JPH087430B2 - 自動現像装置 - Google Patents
自動現像装置Info
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- JPH087430B2 JPH087430B2 JP63328984A JP32898488A JPH087430B2 JP H087430 B2 JPH087430 B2 JP H087430B2 JP 63328984 A JP63328984 A JP 63328984A JP 32898488 A JP32898488 A JP 32898488A JP H087430 B2 JPH087430 B2 JP H087430B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、撮影済みフィルムを連続的に現像、定着、
水洗の各工程に送り現像処理を行う自動現像装置に関す
るものである。
水洗の各工程に送り現像処理を行う自動現像装置に関す
るものである。
(発明の技術的背景) フィルムの連続現像処理を行うものとして従来よりロ
ーラー搬送方式、ループ搬送方式、水平搬送方式が知ら
れている。ローラー搬送方式は多数のローラによって上
下に深い処理液槽内を搬送するものであるが、処理液槽
が深く装置が大型化するという問題を有する。ループ搬
送方式は処理液槽の上下に配置したローラ間にフィルム
を掛け渡して搬送するものであるが、ローラー搬送方式
と同様な問題点を有するものである。また水平搬送方式
は水平に搬送されるフィルムに処理液を噴射して現像を
行うものであるが、高速処理を行うためには処理液とフ
ィルムとが接触する距離すなわち水平方向のパスが長く
なり、装置が大型化するという問題があった。
ーラー搬送方式、ループ搬送方式、水平搬送方式が知ら
れている。ローラー搬送方式は多数のローラによって上
下に深い処理液槽内を搬送するものであるが、処理液槽
が深く装置が大型化するという問題を有する。ループ搬
送方式は処理液槽の上下に配置したローラ間にフィルム
を掛け渡して搬送するものであるが、ローラー搬送方式
と同様な問題点を有するものである。また水平搬送方式
は水平に搬送されるフィルムに処理液を噴射して現像を
行うものであるが、高速処理を行うためには処理液とフ
ィルムとが接触する距離すなわち水平方向のパスが長く
なり、装置が大型化するという問題があった。
一方現像液はその使用によって疲労や劣化を起こす。
また現像液の温度も使用条件によって変動することがあ
りうる。このため処理時間等の処理条件を一定にして
も、現像液の疲労・劣化や温度変化等により出来上がり
の現像濃度が変化し、処理の品質が不均一になるという
問題が生じる。
また現像液の温度も使用条件によって変動することがあ
りうる。このため処理時間等の処理条件を一定にして
も、現像液の疲労・劣化や温度変化等により出来上がり
の現像濃度が変化し、処理の品質が不均一になるという
問題が生じる。
(発明の目的) 本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、
高速処理および小型化に適し、現像液の疲労・劣化が生
じてもまた温度変化があっても現像処理濃度を一定に保
ち処理の品質を安定させることが可能な自動現像装置を
提供することを目的とする。
高速処理および小型化に適し、現像液の疲労・劣化が生
じてもまた温度変化があっても現像処理濃度を一定に保
ち処理の品質を安定させることが可能な自動現像装置を
提供することを目的とする。
(発明の構成) 本発明によればこの目的は、撮影済みのフィルムを、
現像、定着、水洗の各工程に順次送って連続的に現像処
理する自動現像装置において、少くとも1つの現像工程
は、現像液中を移送されるフィルムに向って下方から超
音波を照射する超音波発生手段と、フィルムの現像濃度
を検出する濃度検出手段と、前記現像液に入るフィルム
を現像処理に先行して加熱する予備加熱手段と、現像仕
上がり濃度が一定になるように前記現像濃度にに対応し
てフィルムの予備加熱温度を変化させる予熱温度管理装
置とを備えることを特徴とする自動現像装置、により達
成される。
現像、定着、水洗の各工程に順次送って連続的に現像処
理する自動現像装置において、少くとも1つの現像工程
は、現像液中を移送されるフィルムに向って下方から超
音波を照射する超音波発生手段と、フィルムの現像濃度
を検出する濃度検出手段と、前記現像液に入るフィルム
を現像処理に先行して加熱する予備加熱手段と、現像仕
上がり濃度が一定になるように前記現像濃度にに対応し
てフィルムの予備加熱温度を変化させる予熱温度管理装
置とを備えることを特徴とする自動現像装置、により達
成される。
すなわち本発明は超音波により処理速度を速くするこ
とを前提とし、現像液の疲労・劣化に対しては、処理後
の現像濃度を監視し、この現像濃度に対応して予備加熱
温度を変化させるようにするものである。ここに予備加
熱手段は、フィルムの送りローラをヒートローラで構成
し、このローラによってフィルムを加熱するように構成
することができる。
とを前提とし、現像液の疲労・劣化に対しては、処理後
の現像濃度を監視し、この現像濃度に対応して予備加熱
温度を変化させるようにするものである。ここに予備加
熱手段は、フィルムの送りローラをヒートローラで構成
し、このローラによってフィルムを加熱するように構成
することができる。
(実施例) 第1図は本発明を現像工程に適用した一実施例を示す
図、第2図は処理液パックを示す図であり、第2A図はそ
の外観斜視図、第2B、2C図はその使用前と使用後の内部
状態を示す図、また第3図は第1図におけるIII−III線
断面図である。
図、第2図は処理液パックを示す図であり、第2A図はそ
の外観斜視図、第2B、2C図はその使用前と使用後の内部
状態を示す図、また第3図は第1図におけるIII−III線
断面図である。
第1図において20は現像処理槽であり、この処理槽20
は側面視円弧状の底を有するフィルムガイド部22と、フ
ィルム走行方向(右方向)に向って斜めにフィルムガイ
ド部22に交わるように開口する加振部24とを備える。フ
ィルムガイド部22の左端にはフィルム12を処理槽20に一
定速度で搬入する一対の送りローラ26が、右端にはフィ
ルム12を同一の速度で搬出する一対の送りローラ28がそ
れぞれ設けられている。搬入側の送りローラ26は電気ヒ
ータ26Aを内蔵するヒートローラで構成され、ローラ26
自身が所定の温度に加熱可能である。
は側面視円弧状の底を有するフィルムガイド部22と、フ
ィルム走行方向(右方向)に向って斜めにフィルムガイ
ド部22に交わるように開口する加振部24とを備える。フ
ィルムガイド部22の左端にはフィルム12を処理槽20に一
定速度で搬入する一対の送りローラ26が、右端にはフィ
ルム12を同一の速度で搬出する一対の送りローラ28がそ
れぞれ設けられている。搬入側の送りローラ26は電気ヒ
ータ26Aを内蔵するヒートローラで構成され、ローラ26
自身が所定の温度に加熱可能である。
30は液面規制蓋であり、例えばネオプレンゴムやポリ
ウレタンゴムなどにより断面円弧状に形成され、断熱材
32を介して蓋板34に取付けられている。この液面規制蓋
30とフィルムガイド22底面との間には3〜4mm程度の間
隙が形成され、フィルム12はこの間隙を通って走行する
ようにガイド溝31(第3図)により案内される。すなわ
ち、処理槽20には第3図に示すように、フィルム12の左
右の縁が入る溝31が形成され、フィルム12はこの溝31に
よって案内されて移送される。ここにフィルム12は、そ
の乳剤面12Aが上になるように管理される。
ウレタンゴムなどにより断面円弧状に形成され、断熱材
32を介して蓋板34に取付けられている。この液面規制蓋
30とフィルムガイド22底面との間には3〜4mm程度の間
隙が形成され、フィルム12はこの間隙を通って走行する
ようにガイド溝31(第3図)により案内される。すなわ
ち、処理槽20には第3図に示すように、フィルム12の左
右の縁が入る溝31が形成され、フィルム12はこの溝31に
よって案内されて移送される。ここにフィルム12は、そ
の乳剤面12Aが上になるように管理される。
加振部24の底には直径25mmの振動子10が取付けられ、
この振動子10の垂線すなわち指向性最大方向である中心
軸Xはフィルム12に対しフィルム走行方向に傾いて斜め
に交わる。フィルム12はこの中心軸X上においてこの振
動子10の近距離音場内に入るように設定され、例えば10
〜50mmの範囲とするのが望ましい。ここに近距離音場と
は、処理液中を伝わる音圧が周期的に最大となる位置の
うち振動子10から最も遠い位置よりも振動子10に近い範
囲をいう。この範囲内でフィルム12を中心軸Xに対し斜
めに搬送することにり、フィルム12が音圧のむらによる
影響を受けず均一な処理を行なうことが可能となる。
この振動子10の垂線すなわち指向性最大方向である中心
軸Xはフィルム12に対しフィルム走行方向に傾いて斜め
に交わる。フィルム12はこの中心軸X上においてこの振
動子10の近距離音場内に入るように設定され、例えば10
〜50mmの範囲とするのが望ましい。ここに近距離音場と
は、処理液中を伝わる音圧が周期的に最大となる位置の
うち振動子10から最も遠い位置よりも振動子10に近い範
囲をいう。この範囲内でフィルム12を中心軸Xに対し斜
めに搬送することにり、フィルム12が音圧のむらによる
影響を受けず均一な処理を行なうことが可能となる。
処理槽20には常に一定液面となるように処理液が供給
される。すなわち処理液は処理液タンク36からポンプ38
によって定液面タンク40に送られ、このタンク40内で一
担一定液面高さに保たれ、ここから定量ポンプ42が加振
部24より上流側のフィルムガイド部22内に処理液を送
る。処理液はフィルムガイド部22の下流端側すなわち下
側の送りローラ28の装填室44の仕切壁を乗り越えて装填
室44に流入し、ここから処理液パック46に入る。
される。すなわち処理液は処理液タンク36からポンプ38
によって定液面タンク40に送られ、このタンク40内で一
担一定液面高さに保たれ、ここから定量ポンプ42が加振
部24より上流側のフィルムガイド部22内に処理液を送
る。処理液はフィルムガイド部22の下流端側すなわち下
側の送りローラ28の装填室44の仕切壁を乗り越えて装填
室44に流入し、ここから処理液パック46に入る。
この処理液パック46は防水紙で箱型に作られ、使用前
の新しい処理液パック46の中の一側には可撓性プラスチ
ック容器で作られた前記の処理液タンク36が収容され、
他側には吸水ポリマー48が収容されている(第2B図)。
処理液パック46の上面には処理液タンク36と吸水ポリマ
ー48にそれぞれ連絡する処理液出口46aと廃液入口46と
が開口し、これらは薄いフィルム材でシールされた後、
さらにその上面が粘着性シール蓋46c、46dで開閉可能と
なっている。この処理液パック46はこれらシール蓋46
c、46dを開いた状態で上下動可能なトレイ49に載せられ
(第1図)、このトレイ49によって上方に押し上げられ
て装填される。この時前記ポンプ38の処理液流入パイプ
38aと装填室44に通じる処理液排出パイプ44aとは、処理
液出口48aと廃液入口48bとを塞ぐ薄いフィルムを破り、
それぞれ処理液タンク36と吸水ポリマー48とに連通す
る。
の新しい処理液パック46の中の一側には可撓性プラスチ
ック容器で作られた前記の処理液タンク36が収容され、
他側には吸水ポリマー48が収容されている(第2B図)。
処理液パック46の上面には処理液タンク36と吸水ポリマ
ー48にそれぞれ連絡する処理液出口46aと廃液入口46と
が開口し、これらは薄いフィルム材でシールされた後、
さらにその上面が粘着性シール蓋46c、46dで開閉可能と
なっている。この処理液パック46はこれらシール蓋46
c、46dを開いた状態で上下動可能なトレイ49に載せられ
(第1図)、このトレイ49によって上方に押し上げられ
て装填される。この時前記ポンプ38の処理液流入パイプ
38aと装填室44に通じる処理液排出パイプ44aとは、処理
液出口48aと廃液入口48bとを塞ぐ薄いフィルムを破り、
それぞれ処理液タンク36と吸水ポリマー48とに連通す
る。
従ってタンク36の処理液が減少するとタンク容積36が
減少するのに代って、吸水ポリマー48がゲル化して第2c
図に48Aで示すように膨張してゆく。そしてタンク36内
の処理液がなくなりパック46を交換する時には、トレイ
49を下げてパック46からパイプ38a、44aを退出させれば
よい。廃液はゲル化しているので液がこぼれるおそれが
ないが、シール蓋46c、46dで処理液出口46aと廃液入口4
6bを塞いでおけば一層確実である。この結果処理液の取
扱いが非常に簡単になる。
減少するのに代って、吸水ポリマー48がゲル化して第2c
図に48Aで示すように膨張してゆく。そしてタンク36内
の処理液がなくなりパック46を交換する時には、トレイ
49を下げてパック46からパイプ38a、44aを退出させれば
よい。廃液はゲル化しているので液がこぼれるおそれが
ないが、シール蓋46c、46dで処理液出口46aと廃液入口4
6bを塞いでおけば一層確実である。この結果処理液の取
扱いが非常に簡単になる。
前記送りローラ28を収容する装填室44の仕切壁の高さ
は、処理槽20内の処理液面の高さを決定するものであ
り、例えばフィルムガイド部22の円弧状の底を基準にし
て7mm程度にするのが望ましい。なお、50は加振部24内
の処理液をタンク46に排出するためのバルブである。
は、処理槽20内の処理液面の高さを決定するものであ
り、例えばフィルムガイド部22の円弧状の底を基準にし
て7mm程度にするのが望ましい。なお、50は加振部24内
の処理液をタンク46に排出するためのバルブである。
従って定量ポンプ42により一定量の処理液が処理槽20
に常時送られ、液面が装填室44の仕切壁によって一定に
保たれる。フィルム12はローラ26、28により一定速度で
送られ、処理槽20のフィルムガイド部22内では下方へ凸
な円弧を描きながら移動している。処理槽20の入口側の
送りローラ26はヒートローラであるから、このローラ26
に挟まれて送られる時にフィルム12は適切な温度に加熱
される。振動子10は一定の周波数(例えば1.7MHz)でか
つ一定エネルギーで超音波を発生し、この超音波はフィ
ルム12に斜めに当たる。このためフィルム12は、超音波
の強弱の周期間隔より大きい距離を、中心軸Xを含む超
音波照射領域内で移動することができ、超音波の周期的
強弱の影響を受けなくなる。
に常時送られ、液面が装填室44の仕切壁によって一定に
保たれる。フィルム12はローラ26、28により一定速度で
送られ、処理槽20のフィルムガイド部22内では下方へ凸
な円弧を描きながら移動している。処理槽20の入口側の
送りローラ26はヒートローラであるから、このローラ26
に挟まれて送られる時にフィルム12は適切な温度に加熱
される。振動子10は一定の周波数(例えば1.7MHz)でか
つ一定エネルギーで超音波を発生し、この超音波はフィ
ルム12に斜めに当たる。このためフィルム12は、超音波
の強弱の周期間隔より大きい距離を、中心軸Xを含む超
音波照射領域内で移動することができ、超音波の周期的
強弱の影響を受けなくなる。
超音波は処理液全体を加熱することはなく、フィルム
12などの高分子物質を吸音材として選択的に加熱する作
用を持つ。第3図に示すようにフィルム12の上面に乗っ
た処理液の量はフィルム12の下方の液量に比べて著しく
少ないから、フィルム12の上面の処理液は速やかに加熱
される。この加熱された処理液の側にフィルム12の乳剤
面12Aが位置するので、フィルム12の処理は非常に速や
かに行われる。またフィルム12は送りローラ26によって
予備加熱されているから、処理液中での処理速度が増加
し、超音波の照射による処理が促進される。
12などの高分子物質を吸音材として選択的に加熱する作
用を持つ。第3図に示すようにフィルム12の上面に乗っ
た処理液の量はフィルム12の下方の液量に比べて著しく
少ないから、フィルム12の上面の処理液は速やかに加熱
される。この加熱された処理液の側にフィルム12の乳剤
面12Aが位置するので、フィルム12の処理は非常に速や
かに行われる。またフィルム12は送りローラ26によって
予備加熱されているから、処理液中での処理速度が増加
し、超音波の照射による処理が促進される。
第1図において、60は予熱温度管理装置、62は濃度検
出手段である。濃度検出手段62は現像処理が済んだフィ
ルム12の濃度を検出するものであり、現像処理槽の出口
すなわち送りローラ28の後方においてフィルム12を挟む
ように配置した発光素子62Aと受光素子62Bとで構成され
る。この濃度検出手段62が検出した濃度を示す信号は管
理装置60に入力され、この濃度を最適な濃度にするのに
適する予熱温度が求められる。管理装置60はヒータ回路
64によってヒータ26Aの温度を所定温度に制御させる。
すなわち処理後の現像濃度すなわち現像仕上がり濃度が
薄い場合には予熱温度を高くして処理を促進し、反対に
現像濃度が濃い場合には予熱温度を下げて処理を抑制す
る。このようにして処理後の現像濃度すなわち現像仕上
がり濃度が一定に管理される。
出手段である。濃度検出手段62は現像処理が済んだフィ
ルム12の濃度を検出するものであり、現像処理槽の出口
すなわち送りローラ28の後方においてフィルム12を挟む
ように配置した発光素子62Aと受光素子62Bとで構成され
る。この濃度検出手段62が検出した濃度を示す信号は管
理装置60に入力され、この濃度を最適な濃度にするのに
適する予熱温度が求められる。管理装置60はヒータ回路
64によってヒータ26Aの温度を所定温度に制御させる。
すなわち処理後の現像濃度すなわち現像仕上がり濃度が
薄い場合には予熱温度を高くして処理を促進し、反対に
現像濃度が濃い場合には予熱温度を下げて処理を抑制す
る。このようにして処理後の現像濃度すなわち現像仕上
がり濃度が一定に管理される。
なおこの実施例では、フィルム12の上面に近接して液
面規制蓋30が位置するから、液面規制蓋30はこのフィル
ム12とその上面の処理液を保温してその均一な処理を可
能にし処理を一層促進する。ここに液面規制蓋30を前記
のポリウレタンゴムやネオプレンゴムなどの高分子物質
で作っておけば、ここでの吸音作用によってこの蓋30自
身も加熱され得る。このためフィルム12の加熱は一層促
進され、処理が促進される。なおネオプレンゴムは耐熱
性にすぐれ、特に好ましい。この時本実施例のように液
面規制蓋30の上面を断熱材32を介して蓋板34に保持すれ
ば、液面規制蓋30による保温効果は一層良好となり処理
はさらに促進される。従って処理むらのない良好な処理
を短時間で行うことが可能になる。
面規制蓋30が位置するから、液面規制蓋30はこのフィル
ム12とその上面の処理液を保温してその均一な処理を可
能にし処理を一層促進する。ここに液面規制蓋30を前記
のポリウレタンゴムやネオプレンゴムなどの高分子物質
で作っておけば、ここでの吸音作用によってこの蓋30自
身も加熱され得る。このためフィルム12の加熱は一層促
進され、処理が促進される。なおネオプレンゴムは耐熱
性にすぐれ、特に好ましい。この時本実施例のように液
面規制蓋30の上面を断熱材32を介して蓋板34に保持すれ
ば、液面規制蓋30による保温効果は一層良好となり処理
はさらに促進される。従って処理むらのない良好な処理
を短時間で行うことが可能になる。
この実施例では振動子10の中心軸Xがフィルム12の走
行方向に向って交差しているので、超音波がフィルム走
行方向への処理液の移動を促進させ、処理槽内では常に
ほぼ新しい処理液を用いて処理を続けることができる。
行方向に向って交差しているので、超音波がフィルム走
行方向への処理液の移動を促進させ、処理槽内では常に
ほぼ新しい処理液を用いて処理を続けることができる。
この実施例では1個の振動子10を用いているが、本発
明は振動子10を複数個使用してもよい。第4A、4B図は2
個の円形の振動子10を用いた実施例の斜視図と、この実
施例をフィルム移送方向から見た断面図である。この実
施例では振動子10、10の中心軸X、Xがフィルム12付近
で集まるように各振動子10、10を配置した。
明は振動子10を複数個使用してもよい。第4A、4B図は2
個の円形の振動子10を用いた実施例の斜視図と、この実
施例をフィルム移送方向から見た断面図である。この実
施例では振動子10、10の中心軸X、Xがフィルム12付近
で集まるように各振動子10、10を配置した。
第5A、5B図は3個の長方形の振動子210を用いた実施
例の斜視図と、この実施例をフィルム移送方向から見た
断面図である。ここに各振動子210の超音波射出方向
(中心軸X)は、フィルム12付近に向って集まる。これ
ら第4A、4B、5A、5B図の実施例では処理液の表面が超音
波振動により隆起している。液面処理蓋130、230はこの
隆起を押えて処理液の不安定な流動を防ぎ流動を均一に
する。なお132、232は断熱材である。
例の斜視図と、この実施例をフィルム移送方向から見た
断面図である。ここに各振動子210の超音波射出方向
(中心軸X)は、フィルム12付近に向って集まる。これ
ら第4A、4B、5A、5B図の実施例では処理液の表面が超音
波振動により隆起している。液面処理蓋130、230はこの
隆起を押えて処理液の不安定な流動を防ぎ流動を均一に
する。なお132、232は断熱材である。
これらの実施例ではフィルム12の上方に液面規制蓋30
を設けているが、本発明はこれを持た無いものも包含す
るのは勿論である。
を設けているが、本発明はこれを持た無いものも包含す
るのは勿論である。
処理層20の液面はこの実施例では装填室44の仕切壁の
高さで一定に保っているが、他の液面センサと排液バル
ブとを用いて液面を制御するようにしてもよい。なお処
理液は長期間経過すると酸化して劣化するので、処理液
の劣化が発生した時にはポンプ38、42を作動させつつバ
ルブ50を開き、処理液タンク36内の処理液を吸水ポリマ
ー48に送ってゲル化させて廃棄処理してもよい。
高さで一定に保っているが、他の液面センサと排液バル
ブとを用いて液面を制御するようにしてもよい。なお処
理液は長期間経過すると酸化して劣化するので、処理液
の劣化が発生した時にはポンプ38、42を作動させつつバ
ルブ50を開き、処理液タンク36内の処理液を吸水ポリマ
ー48に送ってゲル化させて廃棄処理してもよい。
第6図はこの第1図の現像処理装置を用いた自動現像
装置の一実施例の全体図である。この図でA、B、Cは
それぞれ現像、定着、水洗装置を示し、現像工程Aは第
1図のものを用い、他の工程B、Cは第1図とほぼ同様
な処理装置であって、それぞれは処理液として定着液、
洗浄液を用いることとヒータ26Aや濃度検出手段62など
を持たない点が異なる。なお濃度検出手段62は現像装置
Aの出口に設けるのが良いが、他の装置B、Cの出口に
設けてもよい。
装置の一実施例の全体図である。この図でA、B、Cは
それぞれ現像、定着、水洗装置を示し、現像工程Aは第
1図のものを用い、他の工程B、Cは第1図とほぼ同様
な処理装置であって、それぞれは処理液として定着液、
洗浄液を用いることとヒータ26Aや濃度検出手段62など
を持たない点が異なる。なお濃度検出手段62は現像装置
Aの出口に設けるのが良いが、他の装置B、Cの出口に
設けてもよい。
この図で100は現像処理が済んでいない撮影済みフィ
ルムの供給リール、102は現像処理済みフィルムを巻取
る巻取リールである。未現像のフィルム12は駆動ローラ
104とコンタクトローラ106とに挟まれて現像装置Aに導
かれる。この時フィルム12の先端と終端とは入口センサ
108により検出される。なおコンタクトローラ106の回転
はエンコーダ(図示せず)で監視されている。フィルム
12は処理装置Aの送りローラ26により予備加熱されて現
像処理され、さらに装置B、Cで定着および水洗処理さ
れた後巻取リール102に巻取られる。なお装置B、Cの
送りローラ26においてもフィルム12を予備加熱するよう
にしてもよい。この時水洗装置Cから出るフィルム12に
は出口ローラ110が転接し、この出口ローラ110の回転が
エンコーダ(図示せず)により監視される。この出口ロ
ーラ110の近接では出口センサ112がフィルム12の先端と
終端とを監視するように構成されている。
ルムの供給リール、102は現像処理済みフィルムを巻取
る巻取リールである。未現像のフィルム12は駆動ローラ
104とコンタクトローラ106とに挟まれて現像装置Aに導
かれる。この時フィルム12の先端と終端とは入口センサ
108により検出される。なおコンタクトローラ106の回転
はエンコーダ(図示せず)で監視されている。フィルム
12は処理装置Aの送りローラ26により予備加熱されて現
像処理され、さらに装置B、Cで定着および水洗処理さ
れた後巻取リール102に巻取られる。なお装置B、Cの
送りローラ26においてもフィルム12を予備加熱するよう
にしてもよい。この時水洗装置Cから出るフィルム12に
は出口ローラ110が転接し、この出口ローラ110の回転が
エンコーダ(図示せず)により監視される。この出口ロ
ーラ110の近接では出口センサ112がフィルム12の先端と
終端とを監視するように構成されている。
この装置は次のように動作する。まず撮影済みフィル
ム12をリール100にセットして、電源スイッチ(図示せ
ず)をオンにすることにより、ポンプ38、42が作動して
処理液が規定液面に保たれ、またローラ26、28が回転を
始める。フィルム12がリール100からローラ104、106に
挟まれて送られてゆくと、このフィルム12の先端が入口
センサ108で検出され、このセンサ108の出力に基づき各
処理装置A、B、Cの振動子10がオンし振動開始する。
フィルム12は各処理装置A、B、Cで処理された後巻取
リール102に巻取られ、この時フィルム12の終端を出口
センサ112が検出すると振動子10がオフとなり振動が停
止する。
ム12をリール100にセットして、電源スイッチ(図示せ
ず)をオンにすることにより、ポンプ38、42が作動して
処理液が規定液面に保たれ、またローラ26、28が回転を
始める。フィルム12がリール100からローラ104、106に
挟まれて送られてゆくと、このフィルム12の先端が入口
センサ108で検出され、このセンサ108の出力に基づき各
処理装置A、B、Cの振動子10がオンし振動開始する。
フィルム12は各処理装置A、B、Cで処理された後巻取
リール102に巻取られ、この時フィルム12の終端を出口
センサ112が検出すると振動子10がオフとなり振動が停
止する。
この装置では装置A、B、C内のフィルムつまり(ジ
ャム)を次のようにして検出する。すなわち入口センサ
108がフィルム12先端が入ったことを検出してから一定
時間以内に出口センサ112がフィルム先端を検出しなけ
ればフィルムのジャムと判断する。また、コンタクトロ
ーラ106と出口ローラ110の回転を検出するエンコーダで
フィルム12の送り量を判断できるので、センサ108、112
がオン(フィルム通過中)の間にローラ110が停止すれ
ばジャムと判断する。なおセンサ108がフィルム終端を
検出してから一定時間内にセンサ112が終端を検出すれ
ば正常であるとして、現像が正常に行われたことを確認
するようにしてもよい。
ャム)を次のようにして検出する。すなわち入口センサ
108がフィルム12先端が入ったことを検出してから一定
時間以内に出口センサ112がフィルム先端を検出しなけ
ればフィルムのジャムと判断する。また、コンタクトロ
ーラ106と出口ローラ110の回転を検出するエンコーダで
フィルム12の送り量を判断できるので、センサ108、112
がオン(フィルム通過中)の間にローラ110が停止すれ
ばジャムと判断する。なおセンサ108がフィルム終端を
検出してから一定時間内にセンサ112が終端を検出すれ
ば正常であるとして、現像が正常に行われたことを確認
するようにしてもよい。
以上の実施例ではフィルム12の先頭が濃度検出手段に
達した時には、これに続く画像の一部では既に現像処理
が始まってしまうから、先頭から一定の距離までの画像
に対しては予熱温度の管理を行うことができない問題が
ある。この問題に対しては第7図に示すフィルムを用い
ることにより解決可能である。すなわち、フィルム12A
の画像部分12Bに先行して、一定の距離以上離れた位置
に一定光量の露光部12Cを形成しておくのである。この
フィルム12Aを用いれば一定露光部12Cの濃度を検出して
最適な現像処理を行うための予熱温度を決定することが
できる。なおこの一定露光部12Cはフィルム12Aに予め露
光しておいてもよいが、現像処理する際に例えば現像装
置Aの入口側に露光手段を設けて露光するようにしても
よい。
達した時には、これに続く画像の一部では既に現像処理
が始まってしまうから、先頭から一定の距離までの画像
に対しては予熱温度の管理を行うことができない問題が
ある。この問題に対しては第7図に示すフィルムを用い
ることにより解決可能である。すなわち、フィルム12A
の画像部分12Bに先行して、一定の距離以上離れた位置
に一定光量の露光部12Cを形成しておくのである。この
フィルム12Aを用いれば一定露光部12Cの濃度を検出して
最適な現像処理を行うための予熱温度を決定することが
できる。なおこの一定露光部12Cはフィルム12Aに予め露
光しておいてもよいが、現像処理する際に例えば現像装
置Aの入口側に露光手段を設けて露光するようにしても
よい。
(発明の効果) 本発明は以上のように、少くとも現像処理工程では、
超音波を用いて処理を促進させるにあたり、予備加熱手
段を設けて処理液に入るフィルムを処理に先行して加熱
し、この予熱温度をフィルムの現像濃度に応じて変化さ
せるものである。このように、超音波により処理を促進
するから、フィルムの処理工程を短縮でき、このため処
理槽の小型化が可能になる。また現像濃度に応じて予熱
温度を変えるから、現像液の疲労や劣化があっても、あ
るいは現像液の温度変化があっても、常に適切な処理を
行うことが可能となる。
超音波を用いて処理を促進させるにあたり、予備加熱手
段を設けて処理液に入るフィルムを処理に先行して加熱
し、この予熱温度をフィルムの現像濃度に応じて変化さ
せるものである。このように、超音波により処理を促進
するから、フィルムの処理工程を短縮でき、このため処
理槽の小型化が可能になる。また現像濃度に応じて予熱
温度を変えるから、現像液の疲労や劣化があっても、あ
るいは現像液の温度変化があっても、常に適切な処理を
行うことが可能となる。
第1図は本発明の一実施例である現像処理槽を示す図、
第2図は処理液パックを示す図であり、第2A図はその外
観斜視図、第2B、2C図はその使用前と使用後の内部状態
を示す図、第3図は第1図におけるIII−III線断面図で
ある。第4A、4B図と第5A、5B図は振動子等の他の配置例
を示す図である。第6図はこの第1図の処理装置を適用
した自動現像装置の全体図、また第7図はフィルムの他
の実施例を示す図である。 10、210…振動子、12、12A…フィルム、20…処理槽、26
…予備加熱手段としての送りローラ、26A…ヒータ、60
…予熱温度管理装置、62…濃度検出手段、A…現像装
置、B…定着装置、C…水洗装置。
第2図は処理液パックを示す図であり、第2A図はその外
観斜視図、第2B、2C図はその使用前と使用後の内部状態
を示す図、第3図は第1図におけるIII−III線断面図で
ある。第4A、4B図と第5A、5B図は振動子等の他の配置例
を示す図である。第6図はこの第1図の処理装置を適用
した自動現像装置の全体図、また第7図はフィルムの他
の実施例を示す図である。 10、210…振動子、12、12A…フィルム、20…処理槽、26
…予備加熱手段としての送りローラ、26A…ヒータ、60
…予熱温度管理装置、62…濃度検出手段、A…現像装
置、B…定着装置、C…水洗装置。
Claims (1)
- 【請求項1】撮影済みのフィルムを、現像、定着、水洗
の各工程に順次送って連続的に現像処理する自動現像装
置において、 少くとも1つの現像工程は、現像液中を移送されるフィ
ルムに向って下方から超音波を照射する超音波発生手段
と、フィルムの現像濃度を検出する濃度検出手段と、前
記現像液に入るフィルムを現像処理に先行して加熱する
予備加熱手段と、現像仕上がり濃度が一定になるように
前記現像濃度にに対応してフィルムの予備加熱温度を変
化させる予熱温度管理装置とを備えることを特徴とする
自動現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63328984A JPH087430B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 自動現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63328984A JPH087430B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 自動現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02176655A JPH02176655A (ja) | 1990-07-09 |
| JPH087430B2 true JPH087430B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=18216303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63328984A Expired - Fee Related JPH087430B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 自動現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087430B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010179987A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 表面処理システムおよび表面処理方法 |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP63328984A patent/JPH087430B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02176655A (ja) | 1990-07-09 |
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Legal Events
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