例文 (481件) |
process resolutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 481件
To easily and precisely determined the angle of an ink-jet head corresponding to the resolution of a color filter at the time of forming a color filter by applying the coloring agent on a substrate having black matrix by an ink-jet process.例文帳に追加
インクジェット方式にて色剤をブラックマトリックス付き基板に塗布することによりカラーフィルターを作製するに際して、カラーフィルターの解像度に対応してインクジェットヘッドの角度を容易にかつ正確に決定する。 - 特許庁
To provide a letterpress, a manufacturing process of the letterpress and the printing apparatus of the can using this letterpress that can control the dot gain of the points printed by the projection of the letterpress to be smaller and can attain the high resolution printing.例文帳に追加
凸版の突起部によって印刷される点のドットゲインを小さく抑え、解像度の高い印刷が可能な凸版、凸版の製造方法及びこの凸版を使用した缶の印刷装置を提供する。 - 特許庁
When the Rmax and the Sm satisfy the relation of a specified expression, the image where the moire (interference fringe) is not caused is uniformly and stably obtained even in the process of the high resolution being ≥1,200 dpi.例文帳に追加
RmaxとSmとが特定の式の関係を満たすとき、1200dpi以上の高解像度プロセスにおいても、均一且つ安定的にモアレ(干渉縞)の発生しない画像を得ることができいる。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition having particularly superior adhesion, resolution and film strength as an etching or plating resist used in the production of printed wiring board, the precision working of a metal or another process.例文帳に追加
プリント配線板の製造や金属の精密加工等に用いられるエッチングレジスト又はめっきレジストとして、特に優れた密着性、解像性及び膜強度を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To heighten the resolution of a color filter in a method for manufacturing the color filter with a small number of steps, at a low cost and with high controllability by using a photocatalyst film forming method capable of forming a film with a simple process.例文帳に追加
簡易なプロセスで膜を形成することが可能な光触媒着膜方法を用いる、工程数が少なく、低コストで、制御性が高いカラーフィルターの製造方法において、特にその解像度を高めること。 - 特許庁
To provide a negative resist material, particularly a chemically amplified negative resist material, having high sensitivity, high resolution, exposure latitude and process adaptability, giving a good pattern shape after exposure and exhibiting excellent etching resistance.例文帳に追加
高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁
To obtain an accurate steering angle without doing an assembling process again by determining the deviation of a neutral position of a steering angle detected by a steering angle sensor by assembling resolution, in a state of being distinguished from the failure of the steering angle sensor.例文帳に追加
舵角センサが検出する舵角の中立位置が組付け分解能分ずれているときには、これを舵角センサの故障とは区別して判断し、組付け工程をやり直さずに正確な舵角値を得る。 - 特許庁
To prevent occurrence of variation in temporal resolution by adding a calibration process to a TDC at the time of start-up, and to provide means for preventing increase in circuit scale by reducing redundancy of delay elements.例文帳に追加
起動時にTDCにキャリブレーション処理を加えることで、時間分解能のばらつきが発生することを防ぎ、合わせて、遅延用の素子の冗長度を減らすことで回路規模の増大を防ぐ手段を提供する。 - 特許庁
In this constitution, since a process constant in a contraction projection optical system can be reduced to 0.3-0.4, resolution performance can be raised as compared with the prior art, and the fine pattern with a line width of 150 nm or less can be drawn.例文帳に追加
この構成では、縮小投影光学系におけるプロセス定数を0.3〜0.4と小さくできるため、解像性能を従来よりも高めることができ、線幅150nm以下の微細なパターンを描画できる。 - 特許庁
In S161, this processor decides whether an input image is rotated by 90°, and when the input image is not rotated, the process advances to S162, extracts a pattern of 2 pixels × 2 pixels and performs resolution conversion into 4 pixels × 1 pixel in S163.例文帳に追加
S161で、入力画像を90度回転したかどうか判定し、回転していない場合は、S162に進み、2画素×2画素のパターンを抽出し、S163で4画素×1画素への解像度変換する。 - 特許庁
To provide a fine patterning method for a semiconductor element by which a problem that critical dimension (CD) becomes poor by superimposition is eliminated to form a pattern finer than resolution of an exposure process.例文帳に追加
本発明は、重畳(overlay)により臨界寸法(Critical Demension; CD)が不良になる問題を除去し、露光工程の解像度より微細なパターンを形成することができる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In the optical resolution of optically active 2-methylpiperazine from (±)-2-methylpiperazine, characteristically, a process in which the mixture of diastereomer salt of (±)-2-methylpiperazine and optically active pantic acid is formed is included.例文帳に追加
(±)−2−メチルピペラジンから光学活性2−メチルピペラジンを光学分割する方法において、(±)−2−メチルピペラジンと光学活性パント酸とのジアステレオマー塩混合物を生成させる工程を含むことを特徴とする方法。 - 特許庁
To provide a photomask with higher resolution and higher process capability of circuit implementation by forming a silicone-coating layer on one surface or both surfaces of a glass substrate to reduce the reflectance and increase the transmittance.例文帳に追加
ガラス基板の一面または両面にシリコーンコーティング層を形成させることにより、反射率を低めるとともに透過率を増加させ、解像度及び回路具現の工程能力が向上されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a CMP process simulating method or the like in which even if the resolution of position is increased in a CMP film thickness computing method, no increase in computation time and in the size of the memory used is brought about.例文帳に追加
CMP膜厚計算方法において位置分解能を上げた場合であっても計算時間の増加および使用メモリの増大を招くことのないCMP工程のシミュレーション方法等を提供する。 - 特許庁
To provide an electrostatic latent image developing toner, a developer and an image forming method by which high transfer performance can be obtained independently of environments such as humidity, an extremely high resolution can be obtained and a cleanerless process also can be attained.例文帳に追加
湿度などの環境によらず転写性に優れ、解像度がとりわけ高く、クリーナーレスプロセスをも可能にする静電潜像現像用トナーと現像剤及び画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁
A method of generating a set of tone frequencies within an operating frequency range for use in a timing acquisition process in a wireless communication system comprises selecting a system frequency resolution to generate a set of frequency tones which are relatively prime integers with respect to the frequency resolution and within the operating frequency range of the wireless communication system.例文帳に追加
無線通信システムのタイミング取得工程において使用される動作周波数範囲内のトーン周波数のセットを生成する方法は、システム周波数分解能を選択し、無線通信システムの周波数分解能に対しての、及び動作周波数範囲内の互いに素となる整数である周波音のセットを生成することを含む。 - 特許庁
A speckle pattern is removed from each image by decomposing each image, obtained through multi-resolution decomposition, into a low-pass signal component, a high-pass signal horizontal component, a high-pass signal vertical component and a high-pass signal diagonal component, performing a morphological reconstruction process on the respective decomposed signal components and then performing a multi-resolution reconstruction.例文帳に追加
多重解像度分解により取得した各画像を低域信号成分、高域信号水平成分、高域信号垂直成分、高域信号斜め成分に分解し、分解された各信号成分に対して形態学的再構成処理を実行した後、多重解像度再構成することで、各画像からスペックルパタンを除去するものである。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus of image forming and a process cartridge in which the resolution of an image can be doubled to a desired magnification and the resolution can be increased depending upon the number of image formation unit which can be mounted without increasing a motor rotational number of a polygon motor and without decreasing the transfer rate.例文帳に追加
本発明は、ポリゴンモータのモータ回転数を上げることなく、転写速度を下げることなく、その上で画像の解像度を所望の倍数に倍化できると共に、装着可能な作像ユニットの数に応じて解像度を上げることできる、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁
This IC tester for testing a test IC has a high-resolution digitizer digitizing and fetching a settling signal outputted from the test IC; and a digital signal processor adding the data fetched sequentially from the high-resolution digitizer to the preceding data, and scaling the added data by the number of additions to execute the averaging process of the taken-in data.例文帳に追加
被試験ICの試験を行なうICテスタにおいて、被試験ICが出力するセトリング信号をデジタイズして取込むハイレゾルーションデジタイザと、このハイレゾルーションデジタイザから順次取込むデータをその直前のデータに加算すると共に加算されたデータを加算回数でスケーリングし、取込みデータの平均化処理を行なうデジタルシグナルプロセッサを備えた構成とする。 - 特許庁
To control an ink liquid drop with high accuracy by a highly accurate manufacturing process where not only the ejection pressure source but also the nozzle structure, the pressure chamber, the ink supply passage, and the like, are designed optimally in order to realize a high resolution, high speed printer having a small multihead nozzle in ink jet recording according to a conventional manufacturing process.例文帳に追加
従来の製造工程によれば、インクジェット記録において小型、マルチノズルヘッドを有した高解像度、高速プリンタを実現するためには、吐出圧力源だけでなく、ノズル構造、圧力室、インク供給路などが最適設計され、精度の良い製造方法によりインク液滴を精度良く制御することを目的とする。 - 特許庁
When an intermediate code image data interpreting part 31 interprets the intermediate code image data to perform a rendering process, if the color designation on/off information is set to invalidate the color information, attribute information including the black information for the process of enhancing resolution is written into a band buffer 14 while no color information is written into it.例文帳に追加
中間コード画像データ解釈部31で中間コード画像データを解釈してレンダリング処理を行う際に、色指定有効/無効情報が色情報を無効とする設定の場合、高解像度化処理のための黒色の情報を含む属性情報をバンドバッファ14に書き込み、色情報については書き込まない。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加
IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The image processor carries out jaggy correction in a process of binary to multi-value conversion, a pattern reception control signal 41 processes an image whose resolution is not changed, and a pattern memory 421 is read by code information outputted for each pixel to obtain correction data.例文帳に追加
2値→多値変換の過程でジャギー補正を行うようにし、解像度変更をしない画像はパターン認識部41で処理し画素毎に出力されるコード情報によりパターンメモリ421を読み出して補正データを得る。 - 特許庁
To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a resist material having high resolution and process adaptability, attaining proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, to provide a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern forming method which uses the same.例文帳に追加
高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition that has high resolution performance and has a good balance between DOF (Depth Of Focus) and MEEF (Mask Error Enhancement Factor) in forming a fine pattern of 90 nm or less, and is suitably used also for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加
90nm以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、DOFとMEEFのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
The image forming device includes a processor that controls a high resolution CMOS image sensor and an image sensor to process image data from the image sensor and also includes an interface to give a command to the processor and to view an indication generated by the processor.例文帳に追加
画像形成装置は、高解像度CMOSイメージセンサ、イメージセンサを制御しイメージセンサからの画像データを処理するプロセッサ、及びコマンドをプロセッサへ与えプロセッサによって生成された表示を見るためのインタフェースを含む。 - 特許庁
Each split image a-d undergoes image processing, e.g. resolution conversion, at an image processing section 14a using the information of pixels around a remarked pixel in order to process the remarked pixel becoming the processing object.例文帳に追加
この各分割画像a〜dは、それぞれ画像処理部14aなどで、処理対象となる注目画素を処理するために当該注目画素の周囲の画素の情報を用いる、解像度変換などの画像処理がなされる。 - 特許庁
In this image forming apparatus, an operation speed of the deflecting element, a Video Rate, spot power, a combination of parameter values acquired by using sub-scanning-direction addressability as a parameter, and the number of line skips are set depending on a resolution ratio N and a process speed ratio M.例文帳に追加
画像形成装置では、解像度比Nとプロセス速度比Mに応じて、偏向素子の操作速度、Video Rate、スポットパワー及び、副走査方向アドサビリティーをパラメータとするパラメータ値の組み合わせ及び、ラインスキップ数を設定している。 - 特許庁
To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a resist patterning method yielding finer resist patterns than resolution of an exposure apparatus and capable of processing, in a relatively short process, even a multilayer photoresist film (having a plurality of layers), and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
露光装置の解像度に比べて微細なレジストパターンが得られると共に、多層(複数層)のフォトレジスト膜を用いても比較的に短いプロセスで処理できるレジストパターニング方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming toner having excellent low temperature fixing property, offset resistance and durability and providing a high-quality image with high resolution and no contamination on the base, and to provide an image forming apparatus, an image forming method and a process cartridge.例文帳に追加
低温定着性、耐オフセット性および耐久性にすぐれるとともに、解像度が良く、地肌汚れがない高品質の画像を与える画像形成用トナー、画像形成装置、画像形成方法、およびプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor having high resolution and such high durability as to prevent lowing of electrical properties due to repeated use and to provide a process cartridge with the photoreceptor and an electrophotographic apparatus.例文帳に追加
繰り返し使用に伴う電気特性の低下を十分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する電子写真感光体並びにこれを備えるプロセスカートリッジ及び電子写真装置の提供。 - 特許庁
To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
This compound expressed by formula (I) is prepared by using a resolution method of mirror image compounds from a mixture of methyl (1R,2S)/(1S,2S)-1-amino-2-vinylcyclopropyl carboxylate, comprising a process of treating the mixture with an esterase to obtain the corresponding (1R,2S) mirror image compounds.例文帳に追加
(1R,2S)/(1S,2S)-1-アミノ-2-ビニルシクロプロピルカルボン酸メチルエステルの混合物をエステラーゼで処理して相当する(1R,2S)鏡像体を得る工程を含むことを特徴とする前記混合物からの鏡像体の分割方法を用いて、式(I)の化合物を調製する。 - 特許庁
To provide an image forming method by which a high-resolution and high-definition image is formed and by which even after repeated use, a high-quality image can be maintained stably, and to provide an image forming apparatus for forming an image by the method and a process cartridge.例文帳に追加
高解像度及び高精細な画像を形成し、かつ、繰り返し使用しても高画質画像を安定に維持することが可能な画像形成方法、その方法により画像を形成する画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁
To provide a conductive member having a stable conductive characteristic in various kinds of the environment (a high temperature and a high humidity to a low temperature and a low humidity), a process cartridge, and an electrophotography using the conductive member, in the electrophotography of high resolution and high speed.例文帳に追加
高解像度や高速の電子写真装置において、種々の環境(高温高湿から低温低湿)においても安定した導電特性を有する導電性部材、それを用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide an inexpensive image forming material than can obtain an image of high density and high resolution, avoid the occurrence of flaws during manufacturing, has high sensitivity during the image forming period, and has no deterioration of an image quality in an image forming process.例文帳に追加
高密度エネルギー光の露光により高濃度で、高解像度の画像が得られ、製造時に傷が発生しにくく、画像形成時の感度が高く、画像形成工程における画質の劣化を伴わない、安価な画像形成材料を提供する。 - 特許庁
Specifically, a dual damascene structure corresponding to a design pattern figure can be formed by means of one exposure, development and etching step using a high resolution gray scale mask, which reduces a production process of a dual damascene structure and enhances the pattern accuracy.例文帳に追加
具体的には、高分解能グレーマスクを用いて、1回の露光、現像及びエッチング工程により、設計パターン形状に対応したデュアルダマシン構造を形成可能とし、デュアルダマシン構造の作製工程の短縮化及びパターン精度を向上させる。 - 特許庁
To provide a resist composition which is suitable for ArF excimer laser lithography and has preferable line edge roughness in addition to performances such as resolution, sensitivity and a pattern shape, and to provide a chemically amplified positive resist composition in which the pattern can be more finely divided in a reflow process.例文帳に追加
ArFエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
DOF、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device and method for reducing noise capable of appropriately executing a noise reduction process by targeting a plant of a distant view in an image including an object image of the plant of the distant view, and providing a feeling of resolution.例文帳に追加
遠景の植物の被写体像が含まれる画像において遠景の植物を対象として適切にノイズ低減処理を施すことができ、解像感を得ることが可能なノイズ低減装置及びノイズ低減方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an image processor that is capable of optimum control for an entire system by executing image magnification processing and resolution conversion processing in optimum timing from the standpoint of the image processing time and the image quality in the process of a series of image processing.例文帳に追加
画像変倍処理および解像度変換処理を一連の画像処理の過程で画像処理時間および画像品質の観点から最適なタイミングで実行し、システム全体として最適な制御が可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁
To solve a problem of deterioration of vacuum in a mirror body caused by gas, and drift of a sample resulting from the elongation of a heater by heating, which occurs in real-time observation of a reaction process of the sample with the gas in heating are solved, and to carry out observing with high resolution.例文帳に追加
電子顕微鏡で試料の加熱時のガスとの反応過程をリアルタイムで観察する際に起こる、ガスによる鏡体内の真空の悪化や、加熱によるヒーターの伸びからくる試料ドリフトを解決し、高分解能観察を可能にする。 - 特許庁
To provide a camera-equipped mobile phone whereby one camera mechanism such as a rotary mirror mechanism can photograph an object on a front side or a rear side and which can process image data photographed on the front side and the rear side with a resolution different between both the sides.例文帳に追加
回転ミラー機構等により前面または背面何れの側の被写体を1つのカメラ機構で撮影することができるカメラ付携帯電話において、前面側と背面側で撮影した画像データを異なる解像度で処理する。 - 特許庁
To provide a semiconductor element having an arrangement structure capable of high density patterning with ultra-fine width and interval by utilizing a pattern of expressible size in a resolution limit of a photolithographic process, and to provide a patterning method of the semiconductor element.例文帳に追加
フォトリソグラフィ工程の解像限界内で、具現可能なサイズのパターンを利用して超微細な幅及び間隔を持つ高密度パターンを形成できる配置構造を持つ半導体素子及びその半導体素子パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
For first image data G1, such a recovering process F for creating second image data G2 equivalent to the first image data output from an imaging element 20 when the resolution of an imaging lens 10 is high is performed using the recovery coefficient K.例文帳に追加
第1の画像データG1に対し、撮像レンズ10の解像力が高いときに撮像素子20から出力される第1の画像データと同等の第2の画像データG2を生成するような復元処理Fを、復元係数Kを用いて実施する。 - 特許庁
To obtain a radar image processing device that does not cause deterioration in resolution even for SAR data imaged under complicated track condition deviated from an ideal linear track by applying a suitable sway compensation process.例文帳に追加
理想的な直線軌道から逸脱した複雑な軌道条件下で撮像されたSARデータに対しても、適切な動揺補償処理を行うことにより、分解能劣化の伴わない画像を生成することが出来るレーダ画像処理装置を得る。 - 特許庁
Thereby clear printing can be performed while maintaining high resolution about characters etc. which are configured from only the black color and the white color, and the other background portion can be performed the half tone process in high speed while reducing amount of data.例文帳に追加
こうすることで、白色と黒色のみから構成される文字等については、高解像度のまま明瞭な印刷を行うことができ、その他の背景部分については、データ量を削減しつつ高速にハーフトーン処理を行うことができる。 - 特許庁
In the process of crisis resolution, the restructuring of sovereign debt is sometimes unavoidable. In order to change the terms of repayment of sovereign debt, (I) a contractual approach with collective action clauses (CACs) and (ii)a statutory approach called the sovereign debt restructuring mechanism (SDRM),which involves an international legal framework, are now being examined at the IMF and other forums. 例文帳に追加
国家の債務の返済条件を迅速に変更するため、集団行動条項(Collective Action Clauses:CACs)の導入といった契約アプローチ、及びIMFを中心とする条約等による法的アプローチ(Sovereign Debt Restructuring Mechanism:SDRM)が現在検討されています。 - 財務省
例文 (481件) |
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