例文 (353件) |
radiation rateの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 353件
The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit, specified molecular weight and a protection rate and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加
(A)特定の構造単位を有し、特定の分子量・保護率を持つ、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(B)活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
To provide a manufacturing method and a device of a semiconductor device capable of suppressing the variation of a reaching temperature in a wafer surface caused by a variation in the wafer surface of a radiation rate and suppressing the variation and deterioration of characteristics, in a heating treatment process of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加
半導体製造工程の加熱処理プロセスにおいて、輻射率のウェーハ面内のばらつきに起因するウェーハ面内の到達温度のばらつきを抑え、特性のばらつき、劣化を抑えることが可能な半導体装置の製造方法と半導体装置の製造装置を提供する。 - 特許庁
Then scattered γ-ray data are subtracted from the SEW data, to thereby acquire SEW data from which the scattered component is removed, and reconstitution processing is performed by an amplification rate storage means 14, and a high-quality RI distribution image having a small scattered radiation is displayed on a display means 16.例文帳に追加
そして、散乱r線データをSEWデータから減算することで、散乱成分が除去されたSEWデータを得、増幅率記憶手段14により再構成処理がされて、散乱線の少ない良質なRI分布画像が表示手段16に表示される。 - 特許庁
To prevent prolongation of the apparatus stop period for supplementing a material to a material container or replacing the material resulting in deterioration in an operation rate of the apparatus caused by the temperature effect of a transport pipe extending from the material container to a release port, the effect reaching the material container by radiation or conduction.例文帳に追加
材料容器から放出口まで連なる輸送管温度の影響が、輻射あるいは伝導により材料容器に及ぶことにより、材料容器への材料補充や交換のための装置停止期間が長時間に及び、装置の稼動効率が低下するのを防ぐ。 - 特許庁
To obtain an alkali-soluble unsaturated resin capable of forming a positive-type resist film which has high sensitivity, developability and film remaining rate and also high heat resistance, chemical resistance, adhesion to a substrate and optical transparency in the visible light region, and a radiation-sensitive resin composition including the resin.例文帳に追加
感度、現像性に優れ、残膜率に優れるとともに、耐熱性、耐薬品性、基板との密着性、可視光領域における透明性に優れたポジ型レジスト膜を形成しうるようなアルカリ可溶性不飽和樹脂およびこの樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
The semiconductor device having a low load radiation mounting structure is realized for the casings 5, 6 and a semiconductor package 2 even when the compression rate of a thermal conduction rubber sheet 8 is high by utilizing the stress relaxation of the thermal conduction rubber sheet 8 under a low temperature heating environment.例文帳に追加
低温加熱環境下における熱伝導性ゴムシート8の応力緩和特性を利用することで、熱伝導性ゴムシート8の圧縮率が高くても筐体5,6や半導体パッケージ2に対して低負荷な放熱実装構造を有する半導体装置を実現する。 - 特許庁
The method for preparing a radiation sensitive high chloride emulsion includes the precipitation of high chloride silver halide grains in a dispersion medium at >0.4 μm^3/hr rate, and >50% of the resulting high chloride grains are cubic grains having corners whose roundness is <0.20.例文帳に追加
分散媒中で高塩化物ハロゲン化銀粒子を0.4μm^3/時を超える速度で析出させることを含み、得られる高塩化物粒子の50%超が丸み度0.20未満のコーナーを有する立方体であることを特徴とする放射線感受性高塩化物乳剤の製造方法。 - 特許庁
An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound which generates an acid upon exposure to actinic rays or radiation, (B) a resin of which solution rate in an alkali developer increases by an action of acid, and (C) a hydrophobic resin which contains a repeating unit derived from a monomer represented by the following general formula (1).例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、(C)疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂(C)が、下記一般式(1)で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
The anti-glare film comprises an anti-glare layer having protrusions/recesses on the surface thereof formed on a transparent substrate, wherein the anti-glare layer is a cured radiation curing composition comprising organic fine particles having the rate of surface elasticity of not more than 2.0 GPas and a compound having ethylene nature unsaturated double bonds.例文帳に追加
透明基板上に、表面に凹凸を有する防眩層を形成してなる防眩フィルムであって、防眩層は、表面弾性率が2.0GPa以下である有機微粒子、およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含む電離放射線硬化型組成物を硬化させたものである防眩フィルム。 - 特許庁
The positive resist composition contains: a resin which has an aliphatic cyclic hydrocarbon group in the side chain and specified two repeating units and which increases the solubility rate with an alkali developer solution by the effect of an acid; and a specified trialkylsulfonium compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加
脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、特定の2つの繰り返し単位をもつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のトリアルキルスルホニウム化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
Non-uniformity of the in-plane temperature distribution generated when heating a semiconductor wafer W held in a holding part 7 with light radiation from the halogen lamp HL is eliminated by making different the flow rate of air blown off the blow-off plate 141 per area to adjust the temperature distribution of the lower chamber window 64.例文帳に追加
ハロゲンランプHLからの光照射によって保持部7に保持された半導体ウェハーWを加熱する際に生じた面内温度分布の不均一は、噴出板141から噴出するエアー流量を領域毎に異ならせることによって下側チャンバー窓64の温度分布を調整して解消する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition for forming a display element spacer having excellent adhesion, rubbing resistance, heat resistance, further flexibility and high elastic restoration rate, and excellent development to alkali developer by forming a sufficient spacer by an exposure amount of 1,500 J/m^2 or less.例文帳に追加
1,500J/m^2以下の露光量で十分なスペーサーを形成することを可能とし、密着性、ラビング耐性、耐熱性に優れ、さらに柔軟性と高い弾性回復率、アルカリ現像液に対する優れた現像性を有する表示素子用スペーサーを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
There are provided a microchemical device having a pressure- regulated valve that controls the flow rate of a fluid by a diaphragm made from a product of curing of an actinic-radiation-curable composition, especially, a microchemical device in which the diaphragm is made from a material having a thickness of 1-500 μm and a tensile modulus of 1-700 MPa and a method for producing the same.例文帳に追加
エネルギー線硬化性組成物の硬化物で形成されたダイヤフラムにより、流体流量を調節する圧力制御式バルブを有する微小ケミカルデバイス、特にダイヤフラムが厚み1〜500μmで、引張弾性率1〜700MPaの範囲の素材で形成されている微小ケミカルデバイス、及びその製造方法。 - 特許庁
The delignification rate of chemical pulp in digestion can be improved by applying microwave radiation to a mixture of a lignocellulosic material and cooking liquor in the digestion of a lignocellulosic material such as wood chip by kraft pulp digestion, modified kraft pulp digestion, alkaline pulp digestion or sulfite pulp digestion.例文帳に追加
木材チップなどのリグノセルロース物質をクラフトパルプ蒸解法、修正クラフトパルプ蒸解法、アルカリパルプ蒸解法、亜硫酸パルプ蒸解法のいずれか一つの蒸解法で化学パルプを製造する蒸解工程において、リグノセルロース物質と蒸解液の混合物にマイクロ波を照射することにより、蒸解時の脱リグニン速度を向上させる。 - 特許庁
To secure sufficient gas flow rate in a stack for discharging combustible gas by reducing an opening area of its discharge port by simple structure, to enhance heat resistance of a throttle part against radiation heat occurring by combustion of CO gas, and to device its structure to prevent burnout.例文帳に追加
可燃ガスを排出する煙突について、その排出口の開口面積を簡単な構成により縮小して充分なガス流速を確保することであり、さらに、上記絞り部についてCOガスの燃焼で発生する輻射熱に対する耐熱性を高くし、焼損が防止されるようにその構造を工夫すること。 - 特許庁
A cooling system temperature control is carried out by outputting a three-way valve opening rate control 63 so that a stack inlet temperature 64 will become supply cooling water temperature specifications of a fuel cell stack 10 based on a radiation outlet temperature 62 and a bypass flow-path temperature 65 by means of an F/F function table 1-53.例文帳に追加
通常制御の場合に、放熱器出口温度62とバイパス流路温度65からF/F関数テーブル1−53により、スタック入口温度64が燃料電池スタック10の供給冷却水温度仕様になるような三方弁開度制御63を出力することにより、冷却系温度制御を行なう。 - 特許庁
The phosphor having a main light emission component corresponding to, for instance, one emitted light color within a visible ray region and a sub-light emission component having the emitted light color different from that of the main light emission component and also having different light emission rate to the radiation of the same intensity from that of the main light emission component is used for the phosphor layer.例文帳に追加
蛍光体層には、例えば可視光領域内の1つの発光色に対応する主発光成分と、主発光成分と異なる発光色を有すると共に、同一強度の放射線に対する発光割合が主発光成分とは異なる少なくとも1つの副発光成分とを有する蛍光体が用いられる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method, capable of manufacturing a resin mold stator that is superior in various characteristics, such as thermal conductivity, heat radiation performance, crack resistance and heat resistance, by making a molded resin composition permeate into between stator windings, even if a resin mold stator, has high occupation rate for a stator wiring in a slot.例文帳に追加
スロット内におけるステータ巻線の占積率が高い樹脂モールドステータを製造する場合であっても、ステータ巻線同士の間にモールド樹脂組成物を十分に浸透させ、熱伝導率、放熱性、耐クラック性、耐熱性等の各種特性に優れた樹脂モールドステータを製造することができる製造方法を提供すること。 - 特許庁
The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加
(1)(A)イソソルバイド(メタ)アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
To provide a servo motor with reduction gear, in which major components are all formed of high radiation resisting material which is resistive to the exposure does of 100 MGy(Mega-Gray) or higher under the γ-ray exposure dose rate of 10 KG y/h(Killo-Gray/h) and enables application under the temperature of 100°C or higher and under irradiation of neutrons.例文帳に追加
主要部品のすべてを高耐放射線性材料で構成した減速機付きサーボモータに関するもので、10KGy/h(キログレイ毎時)のガンマ線量率下で100MGy(メガグレイ)以上の照射線量に耐えると共に、100℃以上の高温下をはじめ、中性子照射下でも使用可能なものである。 - 特許庁
Therefore, because heat transfer rate between cooling water and the tube 110 can be prevented from being reduced, increase in the number of part items of the radiator 100 and its manufacturing costs is suppressed and simultaneously the radiation capacity of the radiator 100 can be raised so that the radiator suited to the large size car can be obtained.例文帳に追加
したがって、冷却水とチューブ110との間の熱伝達率が低下することを防止できるので、ラジエータ100の部品点数の増加及び製造原価上昇を抑制しつつ、ラジエータ100の放熱能力を増大させることができ、大型車両に適したラジエータを得ることができる。 - 特許庁
This invention provides the radiation image conversion panel which includes the support, a layer of a matrix compound of storage phosphors coating the surface of the support with a coating rate of 95% or higher and the phosphor layer which is formed on the layer of the matrix compound of the storage phosphors and is made of an aggregate of columnar crystals of the storage phosphors.例文帳に追加
支持体、該支持体の表面を95%以上の被覆率で被覆している蓄積性蛍光体母体化合物層、そして該蓄積性蛍光体母体化合物層の上に形成された蓄積性蛍光体柱状結晶の集合体からなる蛍光体層を含む放射線像変換パネル。 - 特許庁
The resist composition contains: (A) a resin having an alicyclic structure and showing changes in a dissolving rate with a developing solution by an action of an acid; (B) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound expressed by general formula (EA).例文帳に追加
本発明に係るレジスト組成物は、(A)脂環構造を備え且つ酸の作用により現像液に対する溶解速度が変化する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、(C)下記一般式(EA)により表される化合物とを含有したレジスト組成物。 - 特許庁
Preferably, when the glass is 10±0.1 mm thick, the glass has 80% transmittance for light at ≤420 nm wavelength, and the glass shows ≤3.0% deterioration rate in the transmittance by the irradiation of rays in a UV region and/or visible region at 2.2 W.cm^-2 radiation illuminance for 10 minutes.例文帳に追加
さらに、厚さ10±0.1mmである場合に、透過率80%で透過する光の波長が420nm以下であり、紫外域および/または可視域の光線を2.2W・cm^-2の放射照度で10分間照射することによる透過率の劣化率が3.0%以下であることが好ましい。 - 特許庁
To obtain a cooling device of a water-cooled internal combustion engine capable of reducing wasteful power consumption by maintaining the temperature of cooling water in an appropriate range to improve the fuel consumption rate by controlling the drive of an electric water pump and an electric cooling fan by taking into consideration the drive state of the water-cooled internal combustion engine and the heat radiation property of a heat exchanger.例文帳に追加
水冷式内燃機関の駆動状態および熱交換器の放熱性能を考慮して電動ウォータポンプおよび電動冷却ファンの駆動を制御することで、冷却水温度を適切な範囲に保持して燃費を向上させ、無駄な消費電力を削減できる水冷式内燃機関の冷却装置を得る。 - 特許庁
The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、(C)疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式(1)で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
To provide an ion milling device, which facilitates detaching operation for respective substrates after ion milling processing, without lowering heat radiation effect from a substrate holder, when the ion milling processing is carried out, while the substrates are arrayed on the substrate holder, shortens the operation time for the detachment of the substrates from the substrate holder, and reduces the breakage rate of the substrates.例文帳に追加
基板ホルダーに複数枚の基板を配列してイオンミリング処理を行う際、該基板ホルダーからの放熱効果を低下させることなく、イオンミリング処理後における各々の基板の取り外し作業を容易にし、基板ホルダーからの基板の取り外し作業時間をの短縮し、また、基板の破損率の低減を可能としたイオンミリング装置を提供する。 - 特許庁
In the treatment of a fluid 110 undergoing continuous fluid mixing, necessary net radiant energies are calculated on the basis of the volume, mass, or mixing rate of the fluid or any combination of these variables, and the necessary net radiation energies, radiant powers, and/or illumination times are determined on the basis of algorithms.例文帳に追加
連続的な流体混合を受ける流体110の電磁放射による処理において、必要な正味の放射エネルギを流体の体積、質量または混合レートに基づいて、またはこれらの変数の任意の組合わせに基づいて計算し、必要な正味の放射エネルギ、放射パワーおよび/または照射時間をアルゴリズムに基づいて決定する。 - 特許庁
This composition is compound of (A) 100 pts.wt. of a polypropylene-based resin having a melt flow rate of 0.01 to 50 g/10 min, and (B) 0.001 to 2 pts.wt. of a phenol-based antioxidant and 0.01 to 2 pts.wt. of calcium stearate, wherein the mixture is irradiated with ionizing radiation.例文帳に追加
(A)メルトフローレートが0.01g/10分〜50g/10分のポリプロピレン系樹脂100重量部に対して、(B)フェノール系酸化防止剤0.001重量部〜2重量部、およびステアリン酸カルシウム0.01重量部〜2重量部が配合された樹脂混合物に電離性放射線照射処理を施してなることを特徴とするポリプロピレン系樹脂組成物。 - 特許庁
The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加
(A)水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が120℃〜180℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)溶剤を含有するレジスト組成物。 - 特許庁
To provide an ink composition which combines the excellent storage stability, the excellent curing rate by the irradiation with an active radiation, the high quality of the image after cure, the excellent flexibility and scratch resistance, the high adhesion to a medium to be recorded and the stable inkjet dischargeabilty; and a method for inkjet recording using this ink composition.例文帳に追加
保存安定性が良好でありながら、活性放射線の照射に対する硬化速度に優れ、硬化後の画像が高画質で、優れた柔軟性、耐擦過性を有し、被記録媒体への高い密着性を示し、かつ安定したインクジェット吐出性を兼ね備えたインク組成物、及び、前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having a high sensitivity, capable of obtaining a sufficient spacer form even by ≤1,200 J/m^2 exposure, excellent in flexibility, high recovery rate, rubbing resistance, close adhesion with a transparent substrate plate, heat resistance, etc., further excellent in developing property on spacer-patterning and capable of forming the spacer for a liquid crystal-displaying element.例文帳に追加
高感度で、1,200J/m^2以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、柔軟性と高回復率、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れ、さらにスペーサーパターニング時の現像特性にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device, suppressing variations in wafer in-plane attainment temperature caused by a difference in optical characteristics such as wafer in-plane radiation rate and in characteristics caused by a difference in form such as the wiring width in a heat-treating process of the semiconductor manufacturing step.例文帳に追加
半導体製造工程の加熱処理プロセスにおいて、ウェーハ面内における輻射率など光学特性の差異に起因するウェーハ面内の到達温度のばらつきを抑えるとともに、配線幅などの形状の差異に起因する特性のばらつきを抑えることが可能な半導体装置の製造装置と半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加
(A)特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
To provide an optical recording apparatus which multiplexes the radiation angles of diffracted beams through the use of a one-dimensional diffractive light modulator at the time of recording data on a holographic recording medium or the like, so that the occurrence of errors associated with a high addressing rate and spatial location for data recording is prevented, thus making a separate correction circuit and an additional device for compensating for errors unnecessary.例文帳に追加
ホログラフィック記録媒質などへのデータ記録の際、1次元回折型光変調器により回折ビームの照射角を多重化して、高速アドレッシングタイムとデータ記録の空間的位置に対するエラー発生を防止することにより、エラーを補償するための別途の補正回路および装置などを不要にする光記録装置を提供する。 - 特許庁
To create data for compressed and thinned images, the radiation imaging apparatus 1 performs a thinning process in the direction of a signal line at a prescribed rate for data for one image so as to create image for thinned images, creates difference data in the direction of a scanning line for each image data making up the data for the thinned images, and performs a compression process on the difference data.例文帳に追加
放射線画像撮影装置1は、圧縮間引き画像用データを作成する場合、1画像分データに対して所定の割合で信号線方向に間引き処理を行うことにより間引き画像用データを作成し、当該間引き画像用データを構成する各画像データについて走査線方向の差分データを作成し、当該差分データに対して圧縮処理を行う。 - 特許庁
This method for producing the radiation image conversion panel, comprising heating an evaporation source 3 containing a photostimulable phosphor or a photostimulable phosphor raw material in a vapor deposition apparatus 1 to deposit the produced substance on a support 11 to form the photostimulable phosphor layer, is characterized in that the filling rate of the evaporation source on the basis of the volume of an evaporation source boat is 40 to 100%.例文帳に追加
輝尽性蛍光体または輝尽性蛍光体原料を含む蒸発源3を蒸着装置1内で加熱して発生する物質を支持体11上に蒸着させることにより輝尽性蛍光体層を形成する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸発源ボート容積に対する蒸発源の充填率が40〜100%であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a resin composition which has a low modulus of elasticity and sufficiently low stress even when fillers are contained at a high rate, and has excellent peel resistance of reflow because of good adherence properties, and to provide a semiconductor device which exhibits excellent reliability by using the resin composition as a die-attach paste for semiconductor or bonding material for a heat radiation member.例文帳に追加
高い割合で充填剤を含有しても弾性率が低く十分な低応力性を有するとともに接着特性に優れるため良好なリフロー剥離耐性を有する樹脂組成物及び該樹脂組成物を半導体用ダイアタッチペーストまたは放熱部材接着用材料として使用することで信頼性に優れた半導体装置を提供する - 特許庁
To provide a radiation-senstive resin composition which excels in sensitivity, film thickness uniformity and resistance to light such as ultraviolet light, and has general demand characteristics such as resistance to rubbing and compression performance including recovery rate and flexibility, and can be used to form cured products as a protection film, an insulation film or a spacer of a display device; and to provide the cured products and a production method thereof.例文帳に追加
膜厚均一性及び紫外線等に対する耐光性に優れ、かつ一般的な要求特性であるラビング耐性、圧縮性能(回復率と柔軟性)等を有し、表示素子用の保護膜、絶縁膜又はスペーサーとしての硬化物を形成可能な、感度に優れる感放射線性樹脂組成物、硬化物及びその形成方法を提供することである。 - 特許庁
The positive resist composition is characterized by containing: (A) a resin which has specified two kinds of repeating units and an aliphatic cyclic hydrocarbon group in the side chain and which increases the solubility rate with an alkali developer solution by the effect of an acid; and (B) a specified sulfonium compound which generates an acid by irradiation of specified active rays or radiation and which has a naphthalene framework.例文帳に追加
(A)特定の2種の繰り返し単位を含有し、脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生するナフタレン骨格を有する特定のスルホニウム化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The positive resist composition contains: (A) a resin which contains specified two kinds of repeating units having an aliphatic cyclic hydrocarbon group in the side chain and which increases its solubility rate with an alkali developer solution by the effect of an acid; and (B) a specific sulfonium compound having a specific structure which produces an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加
(A)脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、特定の2種の繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の構造を有する特定のスルホニウム化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
To provide a method for recovering platinum group elements by which the fractionating of platinum group elements by remote control corresponding to a high radiation field from a high level radioactive waste liquid is possible, while the use of a separation agent to form into secondary radioactive waste is suppressed as possible, and platinum group elements can be recovered as metals for reutilization, and further, fractionating with high selectivity and a high recovery rate can be achieved.例文帳に追加
高レベル放射性廃液からの高放射線場に対応した遠隔操作による白金族元素の分別が可能であり、2次放射性廃棄物となる分離剤の使用を極力抑え、再利用のために金属として白金族元素を回収でき、且つ高い選択性を有する分別と高い回収率が達成できる、白金族元素の回収方法を提供する。 - 特許庁
For this, heat is robbed by the cylinder 12c having a higher heat absorption and radiation rate than gas, whereby temperature is lowered with the combustion gas suppressed in activation, during which premixing with air and an elementary reaction are securely achieved, and stable blue fire combustion is achieved without permitting an intermediate product in an unstable state where oxidization and thermal decomposition are not relatively promoted to directly flow into the combustion section 14.例文帳に追加
このため、気体に比し熱の吸収・輻射率の高い筒体12cに熱を奪われて温度が下がり燃焼気の活性化を押えられ、その間に空気との予混合及び素反応を確実に踏ませ、不安定状態にある比較的酸化・熱分解の進んでいない中間生成物が直接燃焼部14に流れ込むことがなく、安定した青火燃焼を行わせ得る。 - 特許庁
The positive resist composition contains a resin which contains a repeating unit having a methylene lactone structure and increases the solubility rate with an alkali developer by the effect of an acid and a compound which generates an aromatic sulfonic acid substituted with at least one fluorine atom and/or a group having at least one fluorine atom by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加
メチレンラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子及び/又は少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
This raw material crystal is surface treated so as to have a higher surface radiation rate than the inside thereof, and is used for growing a semiconductor single crystal by the Czochralski method using a production device for a semiconductor crystal provided with a crucible to be charged with at least the raw material crystal and a heater surrounding the crucible.例文帳に追加
少なくとも原料結晶を充填する坩堝と該坩堝を囲繞するヒータを備えた半導体結晶製造装置を使用するチョクラルスキー法によって半導体単結晶を成長させる際に使われる、前記原料結晶として表面の輻射率が内部よりも大きくなるように表面処理が施された原料結晶及び前記原料結晶を用いることを特徴とする単結晶引き上げ方法である。 - 特許庁
The positive photoresist composition for exposure to far UV rays contains a compound which produces acid by irradiation of active rays or radiation and a resin which contains an acid-decomposing alicyclic olefin repeating unit having a specific structure, an anhydride repeating unit having a specific structure and an acid-decomposing acrylic repeating unit having a specific structure and which increases the dissolving rate to an alkali developer by the effect of acid.例文帳に追加
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加
特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の全パターン面積の5%以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
In this radiation detector wherein a scintillator group 10, a light guide 20 and photomultipliers 30, 40 are optically coupled, the light guide 20 is subdivided by adjusting the depth of the void 22 formed therein and a reflecting member 21 so that a detection distribution in an adjacent photomultiplier is properly distributed so as to be changed at a fixed rate corresponding to the change of the incident position of light.例文帳に追加
シンチレータ群10、ライトガイド20、光電子増倍管30及び40が光学的に結合された放射線検出器において、隣接する光電子増倍管における検出分布が、光の入射位置の変化に応じて一定の割合で変化するように適正に分配されるよう、ライトガイド20を、これに形成される空隙22及び反射部材21の奥行きを調節して小区画化する。 - 特許庁
In the method, when the same material is buried into a plurality of recesses on a semiconductor substrate or in it and a surface layer formed of the same material 107 is flattened, the surface layer is fined by carrying out an energy beam radiation 110 in advance to an area where a rate of etching in the surface layer is to be lowered, then, etching is carried out to flatten the surface layer.例文帳に追加
半導体基板上又は中に存在する複数の凹部に同一材料を埋め込み、該同一材料107で形成される表面層を平坦化するに際して、表面層中エッチングのレートを低くすべき領域にエネルギービーム照射110を予め行うことにより表面層の緻密化をし、次いでエッチングを行って平坦化することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁
A control means 22 of the radiographic apparatus 1 generates feature amount data related to an object transmitted radiation rate according to an irradiation start information and irradiation stop time information detected based on a current flowing through a bias line by current detecting means 24A, 24B and proper dosage information, and transmits the feature amount data accompanied by read image data to a console C.例文帳に追加
電流検出手段24A、24Bによりバイアス線を流れる電流に基づいて検出される照射開始時情報及び照射停止時情報と、適正線量情報とに基づいて、放射線画像撮影装置1の制御手段22が、被写体透過放射線量に関する特徴量データを生成し、この特徴量データを読取画像データに付帯させてコンソールCに送信する。 - 特許庁
例文 (353件) |
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