「process resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a highly reliable inverter device which can exactly process an analog input signal while effectively utilizing a resolution of an A/D converter when using an analog setting input terminal which commonly uses an analog voltage input terminal and an analog current input terminal.例文帳に追加

アナログ電圧入力端子およびアナログ電流入力端子を共用したアナログ設定入力端子を用いた場合に、Ａ／Ｄ変換器の分解能を有効活用しながらアナログ入力信号を正確に処理できるようにした信頼性の高いインバータ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material, in particular a chemically amplified positive resist material, which surpasses a conventional positive resist material, has high sensitivity, high resolution, exposure margin and process adaptability, ensures a good pattern shape after exposure and particularly small line edge roughness, and exhibits superior etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、特にラインエッジラフネスが小さく、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having good resolution and also having very good dry peelability in a dry peeling process by a means such as a peeling tape without using a peeling liquid when a resist material used in copper planting or bump formation on a substrate such as a wafer is peeled.例文帳に追加

ウエハ上などの基材上に銅めっきやバンプ形成に用いられるレジスト材料を剥離する際に、剥離用液体を用いないで、剥離テープなどの方法によるドライ剥離法において、極めてドライ剥離性が良好であり、かつ解像度が良い感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

A low pass filter 15 removes high frequency components from the waveform with the frequency and amplitude obtained by the sectional process circuit for super fine resolution 14, and a data extracting circuit 16 extracts data contained in a region where each value of the amplitude exceeds a threshold being set by a threshold setting circuit 17.例文帳に追加

区分超解像処理回路１４で得られた周波数と振幅の波形に対し、低域通過フィルタ１５で高周波成分を除去し、データ切り出し回路１６で各振幅値が閾値設定回路１７で設定した閾値を越える領域についてデータを切り出す。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition giving a high resolution with a suppressed LER deterioration caused by film-thinning at the time of forming a chemically amplified resist film with a film thickness of 10-100 nm in lithography, and also to provide a resist patterning process using the chemically amplified positive resist composition.例文帳に追加

本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular, a chemically amplified negative resist material that can exhibit higher resolution than conventional hydroxy styrene or novolac negative resist materials, that provides excellent pattern profiles after being exposed and that exhibits excellent etching resistance; and a patterning process that uses the resist material.例文帳に追加

従来のヒドロキシスチレン系、ノボラック系のネガ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition which ensures satisfactory surface curability and curing depth during exposure and can form a colored pattern excellent in resolution even when a thick colored pattern is formed by a photography process, and the cured material of the composition.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により厚膜の着色パターンを形成する場合でも、露光の際に充分な表面硬化性と硬化深度が得られ、解像性に優れた着色パターンを形成できるアルカリ現像型の着色感光性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate material which enables recording of an image without necessitating image exposure through the intermediary of a complicated film and which has plate wear resistance and excels in sensitivity and resolution, and a manufacturing method thereof, and to provide an image forming method wherein the image is printed after recorded, without conducting a wet development process.例文帳に追加

複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度及び解像度に優れた平版印刷版材料及びその製造方法の提供、又、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a toner and a liquid developer for electrostatic latent image development having a good dispersed state, giving an image with high image density, stably high resolution and good transferability, excellent also in texture and washing resistance, and suitable for textile printing, and an image forming method and apparatus and a process cartridge using those.例文帳に追加

良好に分散され、画像濃度が高く、安定して高解像度で転写性の良好な画像が得られ、特に風合、耐洗濯性にも優れ、捺染用に適した静電潜像現像用トナー、液体現像剤、及びこれらを用いる画像形成方法、装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

Intermediate code image data which an intermediate code image data generating part 23 generates based on a drawing instruction include black information for the process of enhancing resolution and color designation on/off information for setting whether RGB color information in the intermediate code image data is valid or not.例文帳に追加

中間コード画像データ生成部２３が描画命令から生成する中間コード画像データには、高解像度化処理のための黒色の情報および中間コード画像データ中のＲＧＢの色情報の有効／無効を設定した色指定有効／無効情報を含んでいる。 - 特許庁

To provide a high-resolution positive type chemically amplified resist material which contains a matrix resin obtained by a simple production method, enables fine resist pattern formation when applied to a non-photolithography process in which exposure is performed under vacuum, and suppresses dropping of a protective group in exposure.例文帳に追加

マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。 - 特許庁

Ultimately, the dispute was settled through bilateral negotiations outside the WTO process, but the fact that the matter was referred to WTO dispute settlement procedures and that negotiations took place before the international community was integral to achieving a resolution in conformity with international norms and to preventing a trade war.例文帳に追加

本件は最終的にはWTOにおける協議とは別に行われた二国間協議によって決着が図られたが、紛争がWTOに付託され、国際社会の監視の下で協議されたことは、貿易戦争を回避しつつ国際ルール整合的な決着を図る上で大きな効果があったと言えよう。 - 経済産業省

(RS)-α-Methylbenzylamine containing bis(α- methylbenzyl)amine prepared as a by-product in the racemization is used at least as a part of raw material of optical resolution and is fed as a raw material together with new (RS)-α-methylbenzylamine to the following optical resolution process.例文帳に追加

光学分割の結果生成した光学活性なα−メチルベンジルアミンのうち不要な鏡像体を、触媒量の強塩基性ラセミ化剤、好ましくは水素化ナトリウムの存在下にラセミ化し、ラセミ化に際して副生するビス（α−メチルベンジル）アミンを含有する（ＲＳ）−α−メチルベンジルアミンを、光学分割の原料の少なくとも一部として使用し、新鮮な（ＲＳ）−α−メチルベンジルアミンとともに、つぎの光学分割工程に原料として供給する。 - 特許庁

The method includes the steps of: sending a scheduled transmission message, which applies an HARQ (hybrid automatic repeat request) process for transmission; starting a contention resolution timer and monitoring a PDCCH (physical downlink control channel); and eliminating the content of a buffer of the HARQ process when a contention result of the contention-based random access procedure is determined, to terminate the retransmission of the scheduled transmission message.例文帳に追加

方法は、ＨＡＲＱ（ハイブリッド自動リピート要求）プロセスで伝送されるスケジューリング伝送メッセージを送信する段階と、コンテンション解決タイマーを起動し、ＰＤＣＣＨ（物理ダウンリンク制御チャネル）のモニタリングを開始する段階と、コンテンションベースのランダムアクセスプロセスのコンテンション結果を判定する際、ＨＡＲＱプロセスのバッファの内容を消去し、スケジューリング伝送メッセージの再送を終了させる段階とを含む。 - 特許庁

This negative type radiation sensitive resin composition solution is suitable for use as a resist which is not swellable with a developing solution, excellent in developability, pattern shape, focus latitude, heat resistance, pattern faithfulness, lithographic process stability, etc., having high sensitivity and high resolution and adaptable to various radiation sources.例文帳に追加

本発明によれば、現像液による膨潤がなく、現像性、パターン形状、フォーカス許容性、耐熱性、パターン忠実度、リソグラフィープロセス安定性などに優れ、高感度かつ高解像度で様々な放射線源に対応できるレジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物溶液を得ることができる。 - 特許庁

A load determination/parameter change section 308 reduces the texture determination criterion value to increase the textures when the number of edges counted by the edge number measurement section 307 is larger than the number of maximum edges for which this image processing apparatus can complete a resolution enhancement process per frame within a target processing time.例文帳に追加

そして、負荷判定・パラメータ変更部３０８は、エッジ数計測部３０７によって計数されたエッジの数が、情報処理装置が目標処理時間内に１フレーム分の高解像度化処理を完了可能な最大エッジ数よりも多い場合、テクスチャを増加させるべくテクスチャ判定基準値を減少する。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in resolution, development defects and outgassing and a pattern forming method using the same, which are a positive resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像力、現像欠陥、アウトガスが改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive resin laminate which yields no residue by development, exhibits high sensitivity and high resolution, has high adhesiveness to a substrate and excellent etching resistance, is developable with a diluted alkali aqueous solution, and produces fine chips of stripped material in a stripping process with the alkali aqueous solution.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing line of a semiconductor device or the like, that can execute processes with high resolution to semiconductor device make very fine, without being substantially affected by electromagnetic noise, viblations, and the like generated by a carrier device or the like in a charged particle beam process device, such as an SEM apparatus.例文帳に追加

ＳＥＭ装置などの荷電粒子ビームプロセス装置において、搬送装置等から発生する電磁波ノイズや振動等に対して影響を殆ど受けることなく超微細化された半導体デバイスなどに対して高分解能でプロセスを実行できるようにした半導体デバイス等の製造ラインを提供することにある。 - 特許庁

A signal processing part 40 performs a restoration process for generating second image data, equivalent to first image data output from the imaging device 20, when the resolution of the imaging lens 10 is high on the first image data output from the imaging device 20, which has imaged the optical image of an object through the imaging lens 10.例文帳に追加

信号処理部４０が、撮像レンズ１０を通して被写体の光学像を撮像した撮像素子２０から出力される第１の画像データに対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データを生成するような復元処理を施す。 - 特許庁

To provide a X-ray radiographic apparatus capable of performing frequency processing, e.g. smoothing (noise removal) and sharpening (edge enhancement), appropriately depending on the distribution of resolution occurring in the photographing region of a photographing means due to bubbles in the production process and ensuring good diagnostic power.例文帳に追加

撮像手段の撮影領域内に製造工程の気泡などを原因とする解像度の分布が生じていても、平滑化処理（ノイズ除去）、先鋭化処理（エッジ強調）などの周波数処理を、分布に応じて適切に行うことが可能で、良好な診断能を有するＸ線撮影装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laminated film suitable for a dry film photo resist (DFR) or so called a coverless DFR which satisfies the transparency capable of being used for a high resolution DFR, UV transmission property and handling property (slippage), eliminates a process for providing a protective film on a photo resist layer and contributes to the reduction of an industrial waste.例文帳に追加

高解像度ＤＦＲに使用し得る透明性、ＵＶ透過性と取扱い製（滑り性）を満足し、フォトレジスト層の上に保護フィルムを設ける工程を省略し、かつ産業廃棄物の軽減に寄与するドライフィルムフォトレジスト（ＤＦＲ）、いわゆるカバーレスＤＦＲに有用な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

In the case of conducting double density gradation processing where input image data of an n-value (n>3) are converted into binary image data having double resolution in the main scanning direction, an error spread section 22 and a comparison section 23 process the input image data received from an input section 21 to convert the data into ternary image data.例文帳に追加

ｎ値（ｎ＞３）の入力画像データを、主走査方向に２倍の解像度をもつ２値の画像データに変換する倍密度階調処理を行う場合において、入力部２１から入力された入力画像データは、誤差拡散部２２、比較部２３で処理されて３値の画像データに変換される。 - 特許庁

Then, by using the photomask, which has a plurality of patterns for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area, on the principal surface of a semiconductor wafer, it has the process which transfers the prescribed pattern and let the size of the pattern for the measurement be a size which is lower than the resolution limit and moreover detectable.例文帳に追加

また、パターン形成領域内にパターンの配置位置を測定する測定用パターンを複数配置したフォトマスクを用いて半導体ウエハの主面上に所定のパターンを転写する工程を有し、前記測定用パターンの寸法を、解像限界以下で、かつ、検出可能な寸法とするものである。 - 特許庁

To obtain an organic photoreceptor with extremely high anti-moire properties, which prevents image defects such as black spots or environmental memories and has stable potential stability, thereby providing a high resolution image, and also to provide an image forming apparatus and a process cartridge with the use of the organic photoreceptor.例文帳に追加

本願発明の目的は、極めて高い耐モアレ特性を有し、黒ポチや環境メモリー等の画像欠陥を防止し、安定した電位安定性を有し、高画質の画像を得ることのできる有機感光体を得ることであり、且つ該有機感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, capable of forming a resist film hardly generating cracks, capable of reducing decrease in a film, in an unexposed part, and having satisfactory sensitivity and resolution, in a circuit forming process in a multilayered printed wiring board by a COF or building-up construction method, and a pattern forming method using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

ＣＯＦやビルドアップ工法による多層プリント配線板における回路形成プロセスにおいて、クラックが発生しにくく、未露光部の膜減りが少なく、感度、解像性が良好なレジスト膜を形成できる感光性樹脂組成物、およびこの感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonpolymer-based radiation-sensitive resist composition having high sensitivity, high resolution and high heat resistance and soluble in a solvent in an easy manufacturing process, the composition which can be used for not only UV rays such as i-line and g-line but for radiation such as visible rays, KrF excimer laser light or the like, electron beams, X rays and ion beams.例文帳に追加

ｉ線、ｇ線等の紫外線のみならず、可視光線、ＫｒＦ等のエキシマレーザー光、電子線、Ｘ線、イオンビーム等の放射線にも利用でき、簡単な製造工程で、高感度、高解像度、高耐熱性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having a sufficient process margin, capable of suppressing contamination of a kiln, a photomask, etc., due to sublimation of a photoinitiator component, and having adhesion, transparency and heat resistance required for a protective film material, and resolution and compression property required for a spacer material.例文帳に追加

十分なプロセスマージンを有し、光重合開始剤成分の昇華による焼成炉やフォトマスクなどの汚染を抑制でき、保護膜材料に必要とされる密着性、透明性、耐熱性とスペーサー材料に必要とされる解像性、圧縮特性とを十分に併せ持つ感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Moreover, arraying of high-resolution probes for measuring a minute area, which is difficult in a conventional system, is easily performed by using a semiconductor process, and more detailed analysis, such as accelerating of measurement, and measurement of transient magnetic-field distribution, becomes available with one-dimensional arraying.例文帳に追加

さらに従来方式では難しかった微小領域を測定するための高分解能プローブのアレイ化についても半導体プロセスを用いることで、本装置では容易に実現することができ、一次元アレイ化によって測定の高速化、過渡的な磁界分布測定等、より詳しい解析を行うことを可能とした。 - 特許庁

To provide a polymer compound suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.例文帳に追加

高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomechanical process for a planographic printing plate capable of giving an image with high resolution, adaptable to a direct pattern forming method with a laser, capable of giving an image particularly even in a light room, producing no waste liquid and very excellent in ink/water responsiveness and printing durability.例文帳に追加

平版印刷版の製版技術において、高解像性を有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることができ、廃液が発生することがなく、インキ／水応答性、耐刷性に非常に優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in resolution, line edge roughness and side lobe margin and a pattern forming method using the same, which is a resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像性、ラインエッジラフネス、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which gives a resist pattern having high sensitivity and high resolution as ≤0.15 μm and having a square cross section in the production of a semiconductor device and to provide a positive photoresist composition showing small dimensional shift when a pattern is transferred to a lower layer in an oxygen plasma etching process of a two-layer resist method.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において高感度且つ0.15μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物、２層レジスト法において酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

(5) When the Minister of Agriculture, Forestry and Fisheries intends to enact a standard pursuant to the provisions of paragraph (1), he/ she shall, in advance, go through the resolution process of the Council, etc. (the organ prescribed in Article 8 of the National Government Organization Act (Act No. 120 of 1948)) for which is provided by Cabinet Order (hereinafter referred to as the "Council"). 例文帳に追加

５　農林水産大臣は、第一項の規定により規格を制定しようとするときは、あらかじめ審議会等（国家行政組織法（昭和二十三年法律第百二十号）第八条に規定する機関をいう。）で政令で定めるもの（以下「審議会」という。）の議決を経なければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a positive resist composition useful in a process with light having a shorter wavelength than KrF excimer laser light, e.g. F2 excimer laser light (157 nm) or EUV (extreme-ultraviolet radiation 13 nm) as a light source and capable of forming a resist pattern having high resolution and a good sectional shape and to provide a base material with a resist layer of the resist composition.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供すること。 - 特許庁

To provide a connecting method of an electrode using a connecting member, excellent in connection reliability for a long time, free from accurate positioning between a conductive particle and an electrode, and with high resolution, capable of avoiding unnecessary adhesion and preventing dust or the like from attaching, and aiming at continuous automation of a connection work process with excellent workability.例文帳に追加

長時間の接続信頼性に優れ、導電粒子と電極との正確な位置合わせが不要、高分解能の接続部材で、不要な粘着性やごみ等の付着防止ができ、作業性が良く接続作業工程の連続自動化が図れる接続部材を用いた電極の接続方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated film suitable for a dry film photo resist (DFR), that is a coverless DFR which satisfies the transparency capable of being used for a high resolution DFR, UV transmission property and handling property (slippage), eliminates a process for providing a protective film on a photo resist layer and contributes to the reduction of an industrial waste.例文帳に追加

高解像度ＤＦＲに使用し得る透明性、ＵＶ透過性と取扱い性（滑り性）を満足し、フォトレジスト層の上に保護フィルムを設ける工程を省略し、かつ産業廃棄物の軽減に寄与するドライフィルムフォトレジスト（ＤＦＲ）、いわゆるカバーレスＤＦＲに有用な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

The host-based printing system, which prevents print failure by obtaining an image data reception buffer size from a printer 1000 and excluding from the choices of setting items (color gradation, resolution, half-tone process, etc.) displayed on a print setting screen the setting items with high probability of failure according to the value of the buffer size, is provided.例文帳に追加

プリンタ１０００から画像データ受信バッファサイズを取得し、その値によって印刷設定画面に表示する各設定項目（色階調、解像度、ハーフトーン処理など）の選択肢から印刷に失敗する確率の高いものを除外し、印刷の失敗を未然に防ぐホストベース印刷システムを実現する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having high resolution, capable of diminishing defects in a resist pattern and failures such as chipping, breaking and short circuit in a circuit formed in an etching or plating step and less liable to generate residue on removal in a resist pattern removing step particularly after electroplating by a semi-additive process.例文帳に追加

高解像性を有し、レジストパターンの欠陥や、エッチング工程またはめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥を低減することができ、特にセミアディティブ工法の電解めっき後のレジストパターン剥離工程における剥離残が発生しにくい感光性樹脂積層体を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymer compound, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance, suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.例文帳に追加

高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist material, of a chemically amplified type in particular, for use in lithography with a high-energy light source in particular, having a practically sufficient level of etching resistance, excellent in adhesion to a substrate and in affinity with the developing solution, much higher than conventional materials in sensitivity and in resolution performance, and swelling less during the developing process.例文帳に追加

特に高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、実用レベルのエッチング耐性を有し、基板密着性及び現像液親和性に優れ、従来品を大きく上回る感度と解像性を有し、加えて現像時の膨潤の小さいレジスト材料、特に化学増幅型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

(v) where a patent has been granted for an invention of a process, acts of producing, assigning, etc., importing or offering for assignment, etc. any product (excluding those widely distributed within Japan) to be used for the use of the said process and indispensable for the resolution of the problem by the said invention, knowing that the said invention is a patented invention and the said product is used for the working of the invention as a business; 例文帳に追加

五　特許が方法の発明についてされている場合において、その方法の使用に用いる物（日本国内において広く一般に流通しているものを除く。）であつてその発明による課題の解決に不可欠なものにつき、その発明が特許発明であること及びその物がその発明の実施に用いられることを知りながら、業として、その生産、譲渡等若しくは輸入又は譲渡等の申出をする行為 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a three-dimensional ultrasonic photographic system which is capable of obtaining three-dimensional ultrasonic images of an object having a higher level of resolution and frame ratio without adopting a digital scanning conversion process by directly receiving ultrasonic echo signals and focusing them with voxels in a diagnostic region of an object corresponding to respective pixels of an image display device.例文帳に追加

映像表示装置の各画素に対応するオブジェクトの診断領域内のボクセルで超音波のエコー信号を直接受信集束することにより、デジタル走査変換過程を採用することなく、高解像度で且つ高フレーム率を有するオブジェクトの３次元超音波映像が獲得できる３次元超音波撮像システムを提供する。 - 特許庁