「Protection film」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

A protection film is formed so that the atomic radius of a metal oxide is 180 pm or more to 205 pm or less, and for example, one kind of lanthanum oxide, europium oxide, and ytterbium oxide is used as the metal oxide.例文帳に追加

ここで、金属酸化物は原子半径が１８０ｐｍ以上２０５ｐｍ以下であるもの、具体的には酸化ランタン、酸化ユウロピウム、酸化イッテルビウムのうちの１種を用いることで保護膜を形成する。 - 特許庁

When the separation grooves for chip separation and laser lift-off are formed by etching, the active layer 3 is not exposed to etching gas for long time by covering a chip side with the protection insulating film 6.例文帳に追加

チップ側面を保護絶縁膜６で覆う構造とすることで、チップ分離用やレーザーリフトオフ用の分離溝をエッチングにより形成する場合、活性層３等が、長時間エッチングガスに曝されることがない。 - 特許庁

A louver layer protection film to be laminated on a louver layer has a polycarbonate resin layer (A) and an acrylic resin layer (B) at least on one side of the layer (A).例文帳に追加

ルーバー層に積層されるルーバー層保護用フィルムであって、ポリカーボネート系樹脂層（Ａ）と、該層（Ａ）の少なくとも一方の面にアクリル系樹脂層（Ｂ）とを有することを特徴とするルーバー層保護用フィルム。 - 特許庁

The auxiliary protection layer 12 is formed of zinc oxide (ZnO) on the transparent conductive film 11 so that the particle size ranges from 0.010 to 0.035 μm and the specific surface area ranges from 40 to 50 m^2/g.例文帳に追加

補助保護層１２は、透明導電膜１１の上に粒子径が０．０１０ないし０．０３５μｍ、かつ、比表面積が４０ないし５０ｍ^２／ｇ、である酸化亜鉛（ＺｎＯ）で形成される。 - 特許庁

To provide a coating method by which a multi-layered coating film excellent in weather resistance and durability can be formed by a few coating processes for the purpose of protection and beautiful appearance maintenance of concrete structure for civil engineering and construction.例文帳に追加

土木、建築用のコンクリート構造物の保護と美観維持のために、耐候性及び耐久性に優れた複層塗膜を少ない塗装工程で形成しうる塗装方法を提供する。 - 特許庁

In the solar cell 100, a plurality of recesses 4 are formed, piercing an insulating protection film 3, on a main surface of a substrate, while a second conductivity-layer 5 is formed in an inside surface-layer region of each recess 4.例文帳に追加

太陽電池１００においては、絶縁保護膜３を貫く形で基板主表面に複数の凹部４が形成され、当該凹部４の内面表層領域が第二導電型層５とされる。 - 特許庁

By this, giving damages to the electroluminescent layer that may be caused by the plasma or the like at the time of film-forming the anode is prevented by the protection layer 36, and the manufacturing at the superior yield is enabled.例文帳に追加

これにより、上記保護層により、陽極を成膜する際に上記有機エレクトロルミネセンス層にプラズマ等に起因するダメージを与えることを防止し、歩留まり良く製造することを可能とする。 - 特許庁

To prepare a urethane-acrylic composite film having excellent water resistance, high strength and superior elongation properties, with which these properties can be easily designed and which is suitable for a base material of a pressure sensitive adhesive sheet for surface protection.例文帳に追加

耐水性にすぐれ、かつ強度および伸び特性などにすぐれて、これら特性の設計が容易である、表面保護用粘着シートの支持体などに適したウレタン−アクリル複合フィルムを製造する。 - 特許庁

Further, by manufacturing the PDP 100 in this way, crystallinity in the projection portion of the protection film 14 becomes high so that the PDP with delay of discharge occurring hardly can be obtained.例文帳に追加

また、このようにＰＤＰ１００を製造することにより、保護膜１４の凸状部分において結晶性が高くなるため、放電遅れの生じにくいＰＤＰ１００を得ることができる。 - 特許庁

As a photosensitive resin composition 3 for forming a semiconductor element protection film, a polyamic acid resin, a photosensitizer, a dispersive compound 4 that can be dispersed to the polyamic acid resin, and a solvent are contained.例文帳に追加

半導体素子保護膜形成用感光性樹脂組成物３として、ポリアミック酸樹脂と感光剤とポリアミック酸樹脂に対して分散可能な分散性化合物４と溶剤とを含有させる。 - 特許庁

To provide a decorative material which makes the compatibility between the surface hardness of a surface protection layer and coating film strength to impact force etc., possible, adds a permanent antistatic function, and improves weatherability.例文帳に追加

表面保護層の表面硬度と衝撃力等に対する塗膜強度との両立を可能とすると共に、永続的な帯電防止機能を付加し、しかも耐候性も改善した化粧材を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device including the N-type MOS transistor for ESD protection having the shallow trench isolation structure for element isolation, an electrode configured to receive a signal from an external connection terminal is formed on a drain region of the N-type MOS transistor for ESD protection via a thin insulating film.例文帳に追加

素子分離にシャロートレンチ構造を有するＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタを有する半導体装置において、ＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタのドレイン領域上には、薄い絶縁膜を介して前記外部接続端子からの信号を受ける電極が形成されている半導体装置とする。 - 特許庁

The electronic component 20 having a corner at its outer periphery is packaged on the wiring board, a pattern 13 for cracking protection is arranged nearby outside at least the corner at the outer periphery of the electronic component 20, and the electronic component 20 and pattern 13 for cracking protection are coated with an insulating film 14a.例文帳に追加

外周に角部を有する電子部品２０が配線基板上に実装され、電子部品２０の外周のうちの少なくとも角部の外側近傍にクラック防御用パターン１３が配置され、電子部品２０及びクラック防御用パターン１３が絶縁膜１４ａにより被覆されていることを含む。 - 特許庁

A solar battery module is configured with lamination of a water vapor barrier film, a first adhesive filling layer and a surface protection layer on a surface side of a solar battery submodule sealed with an adhesive filling material, and lamination of a second adhesive filling layer and a backside protection layer on a back surface side of the solar battery submodule.例文帳に追加

接着充填材で封止された太陽電池サブモジュールの表面側に水蒸気バリアフィルム、第１の接着充填層および表面保護層が積層して設けられており、太陽電池サブモジュールの裏面側に第２の接着充填層および裏面保護層が積層して設けられた太陽電池モジュールである。 - 特許庁

To provide a decorative sheet which is produced by forming a transparent resin layer and a surface protection layer at least in turn on a colored base material sheet and in which the transparent resin layer is made of a biaxially oriented transparent polyester film, and in which the surface protection layer is made of a silicone-modified ionizing radiation curable resin containing spherical hard particles.例文帳に追加

着色基材シート上に透明樹脂層、表面保護層を少なくともこの順に設けてなる化粧シートであって、前記透明樹脂層が２軸延伸透明ポリエステルフィルムからなり、前記表面保護層が球状硬質粒子を含むシリコーン変性電離放射線硬化型樹脂の提供。 - 特許庁

In this radiation image converting panel having a phosphor sheet having a stimulable phosphorescent layer on a supporting body, and a protection film provided to coat a phosphor surface of the phosphor sheet, the protection film has an excition light absorbing layer colored to absorb excition light, and has 0.2 μm or more of surface roughness by Ra (μm).例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する蛍光体シートと、該蛍光体シートの蛍光体面を被覆するように設けられた保護フィルムとを有する放射線画像変換パネルにおいて、該保護フィルムが、励起光を吸収するように着色された励起光吸収層を有しさらに表面粗さがＲａ（μｍ）で０．２μｍ以上であること特徴とする放射線画像変換パネルである。 - 特許庁

In the manufacturing step for the surface light laser with multiple wavelengths, after one surface light laser emitting one wavelength is formed on the substrate, the surface laser is partly removed by etching so that a space to laminate another surface layer is prepared, the surface light laser is wrapped with a protection film, and a different surface light laser emitting a light with different wavelength is formed on the substrate and protection film.例文帳に追加

また、多重波長の表面光レーザ製造工程は一波長の光を照射する１表面光レーザを基板上に形成した後、蝕刻工程を通じてその一部を除去することにより基板上に他の表面光レーザが積層される空間を設け、この１表面光レーザに保護膜を包んだ後で基板及び保護膜上に違う波長の光を照射する異なる表面光レーザを形成する。 - 特許庁

The capacity lower electrode 109 is connected directly to an impurity diffused layer 105 of a first field-effect type transistor by a first contact plug 107 formed on the first protection insulating film 106, and the capacity upper electrode 111 is connected directly to the impurity layer 105 of a second field-effect type transistor by a second contact plug 108 formed on the first protection insulating film 106.例文帳に追加

容量下部電極１０９と第１の電界効果型トランジスタの不純物拡散層１０５とは第１の保護絶縁膜１０６に形成された第１のコンタクトプラグ１０７により直接に接続され、容量上部電極１１１と第２の電界効果型トランジスタの不純物拡散層１０５とは第１の保護絶縁膜１０６に形成された第２のコンタクトプラグ１０８により直接に接続されている。 - 特許庁

To provide a high-voltage transistor whose source/drain diffusion region can become a double diffusion drain junction structure, without forming a space oxide film by using a silicon nitride film as a protection film at impurity implantation, and for which the source/drain diffusion region of a more stabilized double diffusion structure can be formed by a one-time pattern process and an ion implantation process.例文帳に追加

高電圧用トランジスタの製造方法においてシリコン窒化膜を不純物注入時に防護膜とすることによってスペース酸化膜を形成しなくてもソース／ドレイン拡散領域を二重拡散ドレインジャンクション構造とし一度のパターン工程及びイオン注入工程により安定した二重拡散構造のソース／ドレイン拡散領域を形成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which can be heated and sintered at a low temperature and in a short time and has a high sensitivity with respect to radiation and the curing film obtained from which has a heat resistance, transparency and solvent resistance, is therefore suitably used for forming a spacer, a protection film, and an interlayer dielectric film of a flexible display and is excellent in terms of storage stability.例文帳に追加

低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、得られた硬化膜は耐熱性、透明性，耐溶剤性を有することで、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられ、さらに保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

Since the semiconductor device 10 is provided with the protection film 15 formed so as to cover at least the upper surface of the insulating film 13, the semiconductor device 10 suppresses the reaction of aluminium contained in the source electrode 21 and the drain electrode 22 to the insulating film 13, also suppresses increase in the resistance of the electrodes and increase in current collapse, and thereby provides the fine electric characteristics.例文帳に追加

半導体装置１０は絶縁膜１３の少なくとも上面を覆うように形成された保護膜１５を備えることによって、ソース電極２１とドレイン電極２２とに含まれるアルミニウムと絶縁膜１３とが反応することを抑制することができ、電極の抵抗増加、電流コラプスの増加を抑え、良好な電気的特性を備える。 - 特許庁

To provide a polarizer protective film, having superior adhesiveness with respect to a polarizer and containing a (meth)acrylic resin as the main component, to provide a polarizing plate which includes the polarizer protective film and the polarizer and wherein the polarizer protection film and the polarizer are less likely to separate from each other, and to provide an image display device that uses the polarizing plate and having high quality.例文帳に追加

偏光子との接着性に優れた、（メタ）アクリル系樹脂を主成分として含む偏光子保護フィルムを提供すること、そのような偏光子保護フィルムと偏光子を含む、偏光子保護フィルムと偏光子とが剥離し難い偏光板を提供すること、そのような偏光板を用いた高品位の画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a forming method of a film of an organic material superior in moisture barrier performance and oxygen barrier performance, and an electron device which is made by forming the film obtained by this manufacturing method as a protection film of an electron device, especially an organic electron device, and which is superior in stability for a long period of time by preventing the deterioration of performance caused by moisture and oxygen in the air.例文帳に追加

水分バリアー性および／または酸素バリアー性に優れた有機材料の膜の製造方法を提供するとともに、該製造方法によって得られる膜を電子デバイス、特に有機電子デバイスの保護膜として形成してなる、空気中の水分や酸素による性能の劣化を防止した長期安定性に優れた電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in adhesiveness to a copper substrate and excellent also in heat resistance and properties of a cured film; a method for producing a relief pattern using the same and having good adhesiveness to a substrate; and electronic components having an interlayer insulation film or a surface protection film and constituting a semiconductor device or a multilayer wiring board with high reliability.例文帳に追加

銅基板との接着性に優れ、耐熱性、硬化膜特性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた、基板との接着性良好なレリーフパターンの製造方法、層間絶縁膜又は表面保護膜を有する、信頼性の高い半導体装置や多層配線板となる電子部品を提供する。 - 特許庁

A single layer or a multilayer film having a layer of a thermoplastic resin composition containing a thermoplastic resin and elastic body particles and formed by film-forming the thermoplastic resin composition in a sandwiched state by two rolls made of metal at a pushing pressure of ≥150 N/cm linear pressure is used as the polarizer protection film.例文帳に追加

熱可塑性樹脂及び弾性体粒子を含有する熱可塑性樹脂組成物の層を有する単層又は多層のフィルムであって、前記熱可塑性樹脂組成物を、線圧１５０Ｎ／ｃｍ以上の押し付け圧力にて２本の金属製ロールで挟み込んだ状態で製膜してなるものを、偏光子保護フィルムとして使用する。 - 特許庁

To provide a device for bonding a polarizer film and a protection film and/or an optical compensation film using a light cation setting type epoxy resin adhesive without the need to irradiating the light cation setting type epoxy resin adhesive with ultraviolet rays of intense illuminance for sufficient setting and performing heating (after-curing) after the irradiation with the ultraviolet rays.例文帳に追加

光カチオン硬化型エポキシ樹脂系接着剤を十分に硬化するために強い照度の紫外線を照射したり、紫外線照射後に加熱（アフターキュア）をしたりする必要がない、偏光子フィルムと保護フィルム及び／又は光学補償フィルムとを光カチオン硬化型エポキシ樹脂系接着剤を用いて接着するための装置を提供すること。 - 特許庁

The protection layer 9 becomes chemically inactive thereby, the lithium film 8 is thereby restrained from being deactivated due to a reaction of a surface of the lithium film 8 with a compound in an atmosphere in a period until the predoping process, and the potential of the negative electrode 3 is thereby restrained from becoming high in the predoping process.例文帳に追加

これにより、この保護層９が化学的に不活性であるため、これまでプレドープ工程までの間に雰囲気中の化合物とリチウム膜８の表面が反応して生じたリチウム膜８の失活を抑制し、プレドープ工程における負極３の電位上昇を抑制することができる。 - 特許庁

This expanded heat insulating label is made of an expanded polystyrene sheet as a base material (11), and the base material (11) has a layer structure coated with an ultraviolet- or electron beam-curing resin film (protection film) on one face (the front side when the base material is attached to the drink-filled package).例文帳に追加

この発泡断熱性ラベルは、発泡ポリスチレンシートを基材（１１）とするラベルであり、基材（１１）の片側面（飲料充填包装体に取付けられるときにおもて面となる側）を紫外線又は電子線硬化型樹脂皮膜（保護皮膜）で被覆した層構成を有している。 - 特許庁

To provide techniques for collecting a substrate which is not suitably coated with a protective film without adversely affecting a normal substrate and for facilitating removing operation for the protection film in a coating and developing device applied to liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光に適用される塗布、現像装置において、適正に保護膜が塗布されていない基板について正常な基板の処理効率に悪影響を与えることなく回収することができ、且つ保護膜の除去作業の簡便化を図ることができる技術を提供する。 - 特許庁

The organic EL element comprises a positive electrode 11 formed on a substrate 1, an organic thin film layer 12 including a light emitting layer 12b formed on the positive electrode 11, a negative electrode 15 formed on the organic thin film layer 12, and a negative electrode protection layer 16 formed on the negative electrode 15a.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ素子は、基板１上に形成された陽極１１と、陽極１１上に形成され、発光層１２ｂを含む有機薄膜層１２と、有機薄膜層１２上に形成された陰極１５と、陰極１５ａ上に形成された陰極保護層１６とを有する。 - 特許庁

Further, the protection performance of the respective first, second thin film portions 41, 42 of the inner tube film 4 can be enhanced than before against collision with respective first, second outer wall portions 61, 62 of the outer tube wall 6 by forming the outer tube wall 6 with more flexible material than ever before.例文帳に追加

また、外筒壁６を従来よりも柔軟性のある材質で形成することにより、従来と比べて、外筒壁６の各第１、第２外壁部６１、６２への衝突に対する内筒膜４の各第１、第２薄膜部４１、４２の保護性能を向上することができる。 - 特許庁

The film thickness t from the surface of the first electrode 13 to the outer surface of the protection film 16 at the part free from the foreign obstacle on the first electrode 13 corresponding to the organic EL layer is formed with a thickness thicker than the size of the foreign obstacle deposited on the first electrode 13.例文帳に追加

有機ＥＬ層１４と対応する第１電極１３上の異物１７が存在しない部分における、第１電極１３の表面から保護膜１６の外面までの膜厚ｔが、第１電極１３上に存在する異物１７の大きさより大きく形成されている。 - 特許庁

At this time, by arranging the dummy bump 240 in such a manner as to be bonded with the heat resistant resin film 300 on the counter silicon substrate, a semiconductor device having both excellent electrical connection between the bump electrodes and bump protection performance by a resin film of high heat resistance without voids can be achieved.例文帳に追加

その際、ダミーバンプ２４０を対向するシリコン基板上の耐熱性樹脂膜３００に接着するように配置することで、バンプ電極同士の良好な電気的接続と、耐熱性が高くボイドがない樹脂膜によるバンプ保護性能を併せ持った半導体装置を実現できる。 - 特許庁

Before the edge coating film 34 or an edge reinforcing protection film 35 is formed on the resonator edge faces 13, 14, the plasma processing is performed on the front surface of the nitride semiconductor laser bar 10 including at least the resonator edge faces 13, 14, through the use of nitride gas or the mixed gas of the nitride gas with noble gas.例文帳に追加

共振器端面１３、１４上に端面コート膜３４または端面強化保護膜３５を形成する前に、少なくとも共振器端面１３、１４を含む窒化物半導体レーザバー１０の表面を窒素ガスまたは窒素ガスと希ガスの混合ガスによってプラズマ処理する。 - 特許庁

An opening part 6 whose part is exposed to the sensor outside is formed on an extension tip part of each groove 5, and an amine-based material remaining in the protection film 2 made of the resin and impeding the curing reaction of the film-shaped adhesive 4 is volatilized, diffused and discharged from the opening part 6 to the sensor outside.例文帳に追加

またこの溝５の延出先端部に、一部がセンサ外部に露出する開口部６を形成し、樹脂製保護膜２中に残留してフィルム状接着材４の硬化反応を阻害するアミン系物質をその開口部６からセンサ外部に揮発拡散して排出させる。 - 特許庁

To prevent water etc., which enters an inter-layer insulating film on a fuse from an opening of a protection film on the fuse in a trimming element formation region surrounded with a guard ring made of metal from entering a device formation region through an opening for a fuse lead-out electrode formed in the guard ring.例文帳に追加

金属層からなるガードリングで囲まれたトリミング素子形成領域のヒューズ上の保護膜の開口からヒューズ上の層間絶縁膜に浸入した水分等がガードリングに形成されたヒューズ引き出し電極用の開口を通ってデバイス形成領域に浸入することを防止する。 - 特許庁

To constitute an essential part of a back surface protection sheet for solar cell by a ceramic film comprising all the performances of weather resistance, hydrolysis resistance, gas barrier properties, and heat resistance, to improve the whole performances, and to enable easy bonding of the ceramic film and a solar cell module.例文帳に追加

耐候性、耐加水分解性、ガスバリア性、耐熱性の全ての性能を兼ね備えたセラミックスフィルムにより太陽電池用裏面保護シートの主要部を構成し、全体の性能を向上させ、セラミックスフィルムと太陽電池モジュールとの接合を簡単に行なえるようにする。 - 特許庁

A surface protection film for solar cell having steam shielding performance of 0.3 g/(m^2 day) is obtained by providing a polyester film having UV-ray absorptivity with a steam shielding layer, and employing an easy adhesion layer containing oxazoline group containing polymer as a crosslinking agent in least one outermost layer.例文帳に追加

紫外線吸収性を有するポリエステルフィルムに水蒸気遮蔽層を設けると共に、少なくとも片方の最表層をオキサゾリン基含有ポリマーを架橋剤とする易接着層として、水蒸気遮蔽性能が０．３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満である太陽電池用表面保護フィルムを得る。 - 特許庁

A non-extended resin film for surface protection has thickness of 30 μm or more and 100 μm or less, wherein the film is obtained by extruding the molten resin in sheet form and heat treating under 70°C or more and less than melting point of the resin after cooling and solidifying it.例文帳に追加

厚さが３０μｍ以上１００μｍ以下の表面保護用未延伸樹脂フィルムであって、当該フィルムは溶融された樹脂をシート状に押出し、冷却固化した後７０℃以上、樹脂の融点未満で加熱処理されたものであることを特徴とする表面保護用未延伸フィルム。 - 特許庁

In a heat laminating process bonding the metal foil to at least one surface of a polyimide film used as a substrate while heating and pressurizing them, at the time of laminating, a protection film having thickness variability of not more than 5% is arranged between the metal foil and a pressurizing surface.例文帳に追加

本発明では、基材となるポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に金属箔を貼り合わせるために、これらを加熱および加圧しながら貼り合わせる熱ラミネート工程において、ラミネート時に、金属箔と加圧面との間に、厚みばらつき５％以下である保護フィルムを配する。 - 特許庁

Adopting a configuration of the film thickness of the Au layer 22 selected to be 0.01μm or over and 0.1μm or below can suppress growing of an Au-Sn alloy layer 52 resulting from diffusion of the Sn being the component of the solder bump into the Au layer 22 placed under the protection film 30 during the solder reflow.例文帳に追加

Ａｕ層２２の膜厚を０．０１μｍ以上０．１μｍ以下とした構成とすることで、はんだリフロー時にはんだバンプを構成するＳｎが保護膜３０の下に位置するＡｕ層２２に拡散してＡｕ−Ｓｎ合金層５２が成長していくのを抑制するようになっている。 - 特許庁

A silver vapor-deposited layer is formed on one surface of a transparent plastic film, an aluminum vapor-deposited layer is formed on another surface thereof, a protection layer is formed on a surface of the silver vapor-deposited layer and a white reflection film is adhered on a surface of the aluminum vapor-deposited layer via an adhesive to manufacture the reflection sheet.例文帳に追加

一枚の透明プラスチックフィルムの片面に銀蒸着層及び他の片面にアルミニウム蒸着層を形成し、該銀蒸着層の表面上に保護層を形成し、該アルミニウム蒸着層の表面上に白色反射フィルムを接着剤を介して貼り合せ、反射シートを製造する。 - 特許庁

A board 1 formed of silicon or silicon carbide in which a protective film is formed in a specified part of a surface is heated at 500°C or higher and 1,000°C or lower and a part in which a protection film of the board 1 is not, is formed, being subjected to dry etching by supplying hydrogen fluoride gas together with the atmospheric gas.例文帳に追加

表面の所定部分に保護膜２が形成された珪素又は炭化珪素からなる基板１を５００℃以上１０００℃以下に加熱し、フッ化水素ガスを雰囲気ガスと共に供給して基板１の保護膜２が形成されていない部分をドライエッチングする。 - 特許庁

Moreover, a moisture protecting film 18, covering a scintillator layer 16 of the image sensor section 1, is made to reach the rear surface of the substrate of the image sensor section 1 over the adjacent sidewall of the light-sensitive part 11 so that this part of the moisture protection film 18 is held and fixed between the image sensor section 1 and the mounting substrate 20.例文帳に追加

そして、イメージセンサ部１のシンチレータ層１６を覆う耐湿保護膜１８を光感応部１１の近接する側壁を越えてイメージセンサ部１の基板の裏面まで到達するようにし、この部分をイメージセンサ部１とマウント基板２０とで挟み込んで固定している。 - 特許庁

Oxygen gas is introduced in the protection film producing chamber 6 by a gas introduction system 62 and the cleaning means removes the carbon film through the formation of oxygen plasma P by impressing a discharge electrode 631 with a discharge power supply 633 and making discharge of oxygen gas.例文帳に追加

保護膜作成チャンバー６内にガス導入系６２によって酸素ガスが導入され、クリーニング手段は、放電用電源６３３により放電用電極６３１に電圧を印加して酸素ガスの放電を生じさせて酸素プラズマＰを形成することによりカーボン膜の除去を行う。 - 特許庁