例文 (103件) |
radiation defectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 103件
To provide a nitride semiconductor device having a substrate high in heat radiation capability and small in a crystal defect of a nitride semiconductor layer formed on the substrate, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
基板の放熱性が高くて基板に形成される窒化物半導体層の結晶欠陥が少ない窒化物半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To allow the work for irradiating a defect detection object with a radiation while detecting the defects of its solid insulator to be performed efficiently and easily without erroneous determination.例文帳に追加
欠陥検出対象物に放射線を照射しながらその固体絶縁物の欠陥を検出する作業を、効率よく且つ誤判定なく容易に実施する。 - 特許庁
To provide a positive type radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in resolution, sensitivity, pattern shape, etc., causing no development defect in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加
放射線に対する透明性が高く、しかも解像度、感度、パターン形状等に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a photoconductive layer wherein an increase in image defect due to aging can be suppressed by improved electron transit, and to provide a radiation image taking panel provided with the photoconductive layer.例文帳に追加
電子走行性を改良し、経時による画像欠陥の増加を抑制することが可能な光導電層、およびこの光導電層を備えた放射線撮像パネルを提供する。 - 特許庁
To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in stability with time, a development defect performance and a roughness characteristic, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in coating defect performance, coating film thickness uniformity, and PEBS performance, and provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
塗布欠陥、塗布膜厚均一性、PEBS性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
A method is disclosed that obtains information related to a defect 110 present during irradiation of a substrate W coated with a layer of radiation sensitive material using immersion lithography.例文帳に追加
液浸リソグラフィを使用して放射感光材料の層で被覆された基板Wの照射中に存在する欠陥110に関連する情報取得方法が開示される。 - 特許庁
To provide a display device of a large screen with which the occurrence of a display defect due to charging deficiency can be suppressed without giving rise to the degradation in image quality due to unnecessary radiation.例文帳に追加
不要輻射に起因する画質の低下が生じることなく、充電不足に起因する表示不良の発生を抑制することができる大画面の表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation image information reader that can eliminate an operation defect by properly evading entry of dust and read radiographic image information with high precision.例文帳に追加
塵の浸入を好適に回避して装置の動作不良の発生をなくすとともに、放射線画像情報を高精度に読み取ることのできる放射線画像情報読取装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method and an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in limit resolution, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect characteristics.例文帳に追加
限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード(EL)、及びブリッジ欠陥特性に優れたパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To evaluate a fine resolution and a slight difference in solubility of radiation-sensitive resin, and to obtain a radiation-sensitive resin composition which generates no development defect and has superior LER characteristic, while maintaining conventional resist performance using this evaluation method.例文帳に追加
感放射線性樹脂の微小な解像性や溶解性の僅かな相違点を評価し、この評価方法を用いて、従来のレジスト性能を維持したまま、現像欠陥を発生することがなく、またLER特性に優れた感放射線性樹脂組成物を得る。 - 特許庁
Man-machine interface means includes display means, controls radiation dose control means, radiation irradiation position control means, partial discharge detection means and voltage application means, and causes the outer shape of a defect detection object, a radiation irradiation position, a partial discharge detection signal waveform and an applied voltage waveform to be displayed on the same screen of the display means.例文帳に追加
マンマシンインターフェース手段は、表示手段を有し、放射線量制御手段、放射線照射位置制御手段、部分放電検出手段および電圧印加手段を制御するとともに、欠陥検出対象物の外形、放射線照射位置、部分放電検出信号波形および印加電圧波形を表示手段の同一画面に表示する。 - 特許庁
This constitution enables the displaying of a better radiation image on the image display device 56 based on the image data after the correction while allowing easier judgment of the position of the image defect corrected by displaying the radiation image on the image display device 56 based on the image data before the correction.例文帳に追加
補正後の画像データに基づいて良好な放射線画像を画像表示装置56に表示させることができると共に、補正前の画像データに基づく放射線画像を画像表示装置56に表示することにより補正が行われた画像欠陥の位置も容易に判別できる。 - 特許庁
To provide an excitation light radiation device capable of avoiding the defect of a halogen lamp light source by use of an LED (light emitting diode) light source, and irradiating the same subject with a plurality of excitation lights differed in wavelength.例文帳に追加
LED光源を用いることによりハロゲンランプ光源の欠点を回避すると共に、同じ検体に対して複数の異なる波長の励起光を照射できる励起光照射装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a structure of a stop plug having sufficiently high airtightness, no function defect caused by radiation irradiation, a small space for valve loading, and a function for confirming normal operation after stop valve operation.例文帳に追加
高気密性を満足したうえで、放射線照射による機能障害もなく、弁装荷のためのスペースが小さいうえに、閉止栓作動後には、正常に動作しているかどうかの確認機能を有する閉止栓の構造。 - 特許庁
To provide a heat radiation plate for a semiconductor substrate which has a projection formed by a latter method of raising a center of an annular hollow, the heat radiation plate capable of stably preventing a solder defect from being generated and excellently securing contact with a cooling fin while securing a solder layer thickness with which sufficient joining force can be obtained.例文帳に追加
リング状窪みの中央部を隆起させる後者の方法にて突起を形成した半導体基板用放熱板において、充分な接合力が得られるはんだ層厚さを確保しながら、はんだ欠陥の生成を安定して防止し、かつ冷却フィンとの接触性を良好に確保できるものを提供する。 - 特許庁
To provide an image correcting method for making an accurate image correction of a part requiring image correction by accurately detecting streak-like density unevenness that appears adjacent to a line defect of a photographed image, and a radiation imaging apparatus.例文帳に追加
撮影した画像の線欠陥に隣接して現れるスジ状の濃度むらを精度良く検出し、画像補正が必要な箇所に正確に画像補正することができる画像補正方法および放射線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation sensor that can suppress increase in crosstalk even when a distance between an upper surface of a scintillator layer and a light reflective layer is increased in order to form the light reflective layer without a defect.例文帳に追加
本発明は、光反射層を欠陥無く形成するためにシンチレータ層上面と光反射層の距離が離れた場合においてもクロストークの増加を抑制することが可能な放射線センサーを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive composition for a color filter bringing about little surface roughness of a pixel, generating no display defect such as image persistence and display unevenness and further excellent in developing property, adhesion property of a coloring layer to a substrate and so on.例文帳に追加
画素の表面粗度が小さく、焼き付けや表示ムラなどの表示不良を生じることのなく、しかも現像性、着色層と基板との密着性等にも優れたカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition capable of improving roughness characteristics, an exposure latitude and a development defect performance, and suppressing a standing wave, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード(Exposure Latitude)、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electronic controller that prevents a current path from having a defect in continuity due to cracking even if a multilayer substrate formed by stacking a substrate having a pattern wired includes metal for heat radiation and an electronic element generating heat.例文帳に追加
パターンが配線された基板を積層した多層基板において、放熱用金属と発熱する電子素子を備えても、クラックの発生による電流経路の導通不良の発生を防ぐ電子制御装置を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection apparatus for transmitting a fixed transmit dose through a sample by performing thickness measurement and a defect inspection while fixedly keeping an interval between a radiation source and the sheet-like sample by reducing vertical conveyance swinging in the sample.例文帳に追加
試料の上下方向の搬送振れを減少させることで、放射線源とシート状試料の間隔を一定に保ちながら厚さ測定、欠陥検査をし、一定の透過線量を試料に透過する検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition being used for pixel formation of a solid state imaging device, allowing a pixel excellent in resolution, and enabling suppression of occurrence of release defect in a pixel after post-bake carried out in pixel formation.例文帳に追加
固体撮像素子の画素形成に用いられ、解像性に優れた画素が形成でき、且つ、画素形成の際に行われるポストベーク後において画素の剥がれ欠陥の発生が抑制された感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, focus latitude, bridge defect preventing performance and dependency of sensitivity on post exposure baking (PEB) temperature, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
ラフネス特性、フォーカス余裕度、ブリッジ欠陥性能、及び、感度の露光後加熱(PEB)温度依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the roughness characteristics, exposure latitude, depth of focus, and development defect performance and that allows to form a pattern of favorable configuration, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加
ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.例文帳に追加
ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
Constitutive components of a defect inspection device are classified into components to be temperature-controlled and temperature-control unnecessary components, the components to be temperature-controlled are collectively stored in a temperature control component storage part 604, and the temperature-control unnecessary components are arranged in a heat radiation part 605.例文帳に追加
欠陥検査装置の構成部品のうち、温度制御すべき部品と、温度制御不要の部品とに区別し、温度制御すべき部品を一括して温度制御部品収容部604に収容し、温度制御不要の部品を放熱部605に配置する。 - 特許庁
To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition allowing simple formation of a film, in a short time, to obtain a resin film maintaining high flatness and causing no film defect such as wrinkles, even if the film is subjected to other processings, such as, forming a conductive thin film on the resin film.例文帳に追加
本発明の目的は、樹脂膜上に導電性薄膜を形成するなどの、他工程を経ても、高い平坦性を保ち、しわのような膜欠陥を生じない樹脂膜を短時間で簡便に成膜することを可能とする感放射線性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁
To provide a ceramic discharge envelop having an aluminum oxide member bonded by expansion reaction without a defect wherein high heat loss occurs by radiation from a hat surface caused by high heat mass of a PCA hat, and serious heat stress which may cause a high incidence rate of a crack is induced.例文帳に追加
PCAハットの高い熱質量によりハット表面からの放射により高い熱損失が生じ、亀裂の高い発生率をまねきうる深刻な熱応力を誘発するという欠点を有しない、膨張反応により結合された酸化アルミニウム部材を有するセラミック放電容器。 - 特許庁
To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加
通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
By the constitution, even when the defect occurs on the phosphor layer, the exfoliation layer and the phosphor layer are removed from the support member or the sensor panel at once, and the radiation detection device with high reliability is obtained at a low cost by enabling reproduction use.例文帳に追加
この構成により、蛍光体層に不良が生じた場合にも、剥離層と蛍光体層が一度に支持部材もしくはセンサーパネルから除去することが可能となり、再生使用が可能になることにより低コストで耐久性の高い放射線検出装置が得られる。 - 特許庁
To provide a method with which silicon carbide monocrystal which is excellent in dielectric breakdown property, heat resistance and radiation resistance, etc., is suitable for electronic and optical device, etc., is free from the contamination of polycrystal and polymorphism and the defect such as micropipe and is high quality can be efficiently manufactured in the form of large diameter in the state having no breakage, etc.例文帳に追加
絶縁破壊特性、耐熱性、耐放射線性等に優れ、電子・光学デバイス等に好適で、多結晶や多型の混入やマイクロパイプ等の欠陥のない高品質な炭化ケイ素単結晶を割れ等がない状態で大口径に効率よく製造し得る方法の提供。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition capable of improving hydrophilicity during alkali development while securing hydrophobicity in immersion exposure, suppressing a development defect of a non-exposure part, and providing a resist coating film excelling in a pattern shape after development.例文帳に追加
液浸露光時における疎水性を確保しつつアルカリ現像時における親水性を向上させることができ、未露光部の現像欠陥を抑制し得ることに加えて、現像後のパターン形状に優れるレジスト塗膜を与えることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation image detector having an electrode layer where many linear electrodes for reading out charge signals generated in a semiconductor layer are arrayed, capable of suppressing an influence of breaking of a wire on an image without causing an image defect caused when a wire breaking part is directly repaired.例文帳に追加
半導体層において発生した電荷信号を読み出すための線状電極が多数配列された電極層を備えた放射線画像検出器において、断線箇所を直接修復することによる画像欠陥を生じることなく、断線による画像への影響を抑制する。 - 特許庁
To provide a welding defect automatically detecting method in radiographic inspection capable of automatically and precisely separating and identifying and detecting various kinds of defects by a picture processing technique from a welding part which is irradiated with radiation by a radiographic device and capable of quantitatively evaluating the grades of them.例文帳に追加
放射線透過装置によって放射線が照射された溶接部から、画像処理技術により各種欠陥を自動的に精度良く分離・識別して検出すると共に、それらのグレードを定量的に評価できる放射線透過検査における溶接欠陥自動検出法を提供する。 - 特許庁
To provide a heat exchanger which prevents a fault, such as, corrosion and contact defect of a heat pump due to the condensation of water, using a simple method, has high long-term reliability and has superior radiation efficiency, without deteriorating the thermal connection performance, and to provide a moisture preventing method of the heat exchanger.例文帳に追加
簡単な方法で、結露水によるヒートポンプの腐食や接触不良などの故障を防止し、長期的な信頼性が高く、熱接続性能を低下させることがなく、優れた放熱効率を有する熱交換器および熱交換器の防湿方法を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive composition for a color liquid crystal display device which brings about no display defect due to lowering of an operating function in a part where voltage is applied and which is used to form a coloring layer on a driving substrate of a thin film transistor(TFT) mode color liquid crystal display device.例文帳に追加
電圧を印可した部分における作動機能の低下に起因する表示不良を起こすことがない、薄膜トランジスター(TFT)方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上に着色層を形成するために用いられるカラー液晶表示装置用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加
高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The probe 2 of a scan-type probe microscope is heated and scanned near the surface of a sample, applying etching gas to the mask to be treated so that the mask area to be treated (opaque defect) and etching gas react chemically by heat radiation from the probe 2, resulting in generation and evaporation of a volatile substance.例文帳に追加
走査型プローブ顕微鏡の探針2を熱して、マスクの被加工領域にエッチングガスを吹きつけながら試料表面に接近させた状態で走査させ、探針2からの輻射熱によりマスクの被加工領域(黒欠陥)とエッチングガスとで化学反応を起こさせ、揮発性物質を生成させ蒸発させる。 - 特許庁
The steel plate surface inspection apparatus includes: a mist spray nozzle for spraying a fine mist to the steel plate immediately after casting to cool a surface of the steel plate; an imaging device for imaging radiation light from a cooled part during cooling or immediately after cooling; and a signal processor for detecting a defect occurring on the steel plate by image processing of a picked-up image.例文帳に追加
鋳造直後の鋼板に微細なミストをスプレーし表面を冷却するためのミストスプレーノズルと、冷却中又は冷却直後の冷却部分からの放射光を撮像する撮像装置と、撮像した画像を画像処理することにより前記鋼板に生じた欠陥を検出する信号処理装置とを具備する。 - 特許庁
To prevent non-uniformity of irradiation of a laser beam accompanying a defect of irradiation control, damage by radiation of the laser beam outside a crystallization region and contamination due to generated fine particles when scanning irradiation by driving a substrate stage in crystallization using the continuous oscillation laser beam.例文帳に追加
連続発振レーザー光を用いた結晶化において基板ステージを駆動することによってスキャン照射を行う場合に、照射制御の不良に伴うレーザー光の照射の不均一性や、結晶化領域外へのレーザー光の照射による損傷や発生した微粒子による汚染を抑制する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition that has excellent reactivity to alkali developer while securing hydrophobicity in immersion exposure to suppress a development defect and also has good coverage dependence; a polymer usable for the same; and a compound to be a monomer of the polymer.例文帳に追加
液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加
90nm以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、LWRが小さく、PEB温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive composition for a color filter, which has excellent development property without occurring defect or stripping off of pixel pattern in developing stage and excellent mechanical strength after film-forming, and also gives a good pattern shape and further does not generate defective display such as image seizing in using for a display panel.例文帳に追加
現像時の画素パターンに欠落や剥がれを生じることがなく、現像性に優れ、かつ成膜後の機械的強度が優れ、またパターン形状も良好であり、しかも表示パネルにしたとき焼き付き等の表示不良を生じることがないカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
The inspection method of the reflection type mask formed by multilayer films includes a step for measuring a secondary radiation emitted from the multilayer films at the time of entering light with a wavelength of 2 to 40nm in the reflection type mask, and a step for judging the existence of the defect of the reflection type mask on the basis of the measurement values.例文帳に追加
多層膜が形成された反射型マスクの検査方法において、前記反射型マスクに波長2乃至40nmの光を入射させた際に前記多層膜から放出される二次放射線を計測するステップと、該計測値に基づいて前記反射型マスクの欠陥の有無を判断するステップとを設けた。 - 特許庁
Even if radiation dose to detector volumes 22B and 22C is reduced by defects on the encoder disk or a point defect 26 due to seaming, etc. existing in the optical path inside the encoder, the optical encoder can normally operate based on signals from other detector volumes 22A, 22D and 22F.例文帳に追加
エンコーダ・ディスク上の欠陥や、エンコーダ内部の光路中に存する汚れ等による点欠陥26により、検出器領域22Bおよび22Cへの入射光量が減じられても、他の検出器領域22A、22D、および22Fからの信号に基づき、光学式エンコーダは正常に作動することができる。 - 特許庁
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