FIGを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8741件
9) See Fig. 2-2-23 in the 2006 White Paper on Small and Medium Enterprises in Japan.例文帳に追加
9 中小企業白書(2006年版)第2-2-23図参照。 - 経済産業省
Fig. 3-1-11 [2] Differences in transaction patterns according to specific examples例文帳に追加
第3-1-11図〔2〕具体的事例にみる取引構造の相違 - 経済産業省
Fig. 3-1-18 Share of major customers compared with a decade ago例文帳に追加
第3-1-18図 10年前と比較した大口取引先のシェア - 経済産業省
Fig. 3-2-22 Percentage of SMEs that use patterns (by type of production technology)例文帳に追加
第3-2-22図 型を使用している割合(製造技術別) - 経済産業省
Fig. 3-2-3-1 Number of actions taken against Subcontracting Charges Law violations例文帳に追加
コラム3-2-3-1図 下請法違反行為に対する措置件数 - 経済産業省
Fig. 3-2-3-2 Percentages of Subcontracting Charges Law violations例文帳に追加
コラム3-2-3-2図 下請代金法違反行為件数の割合 - 経済産業省
Fig. 3-3-8 State of revision of wage systems over the past three years例文帳に追加
第3-3-8図 過去3年間の賃金制度の改定状況 - 経済産業省
Fig. 3-3-11 Trends in ratio of unemployed in labor force by age group例文帳に追加
第3-3-11図 年齢階級別完全失業率推移 - 経済産業省
Fig. 3-3-13 [2] Trends in number of employees by size of enterprise (non-regular employment)例文帳に追加
第3-3-13図〔2〕規模別雇用者数推移(非正規雇用) - 経済産業省
Fig. 3-3-20 Business profits and the feeling of excess and insufficiency of regular employees例文帳に追加
第3-3-20図 企業収益と正規雇用の過不足感 - 経済産業省
Fig. 3-3-22 Feelings of excess and insufficiency of non-regular employees by business segment例文帳に追加
第3-3-22図 非正規雇用者の業務別過不足感 - 経済産業省
Fig. 3-3-23 Comparison of human resources excess and insufficiency DIs by industry例文帳に追加
第3-3-23図 業種別 人材過不足DI(「不足」-「過剰」)比較 - 経済産業省
Fig. 3-3-28 Producers who are regular employees and business sentiment例文帳に追加
第3-3-28図 正規雇用プロデューサー型人材と業況感 - 経済産業省
Fig. 3-3-45 Development conditions of young personnel The development conditions of young personnel are inadequate例文帳に追加
~若手人材の育成状況は不十分である~ - 経済産業省
We will examine the compensation conditions of key persons (Fig. 3-3-55).例文帳に追加
キーパーソンの処遇状況について見てみる(第3-3-55図)。 - 経済産業省
Fig. 3-3-54 Measures for the development and securing of key persons and business sentiment例文帳に追加
第3-3-54図 キーパーソンの育成・確保取組と業況感 - 経済産業省
Methods for detachably attaching the polarizers include, for example, an insert type (refer to FIG. 3), a set-in type (refer to FIG. 4), and an adhesive type (refer to FIG. 5).例文帳に追加
偏光板を着脱自在に取り付ける方法として、例えば、差し込み式(図3を参照のこと)、挟み込み式(図4を参照のこと)、粘着式(図5を参照のこと)を挙げることができる。 - 特許庁
A surface metal layer 3 is formed by electroforming (Fig. C), further a PAI resin is applied by spin coating to form a heat insulating layer 4 (Fig. D), and a metal layer 5 is formed by electroforming (Fig. E).例文帳に追加
電鋳により表面金属層3を形成し(図(C))、さらにPAI樹脂をスピンコートして断熱層4を形成し(図(D))、さらに電鋳により金属層5を形成する(図(E))。 - 特許庁
A positive electrode 1 shown by the Fig.1 has one or a plurality of rings, and a tip 6 of a negative electrode shown by the Fig.3 is located in the vicinity of the center of the positive electrode 1 shown by the Fig.1.例文帳に追加
円環(リング)を1ヵ所又は複数カ所備えた正電極(図1)を有し、負電極の先端(図3の6)が前記正電極(図1の1)の中心近傍に位置している。 - 特許庁
When the shaft member 18 is rotated in Fig.(B) and further rotated in Fig.(C), the key hole 18a is aligned with the key projection 19a, and the shaft member 18 is lowered to an installation completion position as shown in Fig.(D).例文帳に追加
軸部材18を(B)のように回し、更に(C)のように回すと、キー穴18aとキー突起19aとが一致して、(D)のように軸部材18が設置完了位置まで下降する。 - 特許庁
A route is selected in a route selection menu in Fig.10, and a "stopping-site-to-stopping-site selection menu" shown in Fig.13 is displayed when a "facility selection" button is thereafter pressed in Fig. 11.例文帳に追加
図10の路線選択メニューにおいて路線選択がなされ、続いて図11において「設備選択」ボタンが押下されると、図13に示す「停車場間選択メニュー」が表示される。 - 特許庁
Situation for the transmission and cut-off of light by a pulse plate is indicated by Fig.(a), terminal voltage to be fed to a light-emitting element is indicated by Fig.(b), and detection pulse to be input to a control means is denoted by Fig.(c).例文帳に追加
(a)はパルス板による光の透過、遮断の様子、(b)は発光素子に給電する端子電圧、(c)は制御手段に入力する検出パルスを示している。 - 特許庁
When the ejection plates 26, 27 are pushed by an ejection rod (not shown in Fig.), the rotary core 8 moves by sliding as shown in Fig. 5(B) and rotates as shown in Fig. 5(C).例文帳に追加
突き出し板26,27が図示しない突き出しロッドによって押圧されると、図5(B)に示すように回転コア8がスライド移動し、図5(C)に示すように回転コア8が回転する。 - 特許庁
A sub-carrier is extracted from a received signal (a) in Fig. 3 with a low pass filter a shown in Fig. 3 (b) and is amplified by an amplifier as shown in Fig. 3 (c) and has the waveform shaped by a comparator as shown in Fig. 3 (d) and is inputted to the demodulation circuit.例文帳に追加
図3(a)の受信信号からローパスフィルタで図3(b)で示すようにサブキャリアを抽出し、増幅器で図3(c)で示すように増幅した後、コンパレータで図3(d)で示すように波形整形して復調回路への入力とする。 - 特許庁
In the method, cut-splits are formed in a ring part having no edge part ring as shown in Fig. 2 and Fig. 3 and adhered partially with each other to give an article as shown in Fig. 1, and then its edge part is cut off to give a chain as shown in Fig. 6.例文帳に追加
縁を落とした時点で、鎖になるように、縁にある環の部分を除いた環の部分を、図2、図3と2に示すように切込みを入れ、部分接着による貼り合わせをして、図1の状態にして縁(ふ)、(ち)を落として図6のように鎖にする。 - 特許庁
In the game machine, Fig.(a) indicates a game image of a walking cat, and Fig.(b) indicates a partial image of a body of the cat lying low.例文帳に追加
(a)は猫が歩いている様子の遊技画像を示しており、(b)は猫が伏せたときの体の部分画像を示している。 - 特許庁
A means preventing a reverse flow of air to the outside air introduction duct 16 from the air guide duct 20 is provided (refer to Fig.5 and Fig.6).例文帳に追加
導風ダクト20から外気導入ダクト16への空気の逆流を防止する手段を設ける(図5,図6、参照)。 - 特許庁
The CPU 4 displays a part of the auxiliary image by surrounding it correspondingly to the enlarged area (Fig. 6(a), Fig. 6(b)).例文帳に追加
CPU4は、拡大表示している領域に対応させて補助画像の一部を囲み表示する(図6(a)および図6(b))。 - 特許庁
A claddingd material 402 is applied to an original plate 401 (Fig.4(a)).例文帳に追加
原版401の上にクラッド材402を塗布する(図4(a))。 - 特許庁
A sacrificial film G is formed covering the pattern B2 (Fig.5(e)).例文帳に追加
パターンB2を覆うように犠牲膜Gを形成する(図5(e))。 - 特許庁
EMF modulation data (Fig.2A) is created from the first data.例文帳に追加
第1のデータからEFM変調データ(図2A)が形成される。 - 特許庁
A compound interest calculation mode is started in a financial computer (Fig. (a)).例文帳に追加
金融計算機において、複利計算モードを起動する(図(a))。 - 特許庁
Impurity 1 (group VI or II element) is implanted (Fig.5(c)) into the diamond thin film 12 using an ion implanter and then impurity 2 (group III or V element) is implanted (Fig.5(d)).例文帳に追加
ダイヤモンド薄膜12にイオン注入装置を用い、不純物1(VI族又はII族元素)を打ち込む(図5(c))。 - 特許庁
Then, the values of the variables are additionally inputted (Fig. (d)), and variables FV to be calculated are selected by a line cursor M306 (Fig. (e)).例文帳に追加
そして、追加で変数の値を入力し(図(d))、算出したい変数FVを行カーソルM306にて選択する(図(e))。 - 特許庁
The p-InP cover layer 108 is etched with the SiO2 film 109 as a mask (Fig.3 (b)).例文帳に追加
SiO_2膜109をマスクとして、p-InPカバー層108をエッチングする(図3(b))。 - 特許庁
NATURAL RUBBER PRODUCT USING FIG TREE AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
無花果を用いた天然ゴム生産物及びその生産方法 - 特許庁
Fig. 1 shows the system constitution of the apparatus for predicting daily sales, and Fig. 2 shows a flow chart executed by said system. 例文帳に追加
第1図は、本発明の売上げ予測装置のシステム構成図であり、第2図は該装置により実行される処理のフローである。 - 特許庁
When a probability variation symbol brings about a big win state (see Fig. (a)), the first round operation is started to release a big winning device (see Fig. (b)).例文帳に追加
確変図柄で大当たりが発生すると((a)参照)、1ラウンド目を開始して大入賞装置を開放する((b)参照)。 - 特許庁
When the time is counted down to zero (see Fig. (d)), the second round operation is started to release the big winning device (see Fig. (e)).例文帳に追加
残り1秒までカウントダウンが進行すると((d)参照)、2ラウンド目が開始して大入賞装置を開放する((e)参照)。 - 特許庁
When "Fig.8" and "Fig.9" are set in wiring diagrams, a pin for the locking can be released even by the duplicate key, an exclusive remote control or a portable telephone.例文帳に追加
「図 8」と「図 9」配線図のようにすれば、合鍵でも、専用のリモコンでも、携帯電話でも、ロック用ピンの解除が出来る。 - 特許庁
The same processing is next performed on ch2 as on ch1 (Fig. 6 (b)).例文帳に追加
次に、ch1と同様にch2が処理される(図6(b))。 - 特許庁
The amorphous silicon film 104 is dehydrogenated (Fig. 1(a)).例文帳に追加
非晶質Si膜104は脱水素処理される(図1の(a))。 - 特許庁
A control for lowering the target output level stepwise (Fig. 3(a)) or a control for lowering it continuously (Fig. 3(b)) is performed.例文帳に追加
段階的に目標出力値を低下させていく制御(図3(a))や、無段階に低下させていく制御をおこなう(同図(b))。 - 特許庁
The photoresist 1a after exposure is developed and patterned (Fig. 2 (c)).例文帳に追加
露光後のフォトレジスト1aを現像してパターニングする(図2(c))。 - 特許庁
Subsequently, a multilayer optical film is formed on the stripping film 2 (Fig.(b)).例文帳に追加
次に、剥離膜2の上に多層光学膜を成膜する(図(b))。 - 特許庁
Two etching mask patterns 2 and two double-end supported beam type patterns 3 are formed on a silicon substrate 1 (Fig.1(A), Fig.1(B)).例文帳に追加
シリコン基板1上に2つのエッチングマスクパターン2および2本の両持ち梁型パターン3を形成する(図1(A)、図1(B))。 - 特許庁
Thereafter, the multilayer optical film is cut into a prescribed size (Fig.(c)).例文帳に追加
その後、多層光学膜を所定のサイズに切削する(図(c))。 - 特許庁
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