is shown in FIG. 2, and a conventional technique will be described below with reference to FIG.

図において、(1)はメモリバンクであり、ここでは
4個のメモリバンクを有する場合について示した。各メ
モリバンク(1)は行列状に配列された複数のメモリセ
ルを含む。各メモリセルは、選択用のMOSトランジスタ
と情報記憶用のコンデンサとを有する。ストレージゲー
ト(図示せず)は各メモリセルのコンデンサの一方の電
極を構成している。
In the figure, (1) is a memory bank, and here is shown the case of having four memory banks. Each memory bank (1) includes a plurality of memory cells arranged in a matrix. Each memory cell has a MOS transistor for selection and a capacitor for information storage. The storage gate (not shown) constitutes one electrode of the capacitor of each memory cell.

(2)は上記各メモリバンク(1)の周囲をとりまく
アルミ配線、(3)はメモリバンク(1)のストレージ
ゲートに印加する電圧発生回路である。
(2) is an aluminum wiring surrounding the memory banks (1), and (3) is a voltage generation circuit applied to the storage gates of the memory banks (1).

次に動作について説明する。4個のメモリバンク
(1)の中央に配置された電圧発生回路(3)によつて
発生した電圧は、各メモリバンク(1)の周囲をとりま
く各アルミ配線(2)に並列に印加され、上記各アルミ
配線(2)より各メモリバンク(1)に配置されている
上記ストレージゲートに印加される。
Next, the operation will be described. The voltage generated by the voltage generating circuit (3) arranged in the center of the four memory banks (1) is applied in parallel to the aluminum wirings (2) surrounding each memory bank (1), It is applied from the aluminum wirings (2) to the storage gates arranged in the memory banks (1).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

従来の半導体記憶装置は以上のように構成されていた
ため、中央に配置された1個の電圧発生回路によりすべ
てのストレージゲートに電圧を印加しなければならず、
電圧発生回路の出力インピーダンスが大きくなり、スト
レージゲートのノイズによる誤動作の原因となつてい
る。また、アルミ配線の抵抗を減少させるためには上記
アルミ配線の幅を大きく取らねばならず、チツプ面積の
増大につながるなどの問題点があつた。
Since the conventional semiconductor memory device is configured as described above, it is necessary to apply a voltage to all storage gates by one voltage generating circuit arranged in the center,
The output impedance of the voltage generation circuit increases, which causes malfunction due to noise in the storage gate. Further, in order to reduce the resistance of the aluminum wiring, the width of the aluminum wiring must be made large, which causes a problem that the chip area is increased.

この発明は上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、チツプ面積の増大をおさえると共に電圧発
生回路の出力インピーダンスを低下させることにより、
上記ノイズによる回路の誤動作などのない半導体記憶装
置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, by suppressing the increase of the chip area and lowering the output impedance of the voltage generating circuit,
It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device in which the circuit does not malfunction due to the noise.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る半導体記憶装置は、複数のメモリバン
クに共通に設けられ、前記複数のメモリバンクの各々に
属するメモリセルのコンデンサの一方の電極に所定の電
圧を与えるための第1の電圧発生回路を備えた半導体記
憶装置において、各メモリバンクに対応して設けられ、
対応のメモリバンクに属するメモリセルのコンデンサの
一方の電極に所定の電圧を与えるための第2の電圧発生
回路を備えたことを特徴としている。
A semiconductor memory device according to the present invention is a first voltage generation circuit which is provided commonly to a plurality of memory banks, and which applies a predetermined voltage to one electrode of a capacitor of a memory cell belonging to each of the plurality of memory banks. In a semiconductor memory device provided with, provided corresponding to each memory bank,
It is characterized in that a second voltage generating circuit for applying a predetermined voltage to one electrode of the capacitor of the memory cell belonging to the corresponding memory bank is provided.

またさらに、各メモリバンクに属するメモリセルのコ
ンデンサの一方の電極と、他のメモリバンクに属するメ
モリセルのコンデンサの一方の電極とを接続するための
金属配線を備えてもよい。
Furthermore, a metal wiring for connecting one electrode of a capacitor of a memory cell belonging to each memory bank and one electrode of a capacitor of a memory cell belonging to another memory bank may be provided.

〔作用〕[Action]

この発明に係る半導体記憶装置では、複数のメモリバ
ンクに共通に第1の電圧発生回路が設けられるととも
に、メモリバンクごとに第2の電圧発生回路が設けら
れ、各メモリバンクのストレージゲートに第1および第
2の電圧発生回路の両方から所定の電圧が与えられる。
したがって、第1の電圧発生回路のみが設けられていた
従来に比べ、各メモリバンクのストレージノードの任意
の位置と電圧発生回路の間のインピーダンスが小さくな
り、ストレージゲートのノイズによる誤動作が防止され
る。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the first voltage generating circuit is provided commonly to the plurality of memory banks, the second voltage generating circuit is provided for each memory bank, and the first gate is provided at the storage gate of each memory bank. A predetermined voltage is applied from both the second voltage generating circuit and the second voltage generating circuit.
Therefore, the impedance between the arbitrary position of the storage node of each memory bank and the voltage generation circuit becomes smaller as compared with the conventional case in which only the first voltage generation circuit is provided, and malfunction due to noise in the storage gate is prevented. .

また、各メモリバンクのストレージノードと他のメモ
リバンクのストレージノードとを接続するための金属配
線を設ければ、各メモリバンクのストレージノードの任
意の位置と電圧発生回路の間のインピーダンスが一層小
さくなり、ストレージゲートのノイズによる誤動作が一
層確実に防止される。
Further, by providing a metal wiring for connecting the storage node of each memory bank to the storage node of another memory bank, the impedance between the arbitrary position of the storage node of each memory bank and the voltage generation circuit is further reduced. Therefore, malfunction due to noise of the storage gate can be prevented more reliably.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明について詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

第1図はこの発明の一実施例によるダイナミツクRAM
の構成図である。図において、(1)はメモリバンクで
あり、ここでは例としてチツプ上に4個のメモリバンク
(1)を有する場合を示す。(2)は上記各メモリバン
ク(1)の周囲をとりまくアルミ配線で、相互に結線さ
れている。(3a)〜(3e)はストレージゲートに印加す
る電圧の電圧発生回路であり、チツプの4角(3a)〜
(3d)と(3e)の計5個が配置されている。
FIG. 1 shows a dynamic RAM according to an embodiment of the present invention.
FIG. In the figure, (1) is a memory bank, and here, as an example, a case is shown in which four memory banks (1) are provided on a chip. Reference numeral (2) is aluminum wiring around the memory banks (1) and is connected to each other. (3a) to (3e) are voltage generation circuits for the voltage applied to the storage gate, and are the four corners of the chip (3a) to (3a).
A total of five (3d) and (3e) are arranged.

次に動作について説明する。電圧発生回路(3a)〜
(3e)によつて発生した電圧は各メモリバンク(1)の
周囲を取りまくアルミ配線(2)を通して各メモリバン
ク(1)に配置されたストレージゲート(図示せず)に
印加されている。今、上記ストレージゲートの図中A点
の部分に印加されている電圧を考えてみる。A点に対し
ては距離の短い位置に(3a),(3d),(3e)の3個の
電圧発生回路があり、これら3個の電圧発生回路により
A点の電圧が一定に保たれるとみなすことができる。こ
の結果、A点のインピーダンスは従来例の場合に比べ、
電圧発生回路までの距離の短縮及び電圧発生回路が並列
に配置された効果により減少し、ノイズによる誤動作が
おこりにくい。更に上記インピーダンスの減少によりア
ルミ配線幅を小さくとることができ、電圧発生回路の面
積増加を考慮しても全体としてはチツプ面積を減少する
ことができる。
Next, the operation will be described. Voltage generation circuit (3a) ~
The voltage generated by (3e) is applied to the storage gate (not shown) arranged in each memory bank (1) through the aluminum wiring (2) surrounding each memory bank (1). Now, consider the voltage applied to the portion A of the storage gate in the figure. There are three voltage generating circuits (3a), (3d), and (3e) at a short distance from the point A, and the voltage at the point A is kept constant by these three voltage generating circuits. Can be regarded as As a result, the impedance at point A is
The distance to the voltage generation circuit is shortened and the voltage generation circuits are arranged in parallel, which reduces the number of malfunctions and prevents malfunction due to noise. Furthermore, the aluminum wiring width can be made small by the reduction of the impedance, and the chip area can be reduced as a whole even in consideration of the increase in the area of the voltage generating circuit.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明によれば、複数のメモリバン
クに共通の第1の電圧発生回路を設けるとともに、メモ
リバンクごとに第2の電圧発生回路を設けたので、各メ
モリバンクのストレージノードの任意の位置と電圧発生
回路の間のインピーダンスを小さくすることができる。
したがって、インピーダンスが小さくなった分だけアル
ミ配線幅を減少させることができ、それによりチツプ面
積を減少させることができると共に、ノイズによる回路
誤動作の少い半導体記憶装置を得ることができる。
As described above, according to the present invention, the first voltage generating circuit common to the plurality of memory banks is provided, and the second voltage generating circuit is provided for each memory bank. The impedance between an arbitrary position and the voltage generating circuit can be reduced.
Therefore, the aluminum wiring width can be reduced as much as the impedance is reduced, so that the chip area can be reduced and a semiconductor memory device with less circuit malfunction due to noise can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例のダイナミツクRAMの構成
を示す図である。第2図は従来のダイナミツクRAMの構
成を示す図である。 図において、(1)はメモリバンク、(2)はアルミ配
線、(3a)〜(3e)は電圧発生回路を示す。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a dynamic RAM according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a conventional dynamic RAM. In the figure, (1) shows a memory bank, (2) shows aluminum wiring, and (3a) to (3e) show voltage generating circuits. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/04 H01L 27/04 B Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical display area H01L 27/04 H01L 27/04 B

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のメモリバンクに共通に設けられ、前
記複数のメモリバンクの各々に属するメモリセルのコン
デンサの一方の電極に所定の電圧を与えるための第1の
電圧発生回路を備えた半導体記憶装置において、 各メモリバンクに対応して設けられ、対応のメモリバン
クに属するメモリセルのコンデンサの一方の電極に所定
の電圧を与えるための第2の電圧発生回路を備えたこと
を特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor provided with a first voltage generating circuit which is provided in common to a plurality of memory banks, and which applies a predetermined voltage to one electrode of a capacitor of a memory cell belonging to each of the plurality of memory banks. A memory device is provided with a second voltage generating circuit provided corresponding to each memory bank and for applying a predetermined voltage to one electrode of a capacitor of a memory cell belonging to the corresponding memory bank. Semiconductor memory device.
【請求項2】さらに、各メモリバンクに属するメモリセ
ルのコンデンサの一方の電極と、他のメモリバンクに属
するメモリセルのコンデンサの一方の電極とを接続する
ための金属配線を備えたことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体記憶装置。
2. A metal wiring for connecting one electrode of a capacitor of a memory cell belonging to each memory bank and one electrode of a capacitor of a memory cell belonging to another memory bank. The semiconductor memory device according to claim 1.
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