「rate of dissolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

When the potential is returned from the passivation potential 2 to the natural potential 1 through the return point R, the sweep is performed at a low rate at least up to the re-passivation minimum potential 8 in the inverse sweep to promote the dissolution of the grain boundary part.例文帳に追加

不動態化電位(2)から折り返し点(R)を経て自然電位(1)に戻す際に、少なくとも逆掃引時の再不動態化最小電位(8)迄は遅い速度で掃引して粒界部の溶解を促進する。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition for electron beams or X-rays, the composition having desired high sensitivity and high resolution and environmental stability of a resist film and is improved in dissolution rate in an alkali developing liquid.例文帳に追加

所望の高感度・高解像度およびレジスト膜の環境安定性を持ちつつ、アルカリ現像液に対する溶解速度を向上させることのできる電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for electron beams or X-rays for improving a dissolution rate with an alkali developer while keeping desired high sensitivity/high resolution and environmental stability of a resist film.例文帳に追加

所望の高感度・高解像度およびレジスト膜の環境安定性を持ちつつ、アルカリ現像液に対する溶解速度を向上させることのできる電子線またはＸ線用ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new positive photosensitive polyimide composition having a higher dissolution rate contrast than a conventional photosensitive polyimide composition and achieving high-definition patterning even the case of patterning in a thick film.例文帳に追加

溶解速度コントラストが公知の感光性ポリイミド組成物よりも大きく、厚膜のパターニングを行なった場合でも高精細のパターニングが達成できる、新規なポジ型感光性ポリイミド組成物を提供すること。 - 特許庁

Then, the method can decrease a dissolution rate of the metal substrate because the metal exists in the electroplating liquid in a saturated or supersaturated state, and also prevents the occurrence of an induced co-deposition phenomenon to provide a smooth plated layer on the surface of the metal substrate in a short period of time.例文帳に追加

そうすると、電気めっき液中の金属濃度は飽和もしくは過飽和状態となっているので、金属基体の溶解速度を抑えることができるとともに、誘導共析現象の発生を防止し短時間で平滑な表面のめっき層が得られる。 - 特許庁

A nucleating agent 2 is formed of the water-soluble main components 4 including mineral components, and by involving the nucleating agent 2 with a soluble covering material 5 whose dissolution rate is slower than that of the main components 4, a standard covering formulation 3 and a regulation covering formulation 3A are formed.例文帳に追加

核剤２を、ミネラル成分を含む可溶性の主成分４で形成し、主成分４よりも溶解速度が遅い可溶性の被覆材５で核剤２を包含することで基準被覆製剤３および調整被覆製剤３Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a simple method for producing a molded pharmaceutical preparation using no lubricant such as magnesium stearate, requiring no complicated procedure, capable of continuously making tablets and capable of obtaining a tablet preparation having stable dissolution rate.例文帳に追加

ステアリン酸マグネシウム等の滑沢剤を使用することなく、複雑な操作を要せずに、連続的に打錠することが出来、また、溶出速度の安定した打錠製剤を得ることが出来る、簡易な、医薬成形製剤の製造方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A sheet bath is obtained by providing a print of a letter and/or a drawing, a figure or the like on a water soluble sheet with the use of a water soluble ink into which a bathing agent has been mixed through a water soluble adhesion ink and making the dissolution rate of the water soluble sheet higher than that of the print.例文帳に追加

水溶性シートに、水溶性接着用インクを介して入浴剤混入の水溶性インクを使用して文字及び／又は絵や図形等の印刷物を設け、該水溶性シートの溶解速度を印刷物の溶解速度より速くしてなるシート状入浴剤。 - 特許庁

To obtain a soil-preventing coating composition applied to a ship body, structured material under or on water, fishery material, etc., to be more in detail, enabling the control of dissolution rate of the coating film and capable of exhibiting a soft coating film structure and soil-preventing performance for a long period of time.例文帳に追加

船体、水中・水上構造物、漁業資材などに適用される防汚塗料組成物に関し、詳しくは塗膜の溶出速度の制御を可能として長期にわたって柔軟な塗膜構造と防汚性能を発揮できる防汚塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an extensive novel solid phase which has characteristics like a melting point, solubility, dissolution rate, chemical stability, thermodynamic stability, and/or bioavailability which are different from an existing solid aspect of a basic pharmaceutical molecule.例文帳に追加

基礎とされる薬剤分子の現存する固形の形状とは異なる、融点、溶解度、溶解速度、化学安定性、熱力学的安定性、および／またはバイオアベイラビリティのような特性を有する、広範な新規固相の提供。 - 特許庁

To provide a positive photoresist having excellent heat resistance, sensitivity and resolution, having a fast resist stripping rate with ozone water, being developable with an alkali aqueous solution, and hardly producing scum as a dissolution residue of the resist upon development.例文帳に追加

耐熱性、感度及び解像度に優れ、オゾン水によるレジスト剥離速度が速く、アルカリ水溶液で現像することができ、さらに現像の際にレジストの溶け残り物であるスカムが生じ難いポジ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

This polyvinyl alcohol-based binder fiber comprises a polyvinyl alcohol-based polymer having a dissolution temperature of 40 to 70°C in water, a swelling degree of 80 to 350% in water, a maximum shrinkage degree of ≤10% in water, an elusion rate of ≤20% in water, a water dispersion level of ≤10, and an average polymerization degree of ≥1,000.例文帳に追加

水中溶解温度が４０〜７０℃、水中膨潤度が８０〜３５０％、水中最大収縮率が１０％以下、水中溶出率が２０％以下、水分散性レベル１０以下であり、かつ平均重合度１０００以上のビニルアルコール系ポリマーにより構成されたポリビニルアルコール系バインダー繊維とする。 - 特許庁

To provide a new α-substituted acrylate derivative useful as a raw material for a polymer compound for use in a photoresist composition excellent in its dissolution-rate controllability while maintaining its high transparency in the vicinity of the wavelength of 193 nm, and an efficient method of producing the same.例文帳に追加

波長１９３ｎｍ付近における高い透明性を維持しながら、溶解速度のコントロールに優れたフォトレジスト組成物用高分子化合物の材料として有用である、新規なα−置換アクリル酸エステル誘導体およびその効率的な製造方法を提供する。 - 特許庁

The copper concentration in molten solder is estimated according to the molten state of the copper pattern formed on the substrate, by bringing the copper pattern formed on the substrate into contact with the fused solder, while utilizing the relation that the rate of dissolution of solid metal is dependent on the solute concentration in fluid metal.例文帳に追加

固体金属の溶解速度が液体金属中の溶質濃度に依存していること利用し、基板上に形成された銅パターンと溶融はんだと接触させ、上記基板上に形成された銅パターンの溶解状態により溶融はんだ中の銅濃度を推定する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for liquid treatment enabling uniform development for a substrate to be processed, such as a reticle by preventing a loading effect in which the etching rate, etc., changes due to local variations in amounts of dissolution product or concentration of developer liquid.例文帳に追加

溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果を防止し、レチクル等の被処理基板に対する均一な現像処理が可能な液処理方法及び液処理装置を提供すること。 - 特許庁

Since the metal concentration in the electroplating solution 19 is in a saturated or supersaturated state in such a case, the dissolution rate of the metallic base body 22 is suppressed and a plated layer having a smooth surface is obtained in a short period of time using inductive eutectoid phenomenon.例文帳に追加

そうすると、電気めっき液１９中の金属濃度は飽和もしくは過飽和状態となっているので、金属基体２２の溶解速度を抑えることができるとともに、誘導共析現象を利用して短時間で平滑な表面のめっき層が得られる。 - 特許庁

To provide a photoresist composition excellent in photo speed, critical demension (CD) uniformity, dissolution rate in negative tone developer (NTD) and pattern fidelity; a coated substrate comprising a layer of the photoresist composition; and a method of forming photolithographic patterns.例文帳に追加

フォトスピード、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ；ＣＤ）均一性、ネガティブトーン現像剤（ＮＴＤ）中での溶解速度、及び、パターン忠実度に優れた、フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の層を含むコーティングされた基体及びフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generated an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing repeating units each containing a group represented by a specified structure and increasing its rate of dissolution in an alkali developing solution under the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a rapidly soluble chlorinated isocyanuric acid formed material excellent in disintegration property in the case of contact with water, having rapid dissolution rate to water, capable of rapidly feeding active chlorine having high concentration, excellent in storage stability and enabling easy handling in storing.例文帳に追加

水に接触した場合の崩壊性に優れ、水に対する溶解速度が速く、高濃度の活性塩素を速やかに供給することができ、且つ保存安定に優れ保管時の取り扱いが容易な速溶性塩素化イソシアヌル酸成形物を提供する。 - 特許庁

When a secondary refining treatment that uses electrode heating for a molten steel is performed, the estimated remaining thickness of a slag line refractory 3c is calculated by using the dissolution loss speed of the slag line refractory 3c obtained based on the energization electric power consumption rate when electrode heating is performed.例文帳に追加

溶鋼に対して電極加熱を用いた二次精錬処理を行うに際し、電極加熱を行う際の通電電力原単位を基に得られたスラグライン耐火物３ｃの溶損速度を用いて当該スラグライン耐火物３ｃの推定残厚を算出する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for a color filter capable of maintaining line width sensitivity and discrimination (alkali dissolution rate difference) between an exposure part and an un-exposure part and forming a fine pattern having high rectangularity in a pigment concentration heightened composition.例文帳に追加

顔料濃度を高めた組成において、線幅感度と露光部及び未露光部間のディスクリミネーション（アルカリ溶解速度差）を保ち、微細で矩形性の高いパターンを形成することができるカラーフィルタ用着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method, in which an optical crosslinking resin layer can be uniformly made into a thin film in a shorter time even when the optical crosslinking resin layer has a large thickness or when an optical dissolution rate is slow, in a method of forming a conductive pattern by a subtractive manner.例文帳に追加

サブトラクティブ法による導電パターンの作製方法において、光架橋性樹脂層の厚みが大きい場合や光溶解速度が遅い場合にも、より短時間で光架橋性樹脂層を均一に薄膜化できる方法を提供する。 - 特許庁

This stabilizer for polymers includes an amorphous compound expressed by formula (1), wherein the temperature showing an endothermic peak by differential scanning calorimetry (DSC) is 40 to 80°C, and the rate of dissolution into n-hexane is 1.5 mg/sec or more.例文帳に追加

式（１）で示され、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による吸熱ピークを示す温度が４０〜８０℃であり、ｎ−ヘキサンに対する溶解速度が１．５ｍｇ／ｓｅｃ以上である非晶質化合物を含有することを特徴とするポリマー安定剤。 - 特許庁

To provide a formed product of a chlorinated isocyanuric acid excellent in disintegration properties in water, having rapid dissolution rate to water, quickly feeding active chlorine in a high concentration and excellent in preservation stability and formability.例文帳に追加

水に浸漬した場合の崩壊性に優れ、水に対する溶解速度が速く、高濃度の活性塩素を速やかに供給することができるものであって、且つ保存安定性および成形性に優れた塩素化イソシアヌル酸成形物を提供する - 特許庁

To provide a high-quality polyvinylpyrrolidone powder composition having a high dissolution rate in water even in the case of the powder composition comprising a polyvinylpyrrolidone having a high K value and to provide a method for simply producing the powder composition.例文帳に追加

高Ｋ値のポリビニルピロリドンを含有する粉体組成物であっても、水への溶解速度が高い高品質のポリビニルピロリドン粉体組成物を提供すること、および、このような粉体組成物を簡便に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

In another preferred aspect, photoresist compositions are provided that comprise (i) one or more resins, (ii) a photoactive component, and (iii) one or more materials that comprise a sufficient amount of acidic groups to provide a dark field dissolution rate of at least one angstrom per second.例文帳に追加

別の好ましい態様において、提供されるフォトレジスト組成物は、（ｉ）１種以上の樹脂、（ｉｉ）光活性成分、および（ｉｉｉ）少なくとも１オングストローム／秒のダークフィールド溶解速度を提供するのに充分な量の酸性基を含む１種以上の物質を含む。 - 特許庁

The unreacted styrene monomer in the polymerization system is controlled to ≤ a specific amount and the styrene that is suppressed its feed rate is accelerated its dissolution rate and promptly copolymerizes with the water-soluble acrylic acid to give the polymer that substantially has no styrene to styrene linked area whereby an alkali salt aqueous solution of high transparency can be smoothly produced.例文帳に追加

重合系内の未反応スチレン単量体量が特定量以下に制御されることにより、供給速度が抑制されたスチレンは水中への溶解が促進されて、水溶性のアクリル酸と素早く共重合し、ポリスチレン部のほとんどない重合体になるため、透明性が高いアルカリ塩水溶液を円滑に製造できる。 - 特許庁

To provide a slowly soluble excipient having a moderately slow dissolution rate in water, without causing cracking or deformation even when the resultant molded product contacts with water and having sufficiently excellent performances of slowly eluting an active ingredient into water over a long period.例文帳に追加

水に対する溶解速度が適度に遅く、しかも得られた成型品が水に接してもひび割れや型崩れを起こさず、活性成分を長時間に渡って徐々に水分中に溶出させる性能において充分に優れた徐溶性賦形剤を提供する。 - 特許庁

In the expression (1), F represents a forming rate (nm/min) of the oxide film during electrolysis in anodizing; D represents a dissolution rate (nm/min) of the oxide film which has been immersed in the electrolytic solution used in the anodizing at the treatment temperature in the electrolysis, without being electrolyzed; and V represents voltage (V) during electrolysis in the anodizing.例文帳に追加

Ｈ＝Ｆ／（Ｄ×Ｖ） （１） 前記式（１）中、Ｆは前記陽極酸化処理における電解時の酸化皮膜の形成速度（ｎｍ／ｍｉｎ）を表し、Ｄは前記陽極酸化処理に使用する電解液中に電解時の処理温度で無電解にて浸漬処理した時の酸化皮膜の溶解速度（ｎｍ／ｍｉｎ）を表し、Ｖは前記陽極酸化処理における電解時の電圧（Ｖ）を表す。 - 特許庁

To provide a method for producing a lignophenol derivative, with which load of waste liquid treatment is reduced, the amount of water used in production is saved, a process period is shortened, productivity is improved, a dissolution rate in an organic solvent such as acetone, an alcohol, etc., is increased and recovery ratio of the purified lignophenol derivative is improved.例文帳に追加

廃液処理の負担を少なくして、製造にかかる水使用量の節減および工程期間を短縮し生産性を向上させ、さらにアセトン，アルコール等の有機溶媒への溶解率を高くし、精製リグノフェノール誘導体の回収率を向上させることのできるリグノフェノール誘導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an air mixing nozzle which increases oxygen dissolution efficiency and reduces running cost by breaking introduced bubbles into smaller ones by using pressurized water flow energy flowing through the inside of a nozzle member at high speed without increasing the amount of air introduced from the outer periphery of pressurized water flow and water flow rate.例文帳に追加

加圧水流の外周部より導入する空気量及び水流速を増すことなく、ノズル部材内を高速流通する加圧水流エネルギーを用いて導入気泡のより微細化を図って酸素溶存効率を高め、かつランニングコストの低減を図るようにした混気用ノズルを提供すること。 - 特許庁

The fertilizer dissolution material 2 is composed of brick or granular solid produced from fertilizers such as silica sand, digested sludge, a fish processing waste water sludge and wood scraps to supply phosphorus, nitrogen, silicic acid, iron, humic materials, etc., necessary for forming a seaweed bed at an extremely low rate over a long period.例文帳に追加

肥料溶出体２は藻場造成に必要なリン、窒素、ケイ酸、鉄、フミン質等を極少量ずつ長期間にわたって供給するように、ケイ砂、消化汚泥、水産加工廃水汚泥、木くずなどの肥料を原料として作られたレンガ、もしくは粒状固形物で構成されている。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has a specific alicyclic hydrocarbon group and in which the dissolution rate to an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound having a specific structure to generate an acid by the irratidation with active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for producing indium metal, which can produce high-purity indium metal by a simple process at a high recovery rate by controlling the free acid concentration of a dissolution liquid obtained by dissolving an indium ingredient with an acid and then removing Sn being a metal impurity in the indium ingredient.例文帳に追加

インジウム含有物を酸で溶解させた溶解液の遊離酸濃度を制御し、インジウム含有物中の金属不純物であるＳｎを除去することで、簡単な工程で且つ高い回収率で高純度のインジウムメタルを製造することができるインジウムメタルの製造方法の提供。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin which includes a specific repeating constitutional unit and whose dissolution rate in an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid and a compound which generates the acid by irradiation with active rays or radiations and patterns are formed by using the positive photoresist composition.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive type resist material which has an extremely high alkaline dissolution-rate contrast before and after exposure, a high resolution, a high sensitivity, and good roughness (LWR) after exposure, and further which suppresses acid diffusion rate, in particular, a positive type resist material using a high molecular compound suitable as a base resin of a chemical amplification positive type resist material, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an edge bead remover having an excellent resist dissolution rate, low toxicity and very high safety, excellent also in environmental preservation, giving out little unpleasant odor, having a relatively high boiling point and good operability, forming no residue or deposit and capable of efficiently producing a high-grade substrate for the production of electronic parts.例文帳に追加

優れたレジスト溶解速度を有し、低毒性で極めて安全性が高く、環境保全にも優れ、不快臭も極めて少なく、比較的高沸点で操作性が良好であり、残さや析出物を生じることがなく、高品位の電子部品製造用基材を高効率で製造することができるエッジビードリムーバを提供する。 - 特許庁

To provide a resin capable of constituting a photosensitive resin composition which can easily adjust an alkali dissolution rate to enable good developing properties by an alkali aqueous solution and also can cope with the formation of a fine pattern, and particularly is suitable for photolithography, a photosensitive resin composition containing the resin, and a method for producing the resin.例文帳に追加

アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

(2) In the method for producing the stainless steel for the conductive component having low contact electric resistance having a step of immersing the stainless steel in a solution, the solution contains fluorine ions, and the stainless steel is dissolved at the dissolution rate of ≥0.002g/(m^2.s) and <0.50g/(m^2.s) in the step.例文帳に追加

（２）溶液に浸漬する工程を有するステンレス鋼の製造方法において、前記溶液がフッ素イオンを含有し、前記工程において前記ステンレス鋼を溶解速度０．００２ｇ／（ｍ^２・ｓ）以上０．５０ｇ／（ｍ^２・ｓ）未満で溶解することを特徴とする接触電気抵抗の低い通電部品用ステンレス鋼の製造方法。 - 特許庁

By the method, it becomes possible to rapidly and easily perform the crystal growth test or the crystal dissolution rate measurement of minerals or metals in various environments without selecting a test place, and further, the method can be applied to a simple measurement in the order of micrometer.例文帳に追加

PFAテフロン（登録商標）シートの表面に試験対象となる鉱物又は金属の粒子を埋め込んで成る結晶成長・溶解速度試験用試験センサーの表面形状を試験前後で測定し、試験前後の表面形状の差から鉱物又は金属の結晶成長速度もしくは溶解速度を求めるものである。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin which decomposes under the action of an acid and exhibits an increased dissolution rate in an aqueous alkali solution; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound which is unevenly distributed unevenly in a film surface, upon formation of film.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）製膜により膜表面に偏在する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The method for producing a resin that increases a dissolution rate in an alkali development solution by an acid action comprises a process for dripping a monomer solution containing two or more monomers to a heated solvent to polymerize the monomers and a process for terminating the polymerization before or after the completion of dripping of the monomer solution.例文帳に追加

二種類以上のモノマーを含有するモノマー溶液を加熱した溶剤に滴下して重合する工程と、モノマー溶液の滴下終了前もしくは後に重合を停止させる工程、を含むことを特徴とする酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂の製造方法。 - 特許庁

A laminate of the thick film, a pattern and the like are formed using the negative resist composition for a thick film comprising a photoacid generator (A) represented by formula (1), a phenolic resin (B) having an ADR (alkali dissolution rate) of ≥1,000 Å/s, and an epoxy resin (C) having two or more epoxy resins per molecule.例文帳に追加

下記式（１）で表される光酸発生剤（Ａ）、ＡＤＲ（アルカリ溶解速度）が１０００Å／ｓ以上であるフェノール樹脂（Ｂ）及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂（Ｃ）を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。 - 特許庁