「oxidation-reduction process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This cleaning method includes a process 10 for oxidizing the semiconductor substrate, a process 11 for performing the oxidation-reduction of the oxidized semiconductor substrate, a process 12 for oxidizing the semiconductor substrate which is subjected to oxidation-reduction, a process 13 for reducing the oxidized semiconductor substrate, a process 14 for rinsing the reduced semiconductor substrate, and a process 15 for oxidizing the rinsed semiconductor substrate again.例文帳に追加

半導体基板を酸化する工程１０と、酸化した半導体基板を酸化還元する工程１１と、酸化還元した半導体基板を酸化する工程１２と、酸化した半導体基板を還元する工程１３と、還元した半導体基板をリンスする工程１４と、リンスした半導体基板を再度酸化する工程１５とを含む。 - 特許庁

The amount of the -OH groups or the like existing on the surface, which reduces the oxidation reduction resistance can be reduced in the reaction process or the like, and the oxidation reduction resistance of the manufactured separator for the lithium battery can be enhanced.例文帳に追加

つまり、反応工程等によって、耐酸化還元性を低下させている表面に存在する−ＯＨ基等の存在量を減少でき、製造されるリチウム電池用セパレータの耐酸化還元性を向上できる。 - 特許庁

To surely prevent disperse of radioactive Cs outside a system and obtain a large weight reduction and volume reduction without requiring any special equipment and special oxidation decomposition process.例文帳に追加

専用設備や特別な酸化分解処理は必要とせず、放射性Ｃｓの系外への飛散を確実に防止でき、かつ大きな減重・減容効果を得ることができる。 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) film deposition process where a metal film can be deposited by CVD according to oxidation-reduction reaction with sufficient reducibility without passing through a complicated process.例文帳に追加

複雑なプロセスを経ることなく十分な還元性をもって酸化還元反応によるＣＶＤにより金属膜を成膜することができるＣＶＤ成膜方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer printed-wiring board includes a roughening process for roughening a surface 4a by bringing a chemical roughening liquid into contact with the surface 4a of the wiring circuit 4, an oxidation process for oxidizing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the roughening process, and a reduction process for reducing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the oxidation process.例文帳に追加

実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法は、配線回路４の表面４ａに化学粗化液を接触させて表面４ａを粗化する粗化工程と、粗化工程の後に配線回路４の表面４ａを酸化する酸化工程と、酸化工程の後に配線回路４の表面４ａを還元する還元工程とを含む。 - 特許庁

To provide copper fine particles having excellent oxidation resistance by a wet reduction process, to provide a method for producing the copper fine particles, and to provide a dispersion comprising the copper fine particles.例文帳に追加

湿式還元法によって、耐酸化性に優れた銅微粒子とその製造方法、及びその銅微粒子を含む分散液を提供する。 - 特許庁

To provide an oxidation-reduction process capable of transferring a hydrogen atom from a hydrogen donor to a hydrogen acceptor in high efficiency under mild conditions.例文帳に追加

温和な条件下で効率よく、水素供与体から水素受容体に水素原子を移動させることができる酸化還元方法を提供する。 - 特許庁

By performing the process such as cleaning, oxidation, nitriding, and reduction in film thickness without exposure to the air, the insulating film having high cleanliness can be formed.例文帳に追加

本発明により、大気への暴露を避けて、洗浄、酸化、窒化、薄膜化などの処理を行うことで、洗浄度の高い絶縁膜の形成が可能となる。 - 特許庁

By the organic coating 46, oxidation of the metal coating 45 is prevented in an assembling process of this electron gun 15, and a process of sealing the electron gun 15 to a cathode-ray tube, so that reduction force of the metal coating 45 is maintained.例文帳に追加

有機物被膜46により、電子銃15の組立工程や電子銃15を陰極線管に封着する工程で金属被膜45が酸化するのを防止し、金属被膜45の還元力を維持させる。 - 特許庁

To provide a process for producing a coated inorganic pigment having a coating protecting a redox-sensitive inorganic pigment against an oxidation or reduction process at 500-700°C.例文帳に追加

５００〜７００℃での酸化又は還元プロセスに対しレドックス感受性〔ｒｅｄｏｘ−ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ〕無機顔料を保護する被覆を有する被覆無機顔料の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This chemical decontaminating method comprises an oxidation dissolving process wherein an oxide film is oxidation dissolved by the oxidizing force of an ozone gas or ozone aqueous solution obtained from an ozone generator generating high-concentration ozone by electrolyzing pure water using catalytic metals as electrodes, a reduction dissolving process using oxalic acid, a dissolving process for a reducing agent, and a decomposing process for the metals eluted.例文帳に追加

電極に触媒金属を用いて純水を電気分解することにより高濃度オゾンを発生させるオゾン発生器から得られるオゾンガスまたはオゾン水溶液の酸化力により酸化皮膜を酸化溶解する酸化溶解工程と、シュウ酸による還元溶解工程と、還元剤の分解工程、及び溶出金属の分解工程とで構成する。 - 特許庁

Air is supplied to the upstream side of the DPF 16 from the second supply passage 28 and the circumference of the DPF 16 is maintained as oxidation atmosphere during a reduction process.例文帳に追加

また、還元処理中には、第２供給通路２８からＤＰＦ１６の上流側に空気を供給し、ＤＰＦ１６の周囲を酸化雰囲気に保持する。 - 特許庁

As the molecule in charge of oxidation-reduction is oxidized for producing a microwire-like molecular assembly by an electrolytic process, a moiety in charge of electric conduction is not oxidized.例文帳に追加

そして，電解法にて極小ワイヤー状の分子集合体を製造する際に，この酸化還元を担う分子が酸化されるので，電気伝導を担う部分が酸化されない。 - 特許庁

The manufacturing method of a bulky animal hair spun yarn is the manufacturing method of a bulky animal hair spun yarn which comprises an oxidation treatment process, a reduction treatment process, and a bulky animal hair spun yarn manufacturing process.例文帳に追加

本発明に係る嵩高獣毛紡績糸の製造方法は、嵩高獣毛紡績糸を製造する嵩高獣毛紡績糸の製造方法であって、酸化処理工程、還元処理工程および嵩高獣毛紡績糸作製工程を備える。 - 特許庁

An progress situation in the reduction process is grasped accurately in real time, and a quick and simple measuring technique is provided, since the oxidation electrode and the reduction electrode are connected to the constant potential/constant current power source to measure directly a conversion rate of the uranium oxide reduction reaction in the high-temperature molten salt.例文帳に追加

酸化電極と還元電極を定電位/定電流電源に連結して高温溶融塩内で酸化ウラニウム還元反応の転換度を直接測定できるため、リアルタイムで還元工程の進行状況を正確に把握でき、迅速で簡便な測定技術を提供できる。 - 特許庁

The cooker reduces and activates the food to be cooked by the heat during a cooking process with an electronic switching reaction of a member which is disposed at the outside of the cooker made of metal and has the oxidation-reduction reaction.例文帳に追加

調理課程の熱で、調理品を金属製調理器具外側にある、酸化還元反応を有する部材の電子交換作用で、調理品を還元し活性化した調理器具。 - 特許庁

In a fourth process, the OH radical takes the hydrogen atom from a water molecule to cause oxidation, and nascent hydrogen is produced to thereby produce nitric acid by reduction.例文帳に追加

そして最終的には、第４プロセスにおいて、まず、ＯＨラジカルが水分子から水素原子を奪って酸化して、発生期の水素が生成され、もって還元により硝酸が生成される。 - 特許庁

To provide composite metal colloid which is controllable in metal species constituting core parts and shell parts regardless oxidation reduction potential and has a reverse structure which is heretofore difficult with the conventional process for production.例文帳に追加

コア部とシェル部を構成する金属種を酸化還元電位に無関係に制御でき、従来の製造方法では困難であった逆転構造をなす複合金属コロイドを製造する。 - 特許庁

This new organic paramagnetic ionic liquid compound having a specific chemical structure having the nitrosyl group can be utilized as a supporting electrolyte, since on dissolving the same with an organic solvent without being separately added with the supporting electrolyte and measuring a cyclic voltametory, the intrinsic oxidation and reduction wave of the nitrosyl group is measured and also its oxidation and reduction process is reversible.例文帳に追加

ニトロキシル基を持つ特定の化学構造を有する、新規な有機常磁性イオン液体化合物を、支持電解質を別途加えていない有機溶媒に溶解させ、サイクリックボルタンメトリーを測定すると、ニトロキシル基に固有の酸化還元波が測定され、かつ酸化還元過程が可逆的である。 - 特許庁

In its manufacturing method, porcelain containing the oxides of at least an element selected out of Sr, Ba, and Ca and Ti obtained through a reduction baking process is made to undergo a re-oxidation process so as to develop compressive stress on its surface.例文帳に追加

その製造方法は、還元焼成処理によって得られたＳｒ、Ｂａ及びＣａのうちの少なくとも１種とＴｉからなる酸化物を含む磁器を再酸化処理することによって表面に圧縮応力を生ぜせしめる。 - 特許庁

An oxidizing agent having a sufficiently higher oxidation reduction potential as compared to the metal to be treated is used and the reaction with the oxygen atoms released from this oxidizing agent is utilized in the process of reaction.例文帳に追加

このために、被処理金属に比較して十分に高い酸化還元電位を有する酸化剤を用い、反応の過程でこの酸化剤から放出される酸素原子との反応を利用する。 - 特許庁

In a film formation method for forming a silicon oxide film on the processing object W whose metal surface has been exposed within the processing container 22 for vacuum treatment, an Si-contained gas supply process for supplying Si-contained gas to the above processing container 22, and an oxidation-reduction supply process for simultaneously supplying oxide gas and oxidation-reduction gas to the above processing container 22, are alternately executed intermittently.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器２２内で金属の表面が露出している被処理体Ｗにシリコン酸化膜を形成する成膜方法において、前記処理容器２２内へＳｉ含有ガスを供給するＳｉ含有ガス供給工程と、前記処理容器２２内へ酸化性ガスと還元性ガスとを同時に供給する酸化還元ガス供給工程とを、間欠的に交互に繰り返し行うようにする。 - 特許庁

As the nickel smelting process using the high-temperature high-pressure acid leaching process in which nickel is leached out by a sulfuric-acid solution, a nickel smelting process in which leaching is performed by adding either or both of sulfur and a carbon compound to slurry to be subjected to leaching to control the oxidation/reduction potential (vs Ag/AgCl) of a leachate to 400 to 600 mV is used.例文帳に追加

本発明の硫酸溶液によりニッケルを浸出する高温加圧酸浸出法を用いたニッケル製錬方法は、被浸出スラリーに硫黄および炭素化合物のうちの１つ以上を添加して、浸出液の酸化還元電位（vs Ag/AgCl）を４００〜６００ｍＶに制御して浸出を行うニッケル製錬方法を用いる。 - 特許庁

The oxidation-reduction process is carried out by reacting (A) a hydrogen donor with (B) a hydrogen acceptor in the presence of an iridium compound to transfer a hydrogen atom from the hydrogen donor (A) to the hydrogen acceptor (B).例文帳に追加

酸化還元方法としては、イリジウム化合物の存在下、（Ａ）水素供与体と、（Ｂ）水素受容体とを反応させて、水素供与体（Ａ）から水素受容体（Ｂ）に水素原子を移動させることを特徴とする。 - 特許庁

The production method for hydrogen and oxygen is characterized by consisting of the process which produces hydrogen by irradiating a solution containing the semiconductor photocatalyst and an iodine compound capable of changing from a reduction state to an oxidation state and the process which produces oxygen by irradiating a solution containing the semiconductor photocatalyst and an iodine compound capable of changing from the oxidation state to the reduction state.例文帳に追加

）半導体光触媒及び還元状態から酸化状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って水素を製造する工程、及び半導体光触媒及び酸化状態から還元状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って酸素を製造する工程からなることを特徴とする水素及び酸素の製造方法。 - 特許庁

In a washing process step after a polishing process step of the aluminum substrates subjected to Ni-P plating, the aluminum substrates are treated for a required time by function water of plus or minus oxidation reduction potential, by which the surfaces of the substrates are reformed and the corrosion resistance is improved.例文帳に追加

Ｎｉ−Ｐメッキを施したアルミニウム基板の研摩工程を経た後の洗浄工程において、酸化還元電位がプラス又はマイナスの機能水により所要時間処理することにより、前記基板の表面を改質し、耐食性能を向上させるようにした。 - 特許庁

To provide a liquid culture medium including an indicator that can clearly recognize the proliferation of the microorganism from the initial step without suppression of proliferation of the microorganism, even when an oxidation-reduction colorant is used in no need of special instrument and the preparation process for the liquid culture medium.例文帳に追加

特殊な機器を必要とせず、酸化還元色素を用いても、菌の増殖を抑制することなく、初期段階から明確に微生物の増殖が認識できるインジケ−タ−付きの液体培地及びその製造方法を市場に提供する。 - 特許庁

To suppress an increase in exhaust emission when performing a failure detection process, in a system of detecting a failure of an exhaust emission control device including a supply device of reducing agent, selective reduction type catalyst, and oxidation catalyst.例文帳に追加

本発明は、還元剤の供給装置と選択還元型触媒と酸化触媒とを備えた排気浄化装置の異常を検出するシステムにおいて、異常検出処理を実施する際の排気エミッションの増加を抑制することを課題とする。 - 特許庁

Then, the purified sewage is again returned to the electrolytic decomposition process to repeat separation and the oxidation and reduction reaction to repeat the purification of sludge.例文帳に追加

さらに反応・分離工程で、重い汚泥成分を自重沈下させ、軽い汚泥成分を上昇する気泡に付着させて浮上分離させ、同時に残された汚泥成分を滞留した酸素及び水素の微細気泡で酸化及び還元反応で分解浄化する。 - 特許庁

When the measurement drops below preset a lower control limit, the concentration of the dissolved oxygen is increased through an oxidation process; when the measurement rises above an upper control limit, the concentration of the dissolved oxygen is reduced through a reduction process.例文帳に追加

液体金属１中の溶解酸素濃度を、溶解酸素濃度測定センサ１３の測定値と温度センサ１５の測定値から演算し、その値が予め設定した管理下限以下になった時、酸化処理により溶解酸素濃度を増加させ、そして管理上限以上になった時、還元処理により溶解酸素濃度を減少させる。 - 特許庁

When the concentration of the dissolved oxygen drops below a preset lower control limit, the concentration of the dissolved oxygen is increased through an oxidation process; when the concentration rises above a preset upper control limit, the concentration of the dissolved oxygen is reduced through a reduction process, whereby the concentration of the oxygen dissolved in the liquid metal is controlled.例文帳に追加

そして、この溶解酸素濃度が予め設定された管理下限以下になった時、酸化処理により溶解酸素濃度を増加させ、予め設定された管理上限以上になった時、還元処理により溶解酸素濃度を減少させることにより液体金属中の溶解酸素濃度を制御する。 - 特許庁

The method for recovering metal from a solution including the metal ions by electrolysis comprises applying minimum external voltage between both electrodes in an electrolysis process for generating an oxidation reaction by supplying a material which causes the oxidation reaction to an anode, and generating electrodeposition of metal based on the reduction of metal ions on a cathode.例文帳に追加

金属イオンを含む溶液から金属を電気分解回収するに際して、アノードに酸化反応を生ずる物質を供給して酸化反応を生じさせ、カソードで該金属イオンの還元に基づき金属の電析を生じさせる電気分解プロセスに対して両極間に最小限の外部電圧を印加することで、本発明の目的が達成される。 - 特許庁

To provide a low cost denitrating process by using reaction heat by oxidation reaction of CO in exhaust gas after desulfurizing and denitrating as a means for raising the temperature of the exhaust gas in the method for denitrating by ammonium catalyst reduction (SCR) in cleaning the exhaust gas of a sintering furnace.例文帳に追加

焼結炉排ガス浄化におけるアンモニア触媒還元（SCR）法による脱硝方法で、排ガスを昇温させるための手段として、脱硫・脱硝後の排ガス中ＣＯの酸化反応による反応熱を利用することで、低コストな脱硝プロセスを提供する。 - 特許庁

In the hydrogen generation material generating hydrogen by contact with water and generating water by contact with hydrogen, a hydrogen storage metal storing-releasing hydrogen by oxidation-reduction is used as a matrix, and at least one of substances selected from metals and metal oxides is added to the surface of the hydrogen storage metal by an ALD (Atomic Layer Deposition) process or an LPD (Liquid Phase Deposition) process.例文帳に追加

水の接触により水素を発生し、水素の接触により水を発生する水素発生材において、酸化還元によって水素を吸蔵・放出できる水素吸蔵金属を母材とし、前記水素吸蔵金属の表面に、金属又は金属酸化物の少なくとも一方の物質がＡＬＤ法又はＬＰＤ法を用いて添加されている。 - 特許庁

This method/system is provided with a reduction-dissolving process S2 for bringing a surface of a radioactive chemical having a radioactive oxide skin on its surface into contact with a reducing decontaminant solution dissolved with a mono-carboxylic acid and a dicarboxylic acid, and an oxidation-dissolving process S6 for bringing the surface of the radioactive chemical into contact with an oxidizing decontaminant solution dissolved with an oxidant.例文帳に追加

表面に放射性の酸化皮膜を有する放射化部品の表面をモノカルボン酸とジカルボン酸が溶解した還元性の除染液に接触させる還元溶解工程Ｓ２と、前記放射化部品の表面を酸化剤が溶解した酸化性の除染液に接触させる酸化溶解工程Ｓ６とを備えている構成とする。 - 特許庁

In the oxidation method for oxidating the surface of a treating body W set to a specific temperature in a process envelop 8, an oxidizing gas composed of oxygen and/or ozone and a reduction gas composed of hydrogen and/or heavy hydrogen are supplied under the vacuum atmosphere (excluding a combination of oxygen and hydrogen), and the oxidation is made by a hydroxyl group active species and an oxygen active species generated.例文帳に追加

処理容器８内にて所定の温度になされた被処理体Ｗの表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて酸素及び／又はオゾンよりなる酸化性ガスと水素及び／又は重水素よりなる還元性ガスとを供給し（酸素と水素のみの組み合わせを除く）、発生した水酸基活性種と酸素活性種とにより前記酸化を行なう。 - 特許庁

A disulfide-bond oxidation-reduction enzyme and/or an oxidation- reduction agent such as thioredoxin or a mercaptan capable of forming SH free radical is added to a polypeptide containing an unright disulfide bond or a polypeptide free from disulfide bond and reacted in an alkaline solution while dialyzing with a solution containing an organic solvent and a chaotropic assistant to obtain a polypeptide having correctly linked cysteine bond which cannot be obtained by conventional process.例文帳に追加

不正なジスルフィド結合を有するポリペプチド、またはジスルフィド結合を形成していないポリペプチドに、チオレドキシンなどのジスルフィド結合酸化還元酵素および／または酸化還元剤、あるいは-SHフリーラジカルを生成するメルカプタンを添加し、有機溶媒およびカオトロピック助剤を含有する溶液に対して透析を行ないながらアルカリ条件下の溶液中で反応させることにより、公知の方法では得られなかった、正確に連結したシステイン結合を有するポリペプチドを取得する。 - 特許庁

To provide an in-line annealing furnace for continuous hot-dip galvanizing which can easily and securely control oxidation-reduction of a steel sheet and can perform hot-dip galvanizing on the high tensile steel sheet without generating any non-plated part, through an in-line annealing process employing indirect heating.例文帳に追加

間接加熱によるインライン焼鈍方式を採用する場合において、鋼板の酸化−還元の制御を確実かつ容易に行い得るようにし、高張力鋼板に溶融亜鉛めっきを不めっき部の発生することなく行い得る連続溶融亜鉛めっき用インライン焼鈍炉を提案する。 - 特許庁

This electrolytic cleaning method comprises a potential applying process for applying a potential more positive than the oxidation-reduction potential of a metallic element intended to be removed to a silicon carbide sintered body when it is dipped in a cleaning solution.例文帳に追加

炭化ケイ素焼結体を洗浄液に浸漬させた状態で、該炭化ケイ素焼結体に除去を目的とする金属元素の酸化還元電位よりも正の電位を印加する電位印加工程を含むことを特徴とする炭化ケイ素焼結体の電解洗浄方法である。 - 特許庁

Since stable Dy_2O_3 is interposed as mediate oxide in the firing process for the molded bodies 100 between the molded bodies 100 mutually contacted in the vessel 10 for sintering, the oxidation of the molded bodies 100 is evaded, and the reduction in the magnetic properties of the obtained sintered compact is suppressed.例文帳に追加

焼結用容器１０内において互いに接触する成形体１００どうしの間に、成形体１００の焼成過程で安定なＤｙ_2Ｏ_3が介在酸化物として介在することで、成形体１００の酸化を避け、得られる焼結体の磁気特性の低下を抑える。 - 特許庁

As to this electrochemical process, in the electrochemical recovery of metals from a solution containing metallic ions, a substance causing oxidation reaction is fed to the anode, and simultaneously, based on the reduction of the metallic ions, the electrodeposition of metals is generated at the cathode.例文帳に追加

金属イオンを含む溶液から金属を電気化学的に回収するに際して、陽極に酸化反応を生ずる物質を供給して酸化反応を生じさせ、同時に陰極で該金属イオンの還元に基づき金属の電析を生じさせる電気化学プロセスにより、本発明の目的が達成される。 - 特許庁

The system determines whether the occurrence factor of the failure is the selective reduction type catalyst or the oxidation catalyst, or the supply device by executing an amount reducing process for reducing the supply amount of the reducing agent when the failure occurs in the exhaust emission control device and comparing NOx purification rates before and after the execution of the amount reducing process.例文帳に追加

本発明は、上記した課題を解決するために、排気浄化装置に異常が発生したときに還元剤の供給量を減量させる減量処理を実行し、該減量処理の実行前後におけるＮＯ_Ｘ浄化率を比較することにより、異常の発生要因が選択還元型触媒にあるか、酸化触媒にあるか、若しくは供給装置にあるかを判別する。 - 特許庁

A method of producing SRO comprises: a process of allowing a first silicon source gas containing no oxygen to adsorb to a substrate and then of forming a SiO_2 film by oxidation reaction between a reaction gas containing oxygen and the first silicon source gas; and a process of forming a Si film by reduction reaction between a second silicon source gas containing no oxygen and a reaction gas corresponding to it.例文帳に追加

Ｏが含まれていない第１シリコンソースガスを基板に吸着させた後、Ｏが含まれた反応ガスと第１シリコンソースガスとの酸化反応によりＳｉＯ_２膜を形成する工程と、Ｏ成分を含んでいない第２シリコンソースガスとこれに対応する反応ガスとの還元反応によりＳｉ膜を形成する工程と、を含むことを特徴とするＳＲＯの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for controlling the pH of an aqueous solution capable of simply and precisely controlling the pH and oxidation and reduction potential(ORP) of washing water in order to obtain higher washing effect in washing water of wet washing in a process of manufacturing for a semiconductor substrate, a liquid crystal substrate, a magnetic substrate or a superconductive substrate.例文帳に追加

半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、洗浄水のｐＨと酸化還元電位（ＯＲＰ）をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のｐＨ制御の方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To enable to thin an insulation film (a film thickness converted to an oxide film) between a floating gate and a control gate with charge holding characteristics and dielectric strength maintained, and to prevent reduction in capacitance due to a bird's beak entering the floating gate and the control gate in a required oxidation process after the control gate is processed.例文帳に追加

電荷保持特性及び絶縁耐圧を維持したまま浮遊ゲートと制御ゲート間の絶縁膜（酸化膜換算膜厚）を薄膜化でき、制御ゲート加工後に必要な酸化工程において、浮遊ゲート及び制御ゲートにバーズビークが侵入して容量が低下するのを防止できる不揮発性半導体記憶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁