「rate of dissolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dissolving apparatus excellent in space saving properties because being excellent in automation and labor saving and capable of being miniaturized, excellent in dissolution uniformity even in the case of a high dilution ratio and a small feed-out flow rate and not deteriorating the function of a liquid polymer because a necessary amount of a mixed liquid is formed by sequentially dissolving the liquid polymer in a short time and can be sequentially used.例文帳に追加

自動化、省力化に優れ、小型化が可能であるため省スペース性に優れ、高希釈倍率で混合液の送出流量が少量の場合であっても溶解の均一性に優れ、又、短時間で逐次溶解させて必要量の混合液を生成し逐次使用できるため液体ポリマーの機能を劣化させることがない溶解装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The coating film and the coated substrate provided with the coating film having a dissolution rate of ≤50% to a specific aqueous medium is obtained by contacting a substrate with a coating liquid containing a polymer having a phosphoric acid ester group and heat-treating the obtained film having phosphoric acid ester group at 200-450°C.例文帳に追加

本発明のコーティング膜及び該膜を備えた被覆基体は、リン酸エステル基を有する重合体含有コーティング液を基体に接触させて形成したリン酸エステル基を有する膜を、２００〜４５０℃で加熱処理して得た、特定の水系媒体に対する溶出率が５０％以下を示すことを特徴とする。 - 特許庁

This percutaneous absorption sheet includes: distal sections 14A containing the pharmaceutical; proximal sections 14C which have an in-vivo dissolution rate larger than that of the distal sections 14A; needle sections 14 which contain the pharmaceutical and are provided with intermediate sections disposed between the distal sections 14A and the proximal sections 14C; and a sheet section 12 supporting the needle sections 14.例文帳に追加

経皮吸収シートは、薬剤を含む先端部１４Ａと、生体内での溶解速度が先端部１４Ａよりも大きい根元部１４Ｃと、薬剤を含み、先端部１４Ａと根元部１４Ｃとの間に配置される中間部とを備えるニードル部１４と、ニードル部１４を支持するシート部１２とを含む。 - 特許庁

To provide a pullulan-containing powder and a process for the manufacture thereof and a use thereof, which solve such weak points of the pullulan- containing powder produced by using a conventional manufacturing technique as causes the separation when mixed in the powdery state with a nonreducing sugar of a glucose as the constitutive sugar and is difficult to dissolve in water, and which has an accelerated dissolution rate.例文帳に追加

本発明は、従来の製造技術を用いて製造されるプルラン粉末の欠点、即ち、グルコースを構成糖とする非還元性糖質とを粉末状態で混合したときに分離を生じ、水にも溶け難いなどの欠点を解消し、溶解速度を高めたプルラン含有粉末とその製造方法並びにその用途を提供することを課題とする。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved by irradiation with the active light or radiation to generate a basic compound and an ionic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び活性光線又は放射線の照射により結合が開裂して、塩基性化合物とイオン性化合物を発生する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved under heat to separate two or more components including a radical species and/or an ionic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び熱により結合が開裂して、ラジカル種及び／又はイオン性化合物を含む２成分以上に分離する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Preferably, the pharmaceutical composition provides a dissolution rate of naloxone hydrochloride within ±10% to that of oxycodone hydrochloride in vitro tested by USP device I (basket) method in USP XXIV (2000) under 100 rpm in 900 ml of a simulated gastric fluid (SGF) at 37°C for one, four and 12 hours.例文帳に追加

好ましくは、３７℃における９００ｍｌの模擬胃液（ＳＧＦ）中において１００ｒｐｍで、米国薬局方ＸＸＩＶ（２０００年）のＵＳＰ装置Ｉ（バスケット）法によりイン・ビトロで試験したときに、１時間、４時間、及び１２時間において、該オキシコドンハイドロクロライドの溶解速度に対して±１０％の範囲内にある前記ナロキソンハイドロクロライドの溶解速度をもたらす、該医薬組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with ionizing radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved by the acid to generate ionic compounds, at least one of which contains a compound nonreactive with a proton donative compound in the composition.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び酸により結合が開裂してイオン性化合物を発生し、該イオン性化合物のうち少なくとも１つが組成物中のプロトン供与性化合物と反応しない化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation.例文帳に追加

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。 - 特許庁

The optical information recording medium has at least a light reflection layer, a recording layer, and the light transmission layer in order on a substrate, and the recording layer contains coloring matters, and the dissolution rate of the coloring matters to the light transmission layer is ≤0.1 mass % of the light transmission layer, and laser is made incident from the light transmission layer side to record and reproduce information.例文帳に追加

基板上に、少なくとも光反射層、記録層、光透過層、を順次有する光情報記録媒体であって、前記記録層が色素を含有し、該色素の前記光透過層への溶解率が該光透過層の０．１質量％以下であり、該光透過層側からレーザーを入射して情報を記録・再生することを特徴とする光情報記録媒体である。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming on a substrate 1 a resist layer 3 containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene and not containing a fluorine atom; performing rendering or exposure of a predetermined pattern shape by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a fluorocarbon-containing developer having a dissolution rate of an insoluble part of less than about 0.5 Å/h.例文帳に追加

基板１上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が１時間あたり約０．５Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

(ii) Where the foreign corporation referred to in paragraph (1)(iii)(b) has received the delivery of money or any other assets as the return of the capital prescribed in Article 24(1)(iii) (The Amount Deemed to be the Amount of Distributions, etc.) of the Act or the distribution of part of the residual assets through dissolution (hereinafter referred to as the "return, etc." in this item) of the domestic corporation referred to in paragraph (1)(iii)(b) which had issued shares or capital contributions that the foreign corporation owns, when the rate obtained by multiplying the rate pertaining to the said return, etc. prescribed in Article 119-9(1) (The Amount of Transfer Cost of Shares in the Case of the Return, etc. of the Capital) by the rate of the number or amount of the domestic corporation's shares or capital contributions which the specially-related shareholder, etc. of the domestic corporation including the foreign corporation had owned immediately prior to the said return, etc. among the total number or total amount of the domestic corporation's issued shares, etc. immediately prior to the said return, etc. is five percent or more. 例文帳に追加

二　第一項第三号ロの外国法人がその有する株式又は出資を発行した同号ロの内国法人の法第二十四条第一項第三号（配当等の額とみなす金額）に規定する資本の払戻し又は解散による残余財産の一部の分配（以下この号において「払戻し等」という。）として金銭その他の資産の交付を受けた場合において、当該払戻し等に係る第百十九条の九第一項（資本の払戻し等の場合の株式の譲渡原価の額等）に規定する割合に、当該内国法人の当該払戻し等の直前の発行済株式等の総数又は総額のうちに当該外国法人を含む当該内国法人の特殊関係株主等が当該払戻し等の直前に所有していた当該内国法人の株式又は出資の数又は金額の占める割合を乗じて計算した割合が百分の五以上であるとき。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The positive resist composition for an ion implantation process contains (A) a resin having a rate of dissolution in an alkaline developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray, wherein a resist film formed from the positive resist composition has a transmittance at 193 nm of 30-60%.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有するイオン注入工程用ポジ型レジスト組成物であって、該ポジ型レジスト組成物より形成したレジスト膜の１９３ｎｍに対する透過率が３０〜６０％であることを特徴とするイオン注入工程用ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたイオン注入方法。 - 特許庁

(ii) Where the nonresident referred to in paragraph (1)(iii)(b) has received the delivery of money or other assets as the return of the capital (meaning the return of the capital prescribed in Article 25(1)(iii) (The Amount Deemed to be the Amount of Distributions, etc.) of the Act) or the distribution of residual assets through dissolution (hereinafter referred to as the "return, etc." in this item) of the domestic corporation referred to in paragraph (1)(iii)(b) which had issued shares or capital contributions that the nonresident owns, when the rate obtained by multiplying the rate pertaining to the said return, etc. prescribed in Article 114(1) (Acquisition Cost in the Case of the Return, etc. of the Capital) by the rate of the number or amount of the domestic corporation's shares or capital contributions which the specially-related shareholder, etc. of the domestic corporation including the nonresident had owned immediately prior to the said return, etc. among the total number or total amount of the domestic corporation's issued shares, etc. immediately prior to the said return, etc. is five percent or more. 例文帳に追加

二　第一項第三号ロの非居住者がその有する株式又は出資を発行した同号ロの内国法人の資本の払戻し（法第二十五条第一項第三号（配当等とみなす金額）に規定する資本の払戻しをいう。）又は解散による残余財産の分配（以下この号において「払戻し等」という。）として金銭その他の資産の交付を受けた場合において、当該払戻し等に係る第百十四条第一項（資本の払戻し等があつた場合の株式等の取得価額）に規定する割合に、当該内国法人の当該払戻し等の直前の発行済株式等の総数又は総額のうちに当該非居住者を含む当該内国法人の特殊関係株主等が当該払戻し等の直前に所有していた当該内国法人の株式又は出資の数又は金額の占める割合を乗じて計算した割合が百分の五以上であるとき。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

(5) If, at the end of every month, the difference between the amount obtained by multiplying the amount equal to the total amount of the stamp insurance premiums already collected by the rate specified by the Ordinance of the Ministry of Health, Labour and Welfare, and the amount equal to two-thirds of the total amount of the benefits for unemployment etc. pertaining to the daily work insured person already paid pursuant to the provisions of the Employment Insurance Act, comes to be found as less than the amount equal to one half of the amount of the benefits for unemployment etc. pertaining to the daily work insured person to be paid pursuant to the provisions of the same Act during six months from the month following such month, and the procedures for modifying the amounts of the stamp insurance premiums cannot be taken due to the close of the Diet or the dissolution of the House of Representatives and an urgent necessity exists, the Minister of Health, Labour and Welfare may modify, after consulting the Labor Policy Council, the Level I daily insurance premium amount, the Level II daily insurance premium amount and the Level III daily insurance premium amount. 例文帳に追加

５　毎月末日において、既に徴収した印紙保険料の総額に相当する額に厚生労働省令で定める率を乗じて得た額と雇用保険法の規定により既に支給した日雇労働被保険者に係る失業等給付の総額の三分の二に相当する額との差額が、当該月の翌月から六箇月間に同法の規定により支給されるべき日雇労働被保険者に係る失業等給付の額の二分の一に相当する額に満たないと認められるに至つた場合において、国会の閉会又は衆議院の解散のために、印紙保険料の額の変更の手続をすることができず、かつ、緊急の必要があるときは、厚生労働大臣は、労働政策審議会の意見を聴いて、第一級保険料日額、第二級保険料日額及び第三級保険料日額を変更することができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム