「orientation deviation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To control deviation of crystal orientation that occurs in manufacture of a semiconductor thin film and a semiconductor element.例文帳に追加

半導体薄膜、半導体素子の製造において、結晶方位のずれの発生を抑制するようにする。 - 特許庁

Since deviation of crystal orientation in the surface of the metal substrate 1 is within 5 degrees, deviation of crystal orientation of the n-type polycrystalline Si thin film 3 and the p-type polycrystalline Si thin film 4 is also extremely small.例文帳に追加

金属基板１の表面における結晶方位のずれが５度以内であるため、ｎ型多結晶Ｓｉ薄膜３及びｐ型多結晶Ｓｉ薄膜４の結晶方位のずれも極めて小さくなる。 - 特許庁

The deviation of orientation index on the plated surface is made even by the cold-rolling to suppress the occurrence of the whisker.例文帳に追加

冷間圧延によりめっき面での配向指数の偏りが平準化され、ウィスカの発生が抑制される。 - 特許庁

Further, the average value of the (100) orientation density showing the occupancy ratio of cube orientation crystal grains is ≥98%, and also, the standard deviation σ thereof is ≤1%.例文帳に追加

さらに立方体方位結晶粒の占有率を示す（１００）方位密度の平均値が９８％以上で、かつ、その標準偏差σが１％以内である。 - 特許庁

Mutual orientation is performed by using coordinates of the observed special marks, and a mechanism is used, for replacing automatically a mutual orientation coefficient value when a longitudinal parallax standard deviation of the determined mutual orientation coefficient is smaller than a longitudinal parallax standard deviation of a model determined in the preceding step, and thereby measurement accuracy can be maintained even if the orientation is not performed manually.例文帳に追加

そして、観測されたこれらの特殊マークの座標を用いて相互標定を行い、求めた相互標定係数の縦視差標準偏差が、１つ前に求めたモデルの縦視差標準偏差より小さい場合、自動的に相互標定係数値が置き換わる仕組みとし、これにより標定をマニュアルで実施しなくとも計測精度を維持する事が出来るようにしている。 - 特許庁

There is provide the retardation film 20 which consists of a biaxially oriented polypropylene-based resin and in which the ratio of the orientation magnification in a large orientation magnification direction with respect to the orientation magnification in a small orientation magnification direction is 1.5 or more and the standard deviation of the optical axis measured at intervals of not more than 1 mm is not more than 0.3 degrees.例文帳に追加

二軸延伸されたポリプロピレン系樹脂からなり、小さい延伸倍率方向の延伸倍率に対する大きい延伸倍率方向の延伸倍率の比が１.５以上であり、１mm以下の間隔で測定した光軸の標準偏差が０.３度以下である位相差フィルム２０が提供される。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing a single crystal of sapphire, in which generation of a crystal defect due to deviation of crystal orientation can be prevented.例文帳に追加

結晶方位のずれに起因する結晶欠陥の発生を防止することができるサファイア単結晶の製造装置を提供する。 - 特許庁

Because this shrinkage is specially large in the direction along the orientation axes of the films 3 and 4, an IC card is prevented from deforming as much as possible if the deviation of the orientation axes of the films 3 and 4 on the both surface and rear face sides is small.例文帳に追加

この収縮はカバーフィルム３，４の配向軸に沿う方向で特に大きいから、表裏両側のカバーフィルム３，４の配向軸のずれが小さければ、ＩＣカード１が変形することを極力防止できる。 - 特許庁

Wave front distortion is manifested at the receive telescope as a deviation from the normal orthogonal orientation of the wave front of the transmitted light beam relative to its line of travel.例文帳に追加

波面の歪みは、送信光ビームの波面の、進行線に対する通常の直交方向からの偏位として受信望遠鏡で表される。 - 特許庁

In the grain-oriented electrical steel sheet with glass film, the proportion of grains having ≤10° deviation angle from the {110} <001> crystal orientation is ≤0.5, in the orientation distribution of the fine grains of the steel sheet in the mixed region of the anneal film and the steel sheet.例文帳に追加

焼鈍皮膜と鋼板の混合領域における鋼板微細粒の方位分布において、｛１１０｝＜００１＞結晶方位からの偏差角度が１０度以内のものである割合が０．５以下であり、グラス皮膜を有する方向性電磁鋼板である。 - 特許庁

A position correction unit 1163 identifies absolute position information showing a momentary position of the mobile robot 1 that is position information received from an absolute position measuring device and momentary estimated position information to calculate an orientation correction value for correcting an orientation deviation.例文帳に追加

位置補正部１１６３は、絶対位置測定装置から受信した位置情報であって時々刻々の移動ロボット１の位置を示す絶対位置情報と、時々刻々の推定位置情報と、を同定して、方向のずれを補正する方向補正値を算出する。 - 特許庁

There is provided a core-sheath conjugate type polyester monofilament in which a standard deviation of the fiber surface orientation (Δn) measured at five arbitrary points in one million meters of the fiber in the longitudinal direction is 2.0 or less and a standard deviation of the degree of crystallinity of the fiber surface is 3.0 or less.例文帳に追加

繊維長手方向１００万メートル中における任意の５点で測定した繊維表面の配向度（Δｎ）の標準偏差が２．０以下、繊維表面の結晶化度の標準偏差が３．０以下である芯鞘複合型ポリエステルモノフィラメント。 - 特許庁

After the rotational speed of a rotor of a motor M is reduced to orientation speed, a control section 17 gives a deviation between a speed designated by a position loop speed command vc and a 2 squared speed v^2 to a speed controller 14.例文帳に追加

モータＭの回転子の回転速度がオリエンテーション速度になった後、制御部１７は、位置ループ速度指令ｖｃにより指令された速度と２乗速度ｖ^2との偏差を速度制御器１４に与える。 - 特許庁

The film is composed of a crystalline polyester and has a difference ΔTcg of 60°C or less between a crystallization peak temperature (Tc) and a glass transition temperature (Tg) in a second run in a differential scanning calorimetry (DSC), an MOR of at least 3 in the surface of the film measured by a molecular orientation meter, and a deviation of an orientation angle within ±2°.例文帳に追加

結晶性ポリエステルからなり、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による２ｎｄＲｕｎにおける、結晶化ピーク温度（Ｔｃ）とガラス転移点温度（Ｔｇ）との差ΔＴｃｇが６０℃以下、かつ、分子配向計にて測定されたフィルム面内におけるＭＯＲが３以上であり、配向角度の偏差が±２°以内であることを特徴とするフィルムとする。 - 特許庁

The orientation flat 4a of a wafer 4, being held with a wafer holding unit which can move in the stage, is magnified with a microscope to obtain an image data, measure an edge location using an image processing means, and to obtain deviation of angle θ_0 for the holding reference location L_1.例文帳に追加

ステージで移動可能なウエハ保持部に保持されたウエハ４のオリフラ４ａを、顕微鏡で拡大して、画像データを取得し、画像処理手段を用いてエッジ位置を測定し、保持基準位置Ｌ_１に対する角度ずれθ_０を求める。 - 特許庁

The attitude controller 102 receives a command so as to adjust the orientation of the spacecraft, maximizes the torque, determines the deviation for a momentum disk 312 on each group among CMG, determines the momentum required from CMG 106, in order to adjust the orientation of the spacecraft, and then by differentiating the momentum, the required total torque is calculated.例文帳に追加

該装置１０２は、宇宙船の方位を調整するために指令を受け取り、トルクを最大にする、上記ＣＭＧのうちの各組についての運動量ディスク３１２のための片寄りを決定し、宇宙船の方位を調整するためにＣＭＧ１０６から要求される運動量を決定し、運動量を微分することにより、必要な総合トルクを計算するように形状づけられる。 - 特許庁

The SiC single crystal wafer used for growing the epitaxial thin film and for producing the device has a diameter of ≥50 mm, and the SiC single crystal wafer is so small in mosaic property that the deviation in the crystal orientation between optional two points in the wafer surface is ≤60 s/cm.例文帳に追加

エピタキシャル薄膜成長とそのデバイス作製に使用される口径５０ｍｍ以上のＳｉＣ単結晶ウエハであって、ウエハ面内の任意の２点間での結晶方位のずれが６０秒／ｃｍ以下であるモザイク性の小さな炭化珪素単結晶ウエハ。 - 特許庁

A relational expression between a radius (r) of a crucible and a horizontal width (a) of a facet plane reflecting a crystal face orientation becoming apparent on the outerperipheral surface of a growing crystal in accordance with crystal growth is introduced, and the crystal is grown by using the seed crystal in which the deviation angle (θ) is corrected.例文帳に追加

るつぼの半径（ｒ）と、結晶成長の進行に伴って成長結晶の外周表面に顕在化する結晶面方位を反映したファセット面の水平方向の幅（ａ）との関係式を導き、ずれ角（θ）を補正した種子結晶を用いて結晶成長させる。 - 特許庁

The SiC single crystal wafer used for growing the epitaxial thin film and for producing the device has a diameter of ≥50 mm, and the SiC single crystal wafer is small in mosaic property and has such a characteristic that the deviation in the crystal orientation between optional two points in the wafer surface is ≤60 s/cm.例文帳に追加

エピタキシャル薄膜成長とそのデバイス作製に使用される口径５０ｍｍ以上のＳｉＣ単結晶ウエハであって、ウエハ面内の任意の２点間での結晶方位のずれが６０秒／ｃｍ以下であるモザイク性の小さな炭化珪素単結晶ウエハ。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical film excellent in planar properties and little in orientation angle deviation, which improves the adhesion between a support and a cast film and suppresses air incorporation in a casting process, and to provide the optical film produced by the method, a polarizing plate using the optical film, and a display.例文帳に追加

流延工程において、支持体と流延膜との密着性を向上させ、エアーの混入を抑制し、平面性に優れた、配向角偏差の少ない光学フィルムの製造方法、該製造方法で製造した光学フィルム、該光学フィルムを用いた偏光板及び表示装置を提供すること。 - 特許庁