意味 | 例文 (3件) |
Chemical Vapour Depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
APPARATUS FOR CARRYING OUT PLASMA CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION (PCVD) PROCESS AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FIBRE例文帳に追加
プラズマ化学蒸着(PCVD)プロセスを実行するための装置および光ファイバを製造するための方法 - 特許庁
To provide an apparatus for carrying out a plasma chemical vapour deposition (PCVD) process, which apparatus makes it possible to employ high microwave power levels for attaining high deposition rates.例文帳に追加
高蒸着速度を達成するために高いマイクロ波電力レベルを用いることを可能にするプラズマ化学蒸着(PCVD)プロセスを実行するための装置を提供すること。 - 特許庁
The present invention relates to an apparatus for carrying out a plasma chemical vapour deposition process, by means of which one or more layers of doped or undoped silica can be deposited on the interior of an elongated glass substrate tube.例文帳に追加
本発明はプラズマ化学蒸着プロセスを実行するための装置に関し、これによって、ドープシリカまたは非ドープシリカの1つまたは複数の層が細長いガラス基体管の内部に蒸着され得る。 - 特許庁
意味 | 例文 (3件) |
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