「oxidation step」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The step for performing oxidation treatment includes a step 25 for performing wetting treatment before permanganic treatment, and further a step 27 for performing neutralization treatment after the permanganic treatment step.例文帳に追加

酸化処理するステップは過マンガン酸処理の前に膨潤処理するステップ２５を含み、さらに過マンガン酸処理ステップの後に中和処理するステップ２７を含む。 - 特許庁

A pH adjustor is added to water to be treated so that pH of water in the oxidation step 1 or water discharged from the oxidation step 1 is 8 to 10.例文帳に追加

酸化処理工程１の水又は酸化処理工程１からの流出水のｐＨが８〜１０となるように被処理水にｐＨ調整剤を添加する。 - 特許庁

The anodic refining method also includes selecting any of a light oxidation and light reduction step, a non-oxidation and light reduction step, or the stoppage of the oxidation and reduction step, according to the sulfur content in the copper solution after the crude copper solution has been passed into the anode furnace 2.例文帳に追加

また、粗銅液が陽極炉２の中に流入された後、銅液の硫黄分の含有量によって、浅酸化浅還元工程、無酸化浅還元工程、若しくは酸化還元工程の中止のいずれかを選択することを特徴とする。 - 特許庁

To further perform improvement to increase the yield of a single step (amm)oxidation process.例文帳に追加

１段階（アンモ）酸化プロセスの収率を増加させるためにさらに改善すること。 - 特許庁

After the first process step, the oxygen is fed and the acetic acid is formed from the intermediate by a hydrothermal oxidation reaction in a second process step.例文帳に追加

第１工程後，第２工程で酸素を供給して水熱酸化反応により前記中間体から酢酸を生成する。 - 特許庁

The film production rate at the early stage of the CVD step is controlled so as to be smaller than the film production rate of the oxidation step.例文帳に追加

前記ＣＶＤ工程の初期段階の製膜速度は前記酸化工程の製膜速度よりも小さく制御される。 - 特許庁

Treatment pressure in the hydrothermal reaction treatment step and that in the oxidation treatment step are made nearly equal to each other.例文帳に追加

水熱反応処理工程での処理圧力と酸化処理工程での処理圧力とを同程度の圧力に設定する。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device having the gate electrodes containing high melting point metal as material, comprises a step of carrying out initial oxidation of oxidation at a prescribed temperature, for forming an oxide film for covering the side face of the exposed gate electrodes after forming the gate electrodes; and a step of additional oxidation of oxidation at higher temperature than the initial oxidation after the initial oxidation.例文帳に追加

高融点金属を材料に含むゲート電極を有する半導体装置の製造方法であって、ゲート電極を形成した後、露出したゲート電極の側面を覆うための酸化膜を形成するために所定の温度で酸化する初期酸化を行うステップと、初期酸化の後、初期酸化よりも高温で酸化する追加酸化を行うステップとを有するものである。 - 特許庁

The manufacturing step of forming an oxide film layer with the anode oxidation to a porous sintered material formed of a valve-functioning metal material is characterized in that the anode oxidation is conducted by implementing a plurality of times of anode oxidation, in which the anode oxidation is at least conducted once using the anode oxidation liquid having higher electrical conductivity than that of the first trial of anode oxidation.例文帳に追加

弁作用金属からなる多孔質焼結体に対し、陽極酸化によって酸化皮膜層を形成する工程において、陽極酸化を複数回行い、少なくとも１回、初回よりも電気伝導度の高い陽極酸化液によって陽極酸化を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method includes a step of measuring the thickness of the thermal oxidation film formed on the substrate to be determined (d).例文帳に追加

次に、判定用基板上に形成された前記熱酸化膜の膜厚を測定する（ｄ）。 - 特許庁

Only the semiconductor wafers without the missing step in resist removal can be passed to oxidation treatment, for example.例文帳に追加

レジスト除去工程抜けがない半導体ウエハのみを、例えば、酸化処理に回すことができる。 - 特許庁

The method includes a process in which an oxidation combustion step where the wastewater is subjected to Fenton treatment under specific conditions, a neutralization step and a solid-liquid separation step are arranged in series.例文帳に追加

当該廃水を特定の条件下でフェントン処理する酸化燃焼工程、中和工程及び固液分離工程を直列的に配置したプロセスとする。 - 特許庁

If photoresist is applied on the ABS(air bearing surface) (step S14) before the plasma oxidation (step S18) and is removed (step S16), the growth of the protrusions is accelerated.例文帳に追加

また、プラズマ酸化（ステップＳ１８）の前に、ＡＢＳにフォトレジストを塗布し（ステップＳ１４）、それを除去する（ステップＳ１６）ようにすると、凸部の成長が促進される。 - 特許庁

The oxidation step comprising the oxidation of cumene to produce cumene peroxide, the epoxidation step to react the cumene hydroperoxide obtained by the oxidation step with propylene and obtain propylene oxide and cumyl alcohol, the propylene recovery step to recover unreacted propylene from the reaction liquid obtained by the epoxidation step, and the propylene oxide separation step to separate propylene oxide by the distillation of the liquid left after recovering the unreacted propylene and obtained by the propylene recovery step.例文帳に追加

酸化工程：クメンを酸化することによりクメンハイドロパーオキサイドを得る工程 エポキシ化工程：酸化工程で得たクメンハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応させることによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを得る工程 プロピレン回収工程：エポキシ化工程で得た反応液中から未反応プロピレンを回収する工程 プロピレンオキサイド分離工程：プロピレン回収工程で得た未反応プロピレン回収後の液から蒸留によりプロピレンオキサイドを分離する工程 - 特許庁

The step for reacting the hydrolytic enzyme of a carboxylate is carried out before the step for reacting the oxidation-reduction enzyme.例文帳に追加

上記カルボン酸エステル加水分解酵素を作用させる工程は、上記酸化還元酵素を作用させる工程の前に行なわれる。 - 特許庁

To provide an oxidation-resistant phosphor of which the luminance is not degraded by oxidation without changing the conventional baking step and a production method therefor.例文帳に追加

従来のベーキング工程を変更することなく、蛍光体の酸化による輝度低下を抑制することのできる耐酸化性蛍光体及びその製造法を得る。 - 特許庁

The method is provided with a pre-oxidation step ST20 for roasting and oxidizing battery waste; and a drying step S20 for melting the battery waste oxidized in the pre-oxidation step, and separating and recovering the slag and the valuable metal alloy.例文帳に追加

廃電池を焙焼して酸化処理を行う予備酸化工程ＳＴ２０と、この予備酸化工程において酸化処理がされた廃電池を熔融して、スラグと、有価金属の合金と、を分離して回収する乾式工程Ｓ２０と、を備える。 - 特許庁

By conducting the roasting step ST10, organic carbon, such as plastic components, which impairs the stability of the oxidation step ST20, is removed in advance prior to the oxidation step ST20, and the efficiency of slag/alloy separation can be improved.例文帳に追加

焙焼工程ＳＴ１０を設けることにより、酸化工程ＳＴ２０に先駈けてプラスチック成分等、酸化工程ＳＴ２０の安定性を阻害する有機性炭素を予め除去して、スラグと合金との分離効率を向上することができる。 - 特許庁

At the oxidation step, water is injected into the reaction tube 11 containing the iron material 13, the gross flow rate of the generated hydrogen gas is read by using a gas mass flowmeter 28 and the oxidation step is changed over to the reduction step before water is injected excessively.例文帳に追加

酸化工程においては、鉄材１３を含有する反応管１１に水を注入し、ガスマスフローメータ２８により発生する水素ガスの総流量を読み取り、水分が過剰に投入される手前で還元環境に切り替える。 - 特許庁

In the surface oxidation step and the sintering step, a millimeter wave sintering apparatus (or a discharge plasma sintering apparatus) is used as a heating means.例文帳に追加

この際、表面酸化工程と焼結工程において、加熱手段としてミリ波焼結装置（又は放電プラズマ焼結装置）を用いる。 - 特許庁

At a step of anodic oxidation treatment on a solid electrolytic capacitor, the solid electrolytic capacitor is subjected to anodic oxidation treatment with an electrolytic solution containing an organic acid and a nonacqueous solvent, and then is subjected to anodic oxidation treatment with a solution containing phosphorous acid, a nitric acid, an acetic acid, a sulphuric acid, etc.例文帳に追加

固体電解コンデンサの陽極酸化処理工程において、有機酸と非水溶媒とを含む電解液にて陽極酸化した後、リン酸、硝酸、酢酸、硫酸等の水溶液にて陽極酸化する。 - 特許庁

This method comprises a step of adding a neutralizing agent to the waste water having the strong oxidation potential so that the waste water having the strong oxidation potential is neutralized and the concentration of residual chlorine in the waste water having the strong oxidation potential is lowered.例文帳に追加

本発明では、強酸化電位水に中和剤を添加することにより、前記強酸化電位水を中和するとともに、前記強酸化電位水中の残留塩素の濃度を低減させることにした。 - 特許庁

The deposition step and the oxidation step are repeated a plurality of times to form the alumina film of a specific thickness on the object for forming the film.例文帳に追加

前記堆積工程および前記酸化工程を複数回繰り返すことによって、所定の厚さのアルミナ膜が前記成膜対象物に形成される。 - 特許庁

A pilot injection quantity is set at a first quantity (step 1) and exhaust gas temperature (exhaust gas temperature after catalyst) in a flow downstream an oxidation catalyst is measured (step 104).例文帳に追加

パイロット噴射量を第１の量に設定し（ステップ１０２）、酸化触媒の後流の排気温度（触媒後排気温度）を計測する（ステップ１０４）。 - 特許庁

The surface treatment method for copper comprises: a step where a metal nobler than copper is formed on a copper surface; and a step where the copper surface is subjected to oxidation treatment.例文帳に追加

銅表面に銅よりも貴な金属を形成する工程、その後、前記銅表面を酸化処理する工程を有する銅の表面処理方法。 - 特許庁

Optimum processes from an oxidation reaction step to a separation and drying step, and operation conditions are set in the method for producing the aromatic carboxylic acid.例文帳に追加

芳香族カルボン酸の製造方法において、酸化反応工程から分離乾燥工程に至るまでの最適なプロセスおよび運転条件を設定する。 - 特許庁

The method for treating arsenic includes: an oxidation leaching step of carrying out oxidation leaching of mixed slurry of the nonferrous smelting intermediate products; a liquid regulation step of adding an oxidizing agent to the resulting leachate so as to oxidize arsenic to pentavalent arsenic; and a crystallization step of converting the arsenic in the resulting regulated liquid to scorodite crystals.例文帳に追加

非鉄製錬中間産物の混合スラリーを、酸化浸出工程と、当該浸出液に酸化剤を添加し、砒素を５価砒素へ酸化する液調整工程と、当該調整後液中の砒素をスコロダイト結晶へ転換する結晶化工程とを有する。 - 特許庁

A separation method includes: an oxidation treatment step of obtaining an oxidized raw material by applying oxide treatment; a carbon source mixing step of mixing a carbon source; and a heat treatment step of heat-treating in a chlorine atmosphere after the oxidation treatment step and the carbon source mixing step, with respect to the raw materials containing the rare earth elements and the metal element other than the rare earth elements.例文帳に追加

希土類元素と当該希土類元素以外の金属元素とを含む原料に対して、酸化処理を行うことで酸化された原料を得る、酸化処理工程と、炭素源を混合する、炭素源混合工程と、酸化処理工程及び炭素源混合工程の後に塩素雰囲気下で加熱処理する、加熱処理工程とを行う方法とする。 - 特許庁

The method includes a step of simultaneously treating the substrate to be determined at the thermal oxidation treating time of the semiconductor substrate or the semiconductor material, and forming the thermal oxidation film on the substrate to be determined (c).例文帳に追加

次に、判定用基板を半導体基板もしくは半導体材料の熱酸化処理時に同時処理して、判定用基板上に熱酸化膜を形成する（ｃ）。 - 特許庁

At least, a step 20 for preparing a substrate with an insulation layer on a surface, a step 24 for applying ultraviolet rays to the surface of the insulation layer, a step 26 for performing the oxidation treatment of the surface of the insulation layer after applying ultraviolet rays, and a step 29 for providing a conductor layer on the insulation layer after the oxidation treatment, are included.例文帳に追加

少なくとも表面に絶縁層を有する基板を準備するステップ２０と、絶縁層表面に紫外光を照射するステップ２４と、紫外光照射後の絶縁層表面を酸化処理するステップ２６と、酸化処理後の絶縁層上に導体層を設けるステップ２９とを含む。 - 特許庁

Further, the method may include a step for forming a catalitic layer to accelerate an oxidation of the insulating layer on the insulating layer.例文帳に追加

更に、絶縁層上に、絶縁層の酸化を促進する触媒層を形成する工程を含んでも良い。 - 特許庁

To highly efficiently and economically produce an acetal in a single step by the oxidation/cleavage of a vicinal diol using oxygen.例文帳に追加

ビシナルジオールを酸素により酸化的に開裂し、１段階により高効率且つ経済的にアセタールを得る。 - 特許庁

In the heating-and-drying step, heating is performed to the oxidation film at a temperature of 150 to 300°C for 0.5 to 3 hours.例文帳に追加

加熱乾燥工程においては、前記酸化皮膜に対し、１５０〜３００℃の温度で０．５〜３時間加熱する。 - 特許庁

During the first step in TCE oxidation, the rate constant k does not show strong correlation with its concentration.例文帳に追加

TCE酸化反応の初期のステップにおいては，反応速度定数kはTCEの濃度と強い相互関係を示さない。 - 英語論文検索例文集

The method comprises an oxidation step: cumene is oxidized to obtain cumene hydroperoxide; an epoxidation step: propylene oxide and cumyl alcohol are obtained from the cumene hydroperoxide and propylene; a hydrocracking step: cumene is obtained by hydrocracking the cumyl alcohol obtained in the epoxidation step and cumene is recycled to the oxidation step as a raw material; and an ethylbenzene separation step: ethylbenzene contained in a reaction liquid containing the cumene obtained in the hydrocracking step is separated and recovered.例文帳に追加

酸化工程：クメンを酸化してクメンハイドロパーオキサイドを得る エポキシ化工程：クメンハイドロパーオキサイドとプロピレンからプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを得る 水素化分解工程：エポキシ工程で生成したクミルアルコールを水素化分解することによりクメンを得、該クメンを酸化工程の原料として酸化工程へリサイクルする工程 エチルベンゼン分離工程：水素化分解工程で得たクメンを含有する反応液中に含まれるエチルベンゼンを分離して回収する工程 - 特許庁

The method includes: a cleaning step of cleaning the cermet substrate 11; and a subsequent oxidation-resistant-film-forming step of forming an oxidation-resistant film 12 formed from a complex oxide containing titanium, on the surface of the cermet substrate 11.例文帳に追加

本方法は、サーメット基材１１を洗浄する洗浄工程と、その後、前記サーメット基材１１の表面に、チタンを含む複合酸化物によって構成される耐酸化膜１２を形成する耐酸化膜形成工程とを含む。 - 特許庁

After a silicon oxide film or a silicon oxide nitride film is formed on the surface of a silicon substrate by thermal oxidation or thermal oxidation and nitriding (step S1), plasma nitriding is performed on the surface of the silicon oxide film or the silicon oxide nitride film (step S2).例文帳に追加

シリコン基板表面に熱酸化または熱酸窒化によってシリコン酸化膜またはシリコン酸窒化膜を形成した後（ステップＳ１）、そのシリコン酸化膜表面またはシリコン酸窒化膜表面にプラズマ窒化処理を施す（ステップＳ２）。 - 特許庁

The catalyst can be suitably manufactured by the step of reducing a compound containing palladium in the oxidation state with a reducing agent and the step of reducing a compound containing aluminum in the oxidation state with the reducing agent.例文帳に追加

この触媒は、酸化状態のパラジウムを含む化合物を還元剤で還元する工程と、酸化状態のアルミニウムを含む化合物を還元剤で還元する工程とを有する方法により、好適に製造することができる。 - 特許庁

This thinning is performed by repeating a unit thinning step which includes an oxidation step S31 of oxidizing the surface of the SOI layer by the predetermined thickness not larger than that of one lattice and a removal step S32 of selectively removing a silicon oxide formed by oxidation.例文帳に追加

このような薄化は、ＳＯＩ層の表面を１格子分又はそれ未満の所定厚さだけ酸化させる酸化工程Ｓ３１と、酸化により形成された酸化シリコンを選択的に除去する除去工程Ｓ３２とを含む単位薄化工程を繰り返すことにより行なう。 - 特許庁

In the 2nd step, an under coating layer of the anode oxidation coatings is formed by anode oxidizing the surface of the conductive substrate.例文帳に追加

第２工程で、導電性基体の表面に陽極酸化処理により陽極酸化皮膜の下引き層を形成する。 - 特許庁

By the nitrogen 102, resistance to oxidation is applied to the interface extending into a period of the following treatment process step.例文帳に追加

窒素１０２により、界面に後の処理工程段階の期間中にわたって酸化に対する抵抗力が得られる。 - 特許庁

METHOD FOR CONVERSION OF ORGANIC MATERIAL, PARTICULARLY SACCHARIDE MATERIAL, COMPRISING ENZYMATIC OXIDATION STEP IN PRESENCE OF RUTHENIUM OR PALLADIUM例文帳に追加

ルテニウム若しくはパラジウムの存在下での酵素的酸化工程を含む、有機物質、特にサッカリド物質の変換方法 - 特許庁

The method for modifying a polyester involves a step for reacting an oxidation-reduction enzyme with the fiber.例文帳に追加

ポリエステルを含む繊維を改質する方法であって、この繊維に酸化還元酵素を作用させる工程を包含する。 - 特許庁

Then, a nickel film E3 is deposited in a third chamber ch3 (step s06), followed by deposition of an oxidation preventing conductor film E4 in a second chamber ch2 (step s07).例文帳に追加

続いて、第３チャンバｃｈ３内でニッケル膜Ｅ３を堆積し（工程ｓ０６）、第２チャンバｃｈ２内で酸化防止導体膜Ｅ４を堆積する（工程ｓ０７）。 - 特許庁

To disclose a single tunnel gate oxidation method for fabricating a NAND memory string where a gate oxide (24) of select transistor and floating gate memory transistor is fabricated in a single oxidation step.例文帳に追加

選択トランジスタと浮遊ゲート・メモリ・トランジスタのゲート酸化物（２４）を単一の酸化工程で製造する、ＮＡＮＤメモリ・ストリングを製造するための単一トンネル・ゲート酸化方法を開示する。 - 特許庁