「Pre-Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The means 22 for measuring the temperature of the vapor deposition material measures temperature of the underside of the vapor deposition material just before pre-heating of the vapor deposition material 17, and measures temperature distribution of heating toward the vapor deposition material 17.例文帳に追加

蒸着材料温度測定手段２２は、蒸着材料１７の予備加熱直前における前記蒸着材料の下面の温度を測定し蒸着材料１７への加熱温度分布を測定する。 - 特許庁

In the ECR sputtering system, double shutters to prevent film deposition on a substrate caused by the pre-sputtering before the film deposition are arranged between a target 3 and a substrate 4.例文帳に追加

本発明のＥＣＲスパッタ装置は、成膜前のプレスパッタリングによる基板着膜を防ぐシャッタをターゲット３と基板４間に２重に配設する。 - 特許庁

To provide a pretreatment method of a component of a deposition device for efficiently forming a pre-coat layer where the particle amount is reduced for the component of the deposition device.例文帳に追加

成膜装置用部品に対してパーティクル量を低減したプレコート層を効率よく形成することができる成膜装置用部品の前処理方法を提供する。 - 特許庁

To considerably reduce a time and a cost required for a dummy etching after exchanging a deposition-preventive shield in a pre-etching chamber.例文帳に追加

前処理エッチングチャンバー内の防着シールドの交換後のダミーエッチングに要する時間とコストを大きく低減させる。 - 特許庁

By pre-heating of the organic material, the time required before starting film deposition on the substrate is shortened.例文帳に追加

有機材料を予備加熱することによって、基板への蒸着が開始できるまでに要する時間を短縮することができる。 - 特許庁

Deposition-preventive shields 261-264 for preventing deposition of a material emitted from a substrate 9 are disposed in an exchangeable manner in the pre-etching chamber 2 which is connected to a sputter chamber 4 for performing the deposition by the sputtering so as to ensure the continuous vacuum and performs the pre-etching of the surface of the substrate 9 therein.例文帳に追加

スパッタリングによる成膜処理が行われるスパッタチャンバー４に真空が連続するよう接続され、スパッタリングに先立ち基板９の表面をエッチングする前処理が内部で行われる前処理エッチングチャンバー２内には、基板９から放出された材料の付着を防止する防着シールド２６１〜２６４が交換可能に設けられている。 - 特許庁

The predetermined electron density is obtained by adjusting the partial pressure of oxygen on the basis of the relationship between the pre-grasped electron density of the zinc oxide film and the partial pressure of oxygen in the film deposition chamber.例文帳に追加

このとき、予め把握した酸化亜鉛膜の電子密度と成膜室の酸素分圧の関係に基づいて、酸素分圧を調整して所定の電子密度を得る。 - 特許庁

Further, at the pre-heating zone B, before the substrate reaches the film forming zone A, the substrate is heated to the temp. range from 0.8 times to 1.3 times of the temp. of the substrate at the time of vapor deposition.例文帳に追加

また、成膜領域Ａに到達する以前の基板５を、予備加熱領域Ｂにおいて蒸着時の基板温度の 0.8倍以上 1.3倍以下の温度に加熱する。 - 特許庁

A thermal process for cleaning equipment surfaces having deposition of undesired silicon nitride in a semiconductor processing chamber by using a thermally activated source of pre-diluted fluorine is provided.例文帳に追加

半導体処理チャンバーにおいて、望まれていない窒化ケイ素が推積した装置表面を、熱的に活性化した、予備希釈したフッ素源を用いてクリーニングするサーマルプロセス。 - 特許庁

To provide a method for dissolving or disrupting pre-formed or pre-deposited amyloid fibrils and/or inhibiting amyloid formation, deposition, accumulation, or persistence in Alzheimer's disease, prion diseases and/or other amyloidoses in a mammalian subject.例文帳に追加

哺乳類被検体中のアルツハイマー病、プリオン病、及び／又は他のアミロイド症における前形成した又は前沈着したアミロイド線維を溶解し又は破壊し、並びに／又はアミロイド形成、沈着、蓄積、又は残留を阻害する方法が開示される。 - 特許庁

The pre-wet filament within the specified weight range are sorted, and stored in a sealed bag 12 containing an oxygen adsorbent 11 until the time when the vapor deposition is actually performed.例文帳に追加

そして、これらプリウェット・フィラメントの内、一定の重量範囲のものを選別し、それらを、酸素吸着剤の入った密閉袋で、実際の蒸着作業を行う時期まで保管する。 - 特許庁

This method includes a step of performing the plasma pre-heating of at least one processing volume structure in a processing volume surrounding the substrate when the substrate is present in the deposition chamber.例文帳に追加

本方法は、堆積チャンバ内に基板が存在する場合に、基板を取り囲んでいる処理容積内の少なくとも１つの処理容積構造体をプラズマ予熱することを含んでいる。 - 特許庁

Some trays among the plurality of trays 4 are used as dummy trays 4b which do not convey the work 6, and the pre-deposition treatment is performed in the vacuum vessel 1 into which the dummy tray 4b is shifted.例文帳に追加

複数のトレー４の内の一部は、ワーク６を搬送しないダミートレー４ｂとし、ダミートレー４ｂが移送された真空槽１内でプリデポジション処理が行われるように構成する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus for a vapor-deposited thin film having excellent pre-tilt angle controllability which is capable of uniformly depositing an inorganic oriented film on a substrate of a large area and suitable for depositing a liquid crystal oriented film.例文帳に追加

プレチルト角制御性に優れ、大面積基板上へ均一に無機配向膜を形成可能な、液晶配向膜の形成に好適な蒸着薄膜の成膜装置を提供する。 - 特許庁

In the first film-forming step, a first film 103 with the thickness of ≥3 nm is formed on a particle irradiation surface of the substrate 101 after the pre-irradiation step by an ion assisted vapor deposition method using ion beams.例文帳に追加

第１の成膜工程では、前照射工程後の基板１０１の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第１の膜１０３を３ｎｍ以上の厚みで成膜する。 - 特許庁

In addition, electron mobility is controlled by adjusting the partial pressure of oxygen on the basis of the pre-grasped relationship between the electron mobility of the zinc oxide film in the predetermined doping quantity of dopant and the partial pressure of oxygen in the film deposition chamber.例文帳に追加

また、予め把握した、ドーパントの所定のドーピング量における酸化亜鉛膜の電子移動度と成膜室の酸素分圧の関係に基づいて、酸素分圧を調整して電子移動度を制御する。 - 特許庁

The member of the ink cartridge is constituted by sticking a barrier film obtained by successively providing a pre-treatment layer 2, a transparent vapor deposition thin film layer 4 composed of inorganic oxide, and a gas barrier coating film layer 5 to at least one side of a transparent plastic film base material 1 or sticking a transparent film thereto further.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材１の少なくとも片面に、前処理層２、無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層４、ガスバリア性被膜層５を順次設けたバリアフィルムもしくは、さらに透明フィルムを貼り合わせたインクカートリッジ用部材。 - 特許庁

The deposition suppressing gas lowers a pre-cursor concentration at generation of products and flows between the substrate stage 2 and substrate 9 by way of between small projections 28 on a substrate holding surface of the substrate stage 2, and flows to the side of the substrate stage 2 from the gap between a circumferential projection 29 and the peripheral edge of the substrate 9.例文帳に追加

堆積抑制用ガスは、生成物が生じる際のプリカーサ濃度を低下させるものであり、基板ステージ２の基板保持面の各小突起２８の間を通りながら基板ステージ２と基板９との間を流れ、周状突起２９と基板９の周縁との隙間から基板ステージ２の側方に流出する。 - 特許庁

In the pre-treatment for a lowermost-layer electroless Ni plating step, Pd catalyst is deposited on a tungsten sintered wiring body, and the PD catalyst sintered in a micro crack of a ceramic insulating body is removed, so that electroless Ni plating process with superior selectivity and no surplus deposition can be provided, even when the Ni plating is carried out again after heat treatment.例文帳に追加

最下層の無電解Ｎｉめっきの前処理でＰｄ触媒をＷ焼結配線体に析出した後、セラミック絶縁体のマイクロクラックに浸透したＰｄ触媒を除去することにより、熱処理後再度、Ｎｉめっきを施した場合に於いても、余分析出の発生しない選択性の優れた無電解Ｎｉめっきプロセスが提供される。 - 特許庁

To provide plating with proper selectivity in minute pattern and without the possibility of deposition of a ceramic insulating body, even when electroless Ni plating is carried out again on a ceramic board in a pre-treatment step, in which the lowest-layer Ni plating is treated, with respect to a plating method for multi-layer electroless Ni plating on a sintered wiring conductor on a ceramic board.例文帳に追加

本発明は、セラミック基板の焼結配線導体上に無電解Ｎｉめっきを多階層に行う際のめっき方法に係わり、特に最下層の無電解Ｎｉめっきの前処理で、その上層に再度、無電解Ｎｉめっきを施す際もセラミック絶縁体上に析出しない、微細パターンへの選択性の高いめっきを提供するものである。 - 特許庁

To provide a gas seal between a pre-treatment chamber and a surface treatment chamber with a simple structure which can ensure the sufficient performance even when a sheet-like material is wide in a surface treatment device for performing the surface treatment by plasma, sputtering, CVD, vapor deposition, or the like, while allowing the sheet-like material to continuously travel in a vacuum chamber.例文帳に追加

真空室内においてシート状材料を連続走行させつつ、プラズマやスパッタ、ＣＶＤ、蒸着等によって表面処理を行なう表面処理装置において、前処理室と表面処理室との間のガスシールとして、簡易な構造でありながら、シート状材料が広幅になった場合でも十分な性能が得られるものを提供する。 - 特許庁