「Physical Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PHYSICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

物理蒸着法とそのための装置 - 特許庁

The physical vapor deposition method is a pulse laser deposition method.例文帳に追加

前記物理蒸着法はパルスレーザ蒸着法である。 - 特許庁

A diamond-like carbon thin film D is applied onto a sliding face S2 of an outer clutch plate 34b by known methods such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a PVD (Physical Vapor Deposition) method and an ion vapor deposition method.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

VACUUM CHAMBER FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION, PHYSICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, THIN FILM DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

物理蒸着真空チャンバ、物理蒸着方法、薄膜デバイスおよび液晶ディスプレイ - 特許庁

METHOD FOR COATING CHROMIUM NITRIDE BY PHYSICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

ＰＶＤによる窒化クロムのコーティング方法 - 特許庁

As a method for the vapor deposition may be either physical vapor deposition (PVD) method or chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

蒸着させる方法としては、物理蒸着法（ＰＶＤ）でも化学蒸着法（ＣＶＤ）でもよい。 - 特許庁

On a slide surface S2 of an outer clutch plate 34b, a diamond- like carbon thin film D is applied by a known method such as a CVD(Chemical Vapor Deposition) method, a PVD(Physical Vapor Deposition) method, and an ion deposition method.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（ChemicalVapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

A DLC-Si thin film D is applied to a sliding surface S2 of an outer clutch plate 34b by publicly known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method and Ion Deposition method or the like.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（ChemicalVapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりＤＬＣ−Ｓｉ薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

It is preferable to form the bonding coat 24 by physical vapor deposition, such as magnetron sputtering, electron beam physical vapor deposition, jet vapor deposition, and plasma thermal spraying.例文帳に追加

ボンディングコート（２４）は好ましくはマグネトロンスパッタ法、電子ビーム物理蒸着、ジェット蒸着、プラズマ溶射等の物理蒸着法で形成される。 - 特許庁

TARGET FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

物理的蒸着用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METAL OXIDE FILM, AND PHYSICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

金属酸化膜の形成方法及び物理蒸着装置 - 特許庁

The conductor pattern 25 comprises a metal thin film formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition.例文帳に追加

導体パターン２５を物理的蒸着又は化学的蒸着による金属薄膜によって構成する。 - 特許庁

The thin film composed of carbon of diamond structure is formed by chemical vapor deposition or physical vapor deposition.例文帳に追加

ダイヤモンド構造の炭素からなる薄膜は、化学蒸着、物理蒸着などによって形成すする。 - 特許庁

To provide a physical vapor deposition (PVD) apparatus and a PVD method.例文帳に追加

物理気相蒸着（ＰＶＤ）装置とＰＶＤ法を開示する。 - 特許庁

PHYSICAL VAPOR DEPOSITION HARD FILM-COATED TOOL HAVING EXCELLENT CRATER ABRASION RESISTANCE例文帳に追加

耐クレータ摩耗性に優れる物理蒸着硬質皮膜被覆工具 - 特許庁

To provide an enhanced method for designing a thermo-physical vapor deposition system in which a material is evaporated along the longitudinal direction of a vapor deposition source in a vapor deposition zone.例文帳に追加

蒸着ゾーン内の蒸着源の長さ方向に沿って材料が蒸発される熱物理蒸着システムを設計する向上された方法の提供。 - 特許庁

The platinum oxide is prepared by using a physical vapor deposition (PVD) and a chemical vapor deposition (CVD).例文帳に追加

この白金酸化物は、物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いて作成する。 - 特許庁

The nanoparticle dispersed liquid crystal is extremely simply produced by physical vapor deposition such as sputtering vapor deposition, etc.例文帳に追加

ナノ粒子分散液晶は、スパッタ蒸着等の物理蒸着によって極めて簡便に製造することができる。 - 特許庁

Thereafter, a titanium layer 214 is formed on the layer 204 and the hole 213 by a physical vapor deposition method.例文帳に追加

その後、物理蒸着によりチタン層２１４が蒸着される。 - 特許庁

IONIZED PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING HELICAL MAGNETIC-RESONANT COIL例文帳に追加

ヘリカル磁気共振コイルを利用したイオン化物理的気相蒸着装置 - 特許庁

IONIZED PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING HELICAL MAGNETIC RESONANCE COIL例文帳に追加

ヘリカル磁気共振コイルを利用したイオン化物理的気相蒸着装置 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of realizing a uniform film thickness distribution by using a physical vapor deposition method.例文帳に追加

物理蒸着法を用いて膜厚分布をより均一にできる成膜装置を提供する。 - 特許庁

TARGET MATERIAL FOR PHYSICAL VAPOR-DEPOSITION COATING FILM HAVING SUPERIOR OXIDATION RESISTANCE AND HEAT RESISTANCE例文帳に追加

耐酸化性、耐熱性に優れた物理蒸着皮膜用ターゲット材料 - 特許庁

The design layer 10 is, for example, formed by physical vapor deposition of a metal nitride.例文帳に追加

例えば、意匠層１０は窒化金属の物理蒸着により形成する。 - 特許庁

As covering method, physical vapor deposition method by-sputtering method is suitable.例文帳に追加

被覆方法としては、スパッタリング法による物理蒸着法が適している。 - 特許庁

A tungsten bulk fill may then be deposited on the nucleation layer employing cyclical deposition, chemical vapor deposition or physical vapor deposition techniques.例文帳に追加

その後、周期的堆積、化学気相堆積、又は、物理的気相堆積技術を用いて、タングステンのバルクフィルが核形成層上に堆積されてもよい。 - 特許庁

A second aluminum layer 216 is formed on the layer 214 by using a physical vapor deposition method.例文帳に追加

その後、物理蒸着により、第２のアルミニウム層２１６が形成される。 - 特許庁

To provide an apparatus and a vacuum system for collecting condensed vapor during physical vapor deposition.例文帳に追加

物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システムを提供する。 - 特許庁

The DLC-Si film D is applied to the sliding face S2 of an outer clutch plate 34b, by the well known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method, ion vapor deposition method, and so on.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりＤＬＣ−Ｓｉ薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

The coating is produced by physical vapor deposition processes such as cathode ray atomization.例文帳に追加

塗膜は、陰極線アトマイゼーションのような物理蒸着法により作製される。 - 特許庁

The particle involves physical vapor deposition of Mn_xV_yTa_zO_w and the chalcogenide glass layer.例文帳に追加

前記粒子は、Ｍｎ_xＶ_yＴａ_zＯ_wおよびカルコゲニドガラス層の物理蒸着により行なう。 - 特許庁

The metal compound thin-film may be acquired by either physical deposition method or chemical deposition method, otherwise by vapor-phase deposition method or liquid-phase deposition method.例文帳に追加

金属化合物薄膜は物理堆積法および化学堆積法のいずれでも、また気相堆積法および液相堆積法のいずれでもよい。 - 特許庁

METHOD OF FORMING CERAMIC COATING ON SUBSTRATE BY ELECTRON-BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

電子ビーム使用の物理的蒸着によって基板上にセラミック被膜を形成する方法 - 特許庁

To provide a physical vapor deposition coating system for forming an orthogonal lift-off coating.例文帳に追加

直交リフト・オフ・コーティングを形成するための物理蒸着コーティングシステムを提供する。 - 特許庁

Physical vapor deposition is augmented by chemical vapor deposition from one or more organometallic compounds to deposit multi-component materials.例文帳に追加

物理蒸着が、複数成分材料を堆積させるのに一つまたは複数の有機金属化合物からの化学蒸着により増大される。 - 特許庁

The interface layer 16 is formed by physical vapor deposition using Si as a vapor deposition material in an atmosphere of a mixed gas prepared by adding oxygen to an inert gas.例文帳に追加

この界面層16は、不活性ガスに酸素を添加した混合ガス雰囲気で、Siを蒸着材料とした物理蒸着により形成される。 - 特許庁

In general, physical vapor deposition device and method for metal on a substrate are provided, a physical vapor deposition chamber and a target 300 arranged at the upper part of the chamber are contained.例文帳に追加

本発明は一般に、基板上の金属の物理蒸着装置及び方法を提供し、物理蒸着チャンバーと、該チャンバーの上部に配置されたターゲット３００とを含んでいる。 - 特許庁

This device is for sticking a ceramic film by an electron beam physical vapor deposition method(EBPVD).例文帳に追加

電子ビーム物理蒸着法（ＥＢＰＶＤ）によってセラミック皮膜を付着するための装置。 - 特許庁

To configure a physical vapor deposition target assembly to isolate a target-bonding layer from a processing region.例文帳に追加

物理蒸着ターゲットアセンブリを、ターゲットボンディング層が処理領域から分離するように構成する。 - 特許庁

This film of the amorphous carbon is formed by physical vapor deposition in which graphite is made as a raw material.例文帳に追加

この非晶質カーボン膜は、グラファイトを原料とする物理的蒸着法により形成する。 - 特許庁

A PVD (physical vapor deposition) coating film of DLC (diamond-like carbon) or CrN is preferably formed between the peripheral grooves and the port.例文帳に追加

周溝とポート間に、ＤＬＣ又はＣｒＮのＰＶＤ被膜を形成するのがよい。 - 特許庁

In an alternative method of producing this thermal barrier coating, electron beam physical vapor deposition process is used.例文帳に追加

この遮熱コーティングを製造する別の方法では電子ビーム物理蒸着を使用する。 - 特許庁

An ion-enhanced physical vapor deposition is augmented by sputtering to deposit multi-component materials.例文帳に追加

イオン強化物理蒸着が、複数成分材料を堆積させるのにスパッタリングにより増大される。 - 特許庁

In the vapor deposition film 1, an inorganic oxide vapor deposition film by a physical vapor phase growth method, a first gas-barrier coating film by a gas-barrier composition, an inorganic oxide vapor deposition film by the physical vapor phase growth method or a chemical vapor phase growth method, and a second gas-barrier coating film by the gas-barrier composition are formed in turn on one side of a base material.例文帳に追加

蒸着フィルム１が、基材の一方の面に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第１のガスバリア性塗布膜と、物理気相成長法または化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第２のガスバリア性塗布膜と、が順次形成されてなる。 - 特許庁

PROCESS FOR ADJUSTING FEED RATE IN ELECTRON-BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTI-COMPONENT CONDENSATE FREE OF LAMINATION USING THE APPARATUS例文帳に追加

電子ビーム物理蒸着装置において送り速度を調整する方法、電子ビーム物理蒸着装置、およびこの装置を用いた層状化の発生していない多成分凝縮物の製造方法 - 特許庁