「Protection film」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a food film case capable of eliminating the need for blocking prevention treatment or limiting the treatment to only one surface, in addition to much goodness in improving environmental protection or food safety at low cost relating to the food film case, for example used for storing supplementary food in a lunch box.例文帳に追加

例えば、弁当箱内において副食品の収容に用いられる食品用フィルムケースに関して、環境保護や食品の安全性の向上を低コストで図る上で非常に有益であるのに加え、ブロッキング防止用の処理を不要あるいは片面のみとすることができる食品用フィルムケースを提供すること。 - 特許庁

In the surface protection film for polycarbonate provided with a film base material, having ≥1 GPa tensile modulus of elasticity and an adhesive layer, the adhesive layer is formed by cationically curing an energy curing adhesive, containing a (meth)acrylate polymer (A) having a cationically polymerizable group and a cationically polymerizable resin (B).例文帳に追加

引張弾性率が１ＧＰａ以上であるフィルム基材と、接着剤層と、を備えたポリカーボネート用表面保護フィルムであって、接着剤層を、カチオン重合性基を有する（メタ）アクリル酸エステルポリマー（Ａ）と、カチオン重合性樹脂（Ｂ）とを含むエネルギー硬化性接着剤をカチオン硬化して形成する。 - 特許庁

The back protection sheet for a solar cell module, in which the cured coating film of the fluororesin containing the titanium oxide is formed on at least one surface of the base material sheet, is characterized in that the cured coating film contains a dispersant composed of unsaturated carboxylic acid containing a hydroxyl group.例文帳に追加

基材シートの少なくとも一方の面に二酸化チタンを含むフッ素樹脂の硬化塗膜が形成された太陽電池モジュール用裏面保護シートにおいて、前記硬化塗膜に水酸基を含む不飽和カルボン酸からなる分散剤が含有されていることを特徴とする太陽電池モジュール用裏面保護シート。 - 特許庁

The pressure-sensitive adhesive film for surface protection is alternatively obtained by forming on a resin film a tackifier layer comprising a composition containing a modified block copolymer of a vinylaromatic hydrocarbon having a specified functional group and a conjugated diene, a tackifier and a specified cross-linking agent having a specified functional group.例文帳に追加

特定の官能基を有するビニル芳香族炭化水素と共役ジエンからなる変性ブロック共重合体又はその水添物と粘着付与剤、及び特定の官能基を有する架橋剤を含む組成物よりなる粘着剤層を、樹脂フィルム上に形成させてなる表面保護用粘着フィルム。 - 特許庁

The polyester film for solar cell backside protection consists of a polyester film having a peak top temperature (Tdp) of loss tangent (tanδ) in dynamic viscoelasticity evaluation equal to or higher than 116°C, the amount of terminal carboxyl group equal to or smaller than 26 equivalent/t, and a limit viscosity of 0.65 dl/g or higher.例文帳に追加

動的粘弾性評価における損失正接（ｔａｎδ）のピークトップ温度（Ｔｄｐ）が１１６℃以上であり、末端カルボキシル基量が２６当量／ｔ以下であり、極限粘度が０．６５ｄｌ／ｇ以上であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする太陽電池裏面保護用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

This lamp reflector 2 is worked, using a reflector 1 provided by bonding the reflecting sheet constituted of at least three layers constituted of a substrate layer 30, a metal layer 20 constituted mainly of silver, and a protection layer 10, in the order on a polymer film 40, with a molding by an adhesive, using the polymer film 40 side as a bonding face.例文帳に追加

高分子フィルム４０上に、下地層３０、銀を主体とする金属層２０、保護層１０の少なくとも３層を順に構成した反射シートを、高分子フィルム４０側を接着面として、成形体と接着剤により貼り合わせることにより得られる反射体１を用い、ランプリフレクター２に加工する。 - 特許庁

By ion-implanting arsenic or phosphorus into a silicon substrate 1 using a gate electrode 41 as an ion-implanting mask, one pair of extension layers 51 is formed in a surface of the silicon substrate 1, and a protection insulating film 14 of 1 to 20 nm in thickness is then formed with the silicon oxide film by a CVD method on the entire surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

ゲート電極４１を注入マスクとしてシリコン基板１内にヒ素あるいはリンをイオン注入して、シリコン基板１の表面内に１対のエクステンション層５１を形成し、その後、シリコン基板１の全面に、ＣＶＤ法によりシリコン酸化膜で厚さ１〜２０ｎｍの保護絶縁膜１４を形成する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet-curing coating material capable of forming a coating film or a protection layer having excellent ink receptivity and fixability to a substrate such as a plastic film and a plastic card or an inkjet ink reception layer formed on the substrate as well as excellent fretting resistance and smoothness, and a sheet produced by using the ultraviolet-curing coating material.例文帳に追加

印刷インキ適性に優れており、プラスチックフィルムやプラチックカードなどの基材や基材上に形成されたインクジェットインク受容層に対する定着性、擦り耐性および平滑性に優れる塗膜あるいは保護層を形成できる紫外線硬化型塗料およびそれを用いたシートの提供。 - 特許庁

The surface protection polyolefin film comprises a base layer (A layer) comprising a biaxially oriented polypropylene resin film with a center line average roughness Ra of 0.05-0.5 μm and a self-adhesive layer (B layer) comprising a polyolefin resin and oriented monoaxially and has a thermal shrinking rate of 0-2.5% in the longitudinal direction at 100°C.例文帳に追加

中心線平均粗さＲａが０．０５〜０．５μｍの二軸延伸ポリプロピレン樹脂フィルムを含む基層（Ａ層）と、ポリオレフィン樹脂を含みかつ一軸方向に延伸されてなる自己粘着層（Ｂ層）とを含み、１００℃の長手方向の熱収縮率が０〜２．５％である表面保護用ポリオレフィンフィルムとする。 - 特許庁

In the cathode anticorrosion system, the surface of a concrete structure is provided with an inorganic ceramic coating film having electrical conductivity, and with a steel in the structure as the cathode and the inorganic ceramic coating film as the anode, energizing is performed to the space between the anode and the cathode by using an external power source to attain the corrosion protection of the steel material.例文帳に追加

コンクリート構造物の表面に、導電性を有する無機系セラミック塗膜が設けられており、構造物中の鋼材を陰極とし無機系セラミック塗膜を陽極として、外部電源を用いて陽極と陰極間に通電して鋼材の防食を図る陰極防食システムである。 - 特許庁

A long-sized polarizing plate includes: a linearly-polarized light separation element; a linearly polarizing film; and a protection film in this order, wherein the linearly-polarized light separation element includes a layer composed of a resin A which has a negative inherent birefringence value and has a linearly-polarized light transmission axis in a breadthwise direction.例文帳に追加

本発明は、直線偏光分離素子、直線偏光フィルム、および保護フィルムを、この順に備える長尺状の偏光板であって、前記直線偏光分離素子は、固有複屈折値が負の樹脂Ａからなる層を含み、かつ、その直線偏光の透過軸が幅方向にある偏光板である。 - 特許庁

A condensing beam entering from an incident surface 6a is condensed at a first focus FA, is reflected toward a reflection surface 6b by a glare protection reflection film 7B, and is reflected by a reflection film 7A and is condensed at a second focus Fb on a spot formation surface 6c, thus forming a light spot 9a.例文帳に追加

入射面６ａから入射した集光ビーム３ｂ’は、第１の焦点Ｆａに集光された後、遮光反射膜７Ｂによって反射面６ｂに向けて反射され、反射膜７Ａにより反射されてスポット形成面６ｃ上の第２の焦点Ｆｂに集光され、光スポット９ａを形成する。 - 特許庁

A laminate film wherein a plurality of polyester resin layers including at least a first layer 19a having molecular alignment and a second layer 19b not having molecular alignment are laminated is used as the print protection film 19, whereby the ease of unsealing is considerably improved because strength and hand-tearability are given to the package 18 in good balance.例文帳に追加

印刷保護フイルム１９に、少なくとも分子配向を有する第１層１９ａと分子配向が無い第２層１９ｂとを含む複数のポリエステル系樹脂層が積層された積層フイルムを用いることで、包装体１８に強度と手切れ性とがバランスよく付与されるので、易開封性が大幅に向上する。 - 特許庁

In this production method for the cellulose ester film of 20-60 μm thickness used for the polarizing plate protection film, it is adjusted such that a ratio of spectral transmission density in 500 nm wavelength to spectral transmission density in 600 nm wavelength becomes 0.95-1.05.例文帳に追加

偏光板保護フィルムに用いられる厚さ２０〜６０μｍを有するセルロースエステルフィルムの製造方法であって、波長６００ｎｍにおける分光透過濃度に対する波長５００ｎｍにおける分光透過濃度の比が０．９５〜１．０５となるように調整することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。 - 特許庁

The radiation-senstive resin composition used for producing the cured products as the protection film, the insulation film or the spacer, includes: (A) a polymer having a carboxyl group; (B) a polymerizable unsaturated compound; (C) a radiation-senstive polymerization initiator; and (D) a thermosensitive dye.例文帳に追加

表示素子用の保護膜、絶縁膜又はスペーサーとしての硬化物形成に用いられる感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）カルボキシル基を有する重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤及び（Ｄ）感熱色素を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

A plurality of photoelectric conversion elements, consisting of a photo-diode using a semiconductor thin film made of amorphous silicon and TFT (thin-film transistor), are formed on an insulating substrate made of a glass substrate and the like in two dimensions, and a semiconductor protection layer is formed on the surface thereof, thus forming an optical power detector as a whole.例文帳に追加

ガラス基板等からなる絶縁性基板上に非晶質シリコンより成る半導体薄膜を用いたフォトダイオードとＴＦＴ（薄膜トランジスタ）よりなる光電変換素子が複数２次元に形成され、その表面に半導体保護層が形成され、全体として光検出器が構成される。 - 特許庁

While a gate electrode 41 is used as an implantation mask, arsenic or phosphorus is ion-implanted in a silicon substrate 1 to form a pair of extension layers 51 in a surface of the silicon substrate 1, and then a protection insulating film 14 of 1 to 20 nm thickness is formed of a silicon oxide film by a CVD method over the entire surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

ゲート電極４１を注入マスクとしてシリコン基板１内にヒ素あるいはリンをイオン注入して、シリコン基板１の表面内に１対のエクステンション層５１を形成し、その後、シリコン基板１の全面に、ＣＶＤ法によりシリコン酸化膜で厚さ１〜２０ｎｍの保護絶縁膜１４を形成する。 - 特許庁

The surface protection sheet for a solar cell module is formed by laminating gas barrier sheets on the opposite surface of a light irradiation surface of a base material sheet, and as for the gas barrier sheet, at least two or more gas barrier sheets which have an inorganic oxide vapor deposition thin film layer, a resin coated layer and a polymer film are laminated.例文帳に追加

基材シートの光照射面の反対側の面に、ガスバリアシートが積層された太陽電池モジュール用表面保護シートであって、該ガスバリアシートが、無機酸化物蒸着薄膜層、樹脂コート層、高分子フィルムを有するガスバリアフィルムが少なくとも２枚以上積層された太陽電池モジュール用表面保護シート。 - 特許庁

In the functional film 10, a functional layer 12 is provided to one face of base film 11, a protection layer 14 is provided on the functional layer 12 across a third adhesive layer 13, a first adhesive layer 15 is provided to the other face, and a stripping layer 16 is provided on the first adhesive layer 15.例文帳に追加

そのような機能性フィルム１０は、基材フィルム１１の一方の面に機能層１２が設けられ、機能層１２の上に第３粘着剤層１３を介して保護層１４が設けられるとともに、他方の面に第１粘着剤層１５が設けられ、その上に剥離層１６が設けられている。 - 特許庁

The display screen is covered by the protective film or sheet which is formed by providing the high-polymer resin film or sheet with crazes to have the selectivity of visual fields, by which the protection of the information displayed on the display screen, the suppression of the reflection by the incident light and the wiping away of the dirt of the display screen are made possible.例文帳に追加

高分子樹脂フィルムまたはシートに、クレイズ領域を設けることにより、視野選択性を有しえた保護フィルムまたはシートで、ディスプレイ画面を覆うことにより、ディスプレイ画面に表示された情報の保護と入射光による反射の抑制をおこなうと共に、ディスプレイ画面の汚れも払拭できる。 - 特許庁

An n+ drain layer D1 and a polycrystalline silicon film 16 are connected to an electrostatic protection circuit, and a vertical trench type MOS transistor TR1 is provided with the n+ polycrystalline silicon film 16 as a gate, the n+ drain layer D1 as a drain, a first n-well layer 11 as a source, and a first p-well layer 13 as a channel.例文帳に追加

静電保護回路には、Ｎ＋ドレイン層Ｄ１とＮ＋多結晶シリコン膜１６が接続され、Ｎ＋多結晶シリコン膜１６をゲート、Ｎ＋ドレイン層Ｄ１をドレイン、第１のＮウエル層１１をソース、第１のＰウエル層１３をチャネルとする縦型トレンチＭＯＳトランジスタＴＲ１が設けられている。 - 特許庁

A back face protection film 8, which protects the back face 3b and eliminates a difference of thermal expansion between the functional surface 3a side and the back face 3b side of the semiconductor chip 3, is formed on the back surface 3b facing the functional surface 3a.例文帳に追加

機能面３ａとは反対側の面である裏面３ｂには、裏面３ｂを保護するとともに、半導体チップ３の機能面３ａ側と裏面３ｂ側とでの熱膨張差をなくすための裏面保護膜８が形成されている。 - 特許庁

To provide a security mechanism having no protection circuit wherein no current is made to flow in an abnormal state in which there is a generation of gas, in an electrochemical device such as a lithium secondary battery or the like using a flexible film as a sheath bag.例文帳に追加

柔軟性のあるフィルムを外装袋に用いたリチウム二次電池などの電気化学デバイスにおいて、保護回路を有することなく、ガスが発生するような異常時に電流が流れないようにする安全機構を提供する。 - 特許庁

Prior to formation of an encapsulation layer 17 on a top face of a semiconductor wafer 21, degasification processing for discharging and removing a gas composition such as moisture adsorbed or contained in the semiconductor wafer 21, a protection film 14 and the like is performed.例文帳に追加

半導体ウエハ２１上面への封止層１７の形成に先立って、半導体ウエハ２１や保護膜１４などに吸着あるいは含有している水分などのガス成分を放出させて除去する脱ガス処理を行う。 - 特許庁

To provide an easy-to-produce surface protection tape which can be used consistently from a rear surface grinding process to an insulating film forming process and a rear surface wiring forming process while preventing occurrence of a smeared portion on a semiconductor wafer.例文帳に追加

製造が容易であり、半導体ウェハに汚染部分を発生させることなく、裏面研削工程から絶縁膜形成工程および裏面配線形成工程まで一貫して使用できる表面保護テープを提供する。 - 特許庁

The surface structure of the semiconductor device is manufactured on the front surface of the semiconductor wafer, and the rear surface of the wafer is ground while the entire surface is covered with a protection film 31 excluding an area to which wires of electrode pads 32 and 33 are fitted.例文帳に追加

半導体ウエハの表面に、半導体素子の表面構造を作製し、その表面全体を、電極パッド３２，３３のワイヤが固着される領域を除いて、保護膜３１で被覆した状態で、ウエハ裏面の研削をおこなう。 - 特許庁

Then, a laser beam 20 is irradiated to the part where the wiring 2 and the pattern 11 are brought into contact and to the part where the protection film 4 and the circuit pattern 11 are brought into contact to fuse the wiring 2 or the circuit pattern 11, thus joining the two.例文帳に追加

そして配線２と回路パターン１１の接する部分及び保護膜４と回路パターン１１の接する部分にレーザ光２０を照射して、配線２または回路パターン１１を融解させることで接合を行う。 - 特許庁

The chip antenna comprises a dielectric block 11, a radiation electrode 12 formed on one principal surface 11a of the dielectric block 11, and a protection insulating film 15 through which sulfur gases are not permeated substantially, covering a surface of the radiation electrode 12.例文帳に追加

誘電体ブロック１１と、誘電体ブロック１１の一方の主面１１ａに形成された放射電極１２と、放射電極１２の表面を覆う実質的に硫化ガスを透過しない保護絶縁膜１５とを備える。 - 特許庁

To provide a vehicular lamp in which a reflectance unobtainable by an aluminum vapor-deposited reflecting face can be maintained for a long period, and which is provided with a reflecting member having a silver vapor-deposited reflecting face superior in durability against peeling-off of a protection film and a crack.例文帳に追加

アルミ蒸着反射面では得られない高反射率を長期にわたり維持でき、保護膜の剥離やクラックに対する耐久性に優れた銀蒸着反射面をもつ反射部材を備えた車両用灯具の提供。 - 特許庁

To provide a film for chip protection capable of reducing a warpage of a semiconductor device at the wafer level by correcting a warpage of a wafer after resin sealing, in addition to the function for protecting the rear surface of a semiconductor chip mounted by a face-down method.例文帳に追加

フェースダウン方式で実装される半導体チップの裏面を保護する機能に加え、樹脂封止後のウエハの反りを矯正してウエハレベルでの半導体装置の反りを低減可能なチップ保護用フィルムを提供する。 - 特許庁

During the etching, a less amount of the protection film is deposited in the corners which are boundaries between the side faces and the bottom face of each concave section such as the trench, in ends of the concave portion, accelerating the isotropic etching by radicals of chemical species contained in the etching gas.例文帳に追加

これによって、エッチング中に、トレンチ等の凹部の終端部では、その側面と底面との境界となる角部に堆積する保護膜の量が減り、エッチングガス中の化学種のラジカルによって等方性エッチングが促進される。 - 特許庁

The side wall of a transistor in a circumferential region is protected from plasma etching in a gate etching step by forming a protection pattern 102a in the circumferential region before a tunnel oxide film 103 is formed on the face of a semiconductor substrate 101.例文帳に追加

半導体基板１０１の表面にトンネル酸化膜１０３を形成する前に周辺領域で保護用パターン１０２ａを形成し、ゲートエッチング工程時に周辺領域のトランジスタの側壁をプラズマエッチングから保護する。 - 特許庁

To provide a polarizing plate of excellent reworkability, in the polarizing plate comprising a combination of a polarizer with a protection film having the uppermost surface formed of any material selected from the group comprising an acrylic polymer, an alicyclic structure containing polymer and a polycarbonate.例文帳に追加

偏光子とアクリル重合体、脂環式構造含有重合体、またはポリカーボネートのいずれかの材質が最表層に形成された保護フィルムとの組み合わせの偏光板において、リワーク性が良好な偏光板を提供する。 - 特許庁

The plasma treatment is applied to the first region 20, second region 22 and channel protection film 26 using gas containing a dopant to increase an impurity concentration of a surface layer 28 of the first region 20 and second region 22.例文帳に追加

第１領域２０及び第２領域２２並びにチャネル保護膜２６に対して、ドーパントを含有するガスによるプラズマ処理を行って、第１領域２０及び第２領域２２の表層２８の不純物濃度を高める。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of dyeing, setting, performing an underlayer surface treatment to form an underlayer on a surface of the fabric, and performing a soil resistance processing treatment to form a soil-resistant protection film on the surface of the underlayer.例文帳に追加

製造方法は、染色ステップと、定着ステップと、布の表面に下層を形成するために下層表面処理を行うステップと、下層の表面に耐汚染性保護フィルムを成形するために耐汚染加工処理を行うステップとを含む。 - 特許庁

After the resist pattern 113A formed of an unexposed part of the resist film 13 is formed, the resist pattern 13A is irradiated with a 254 nm light 16, and heat treatment is carried out to a protection group from the resist pattern 13A.例文帳に追加

レジスト膜１３の未露光部からなるレジストパターン１３Ａを形成した後、レジストパターン１３Ａに２５４ｎｍ光１６を全面的に照射した後、加熱処理を行なって、レジストパターン１３Ａから保護基を脱離させる。 - 特許庁

In this way, the protection film 2 does not contact the porous board 5, deterioration or breakage due to vibration or cleaning can be prevented, and a surface air layer 10 can be created between the fibrous sound absorbing material 3 and the porous board 5 thereby improving the sound absorbing coefficient.例文帳に追加

これで保護フィルム２が多孔板５に接触せず、振動や洗浄による劣化や破損を防止でき、また、繊維質吸音材３と多孔板５との間に表面空気層１０を画定して吸音率を向上できる。 - 特許庁

To provide a thermal ink jet printer head having a protection film which is provided in each of a heating section and a circuit pattern and is superior in an electric insulation property, a cavitation resistance property, a dry etching resistance property, a heat resistance property, a thermal conductivity and an adhesion property.例文帳に追加

電気絶縁性、耐キャビテーション性、耐ドライエッチング性、耐熱性、熱伝導性及び密着性のいずれにおいても良い特性を有する保護膜を発熱部と配線電極に備えたサーマルインクジェットプリンタヘッドを提供する。 - 特許庁

The optical control signal emitted from the light emitting device is emitted even from the other end surface of the transparent protection film, so even when the case is formed to a size such that the case is gripped in one hand, the optical control signal is not cut off by the fingers gripping the case.例文帳に追加

発光素子から発光される光制御信号は、透明保護フィルターの他端面から発光されるので、ケースを片手で握る大きさに形成しても、ケースを握る指で光制御信号が遮断されない。 - 特許庁

The tightness is enhanced since the close contact layer 7 is spread over the whole contact face to fill up unevenness on a surface of the gas detecting layer 4, although the thick-film like gas detecting layer 4 is inferior in the tightness onto the protection layer 34.例文帳に追加

厚膜形成されるガス検知層４は保護層３４への密着性に劣るが、密着層７がガス検知層４の表面上の凹凸を埋めるように接触面全体に広がるため、両者の密着性は高められる。 - 特許庁

To provide a simple optical semiconductor device which can respond to a demand for suppressing the reflectance of incident light as much as possible, as well as a variation in the reflectance of incident light due to a variation in the thickness of a surface protection film in a photodiode of an optical semiconductor device.例文帳に追加

光半導体装置のホトダイオードにおいて、入射光の反射率を出来る限り抑え、かつ、表面保護膜の膜厚のばらつきによる入射光の反射率のばらつきを抑えることが要望されている。 - 特許庁

To provide a non-contact data carrier in which adhesion strength of front and rear protection film is enhanced by providing a base of the non-contact data carrier to be a center layer with a through hole and a punched part of a peripheral edge part and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

中心層となる非接触データキャリアの基材に貫通孔と縁辺部の打ち抜き部を設けることにより、表裏保護フィルムの接着強度を高めた非接触データキャリアとその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the contact unit for up-and-down conduction for mutually connecting the wirings provided on the different layers on the glass substrate 9 is provided in the circumference of the transparent conduction film 10 for electrostatic protection and is covered by the sealing material 11.例文帳に追加

そして、ガラス基板９上の異なる層上に設けられた配線同士を接続するための上下導通用のコンタクト部は、静電気保護用透明導電膜１０の周囲に設けられ、シール材１１で覆われている。 - 特許庁

In this case, protection films 7A and 7B covering entirely the low melting point metallic body 5 prevents metallic components of the high melting point metallic film 4 or the fin member 2 from being melted into the melted low melting point metallic body 5 in advance.例文帳に追加

その際、低融点金属体５の全面を覆っている保護膜７Ａ，７Ｂにより、溶融した低融点金属体５に高融点金属被覆４やフィン部材２の金属成分が溶解するのが未然に防止される。 - 特許庁

The transparent protection film E is provided on only one face of the polarizer P, via an adhesive layer G, and the curing type pressure-sensitive adhesive layer B is provided on the other face of the polarizer P.例文帳に追加

偏光子（Ｐ）の片面にのみ透明保護フィルム（Ｅ）が接着剤層（Ｇ）を介して設けられており、前記偏光子（Ｐ）の他の片面には、硬化型粘着剤層（Ｂ）が設けられていることを特徴とする粘着型偏光板。 - 特許庁