「radiation defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or a radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, excellent roughness characteristics and the reduction of development defects, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.例文帳に追加

高感度、高解像度、良好なラフネス特性、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having good properties of PEBS (post exposure bake sensitivity), MEEF (mask error enhancement factor), coverage dependence and bridge defects, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢＳ、ＭＥＥＦ、被覆率依存性、ブリッジ欠陥のいずれもが良好なパターンを形成することが可能な感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To shift a thermoluminescence glow peak temperature to a higher temperature region and in addition inhibit transition of excited electrons to a ground state due to crystal defects thereby keeping an excited state immediately after radiation exposure for a long time.例文帳に追加

熱蛍光グローピーク温度をより高い温度領域にシフトさせるとともに、結晶欠陥に起因する励起電子の基底状態への遷移を抑制して、放射線の照射直後の励起状態が長時間に亘って維持する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a thermal spray coating member which is excellent in protectiveness to a base material and thedamage resistance, thermal impact resistance, wear resistance or the like of the coating and particularly is excellent in heat radiation properties without any defects in a white based ceramic thermal spray coating.例文帳に追加

白色系のセラミック溶射皮膜が抱える欠点がなく、基材に対する保護性、皮膜の耐損傷性や耐熱衝撃性や耐摩耗性等に優れる他、とくに熱放射特性に優れた溶射皮膜被覆部材を提供する。 - 特許庁

The inspection system (50) is configured to use X-ray radiation (56) at one or more energies to inspect nuclear fuel pellets disposed within a nuclear fuel rod (20) about defects in the nuclear fuel pellet (18).例文帳に追加

検査システム（５０）は、核燃料ペレット（１８）内の欠陥に関して核燃料棒（２０）内に配置された核燃料ペレット（１８）を検査するために、１つまたは複数のエネルギーのＸ線放射（５６）を使用するように構成される。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation and superior developability, excellent in adhesiveness to a substrate as well as in basic solid state properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, causing no development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、現像性に優れ、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、基板に対する接着性にも優れ、かつ微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive W-based high specific gravity composite material solved in the defects of the conventional integrated type material as the use for damping, having a high damping capacity which has not been exhibited heretofore, high in workability, easy to be formed into various shapes and having a high radiation shielding capacity which has not been exhibited heretofore as the use for radiation shielding.例文帳に追加

本発明は、制振用途として従来の一体型材料の欠点を解消し、従来にない高い制振性能を有し、加工性が高く、各種形状に形成容易で、放射線遮蔽用途としても従来にない高い放射線遮蔽性能を有し、安価なＷベースの高比重複合材料を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which, as a chemically amplified resist, is high in transparency to radiation and superior in resolution and is not only superior in dry-etching resistance, sensitivity, and pattern shape or the like, but also remarkably improves the yield of semiconductor elements by suppressing the occurrence of development defects during microfabrication.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which gives a pattern free of pattern defects such as a chip and undercut and excellent in adhesion to a substrate, and allows production of a color filter excellent in reliability in electrical characteristics, etc.例文帳に追加

パターンに欠けやアンダーカット等のパターン不良が無く、基板との密着性に優れ、加えて電気特性等における信頼性に優れたカラーフィルタを作製することが可能な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

A prescribed voltage is applied to the Ge detector damaged by the radiation, and a strong gamma ray source is placed near the detector, and sufficiently many electron/vacancy pairs are generated and taken into lattice defects.例文帳に追加

また、いったん回復した分解能も、放射線損傷により再び分解能が低下するため、放射線損傷を受けやすい環境でＧｅ検出器を用いる場合、短時問でなおかつ容易に分解能を回復させることが重要である。 - 特許庁

To provide an igniter which has an improved heat radiation property thereby preventing connection defects and disconnections and also prevents an insulating resin from peeling off, and consequently can exhibit improved reliability and also can meet the miniaturization of an ignition coil for an internal combustion engine.例文帳に追加

放熱性を高めて接続不良および断線を防止しつつ、絶縁樹脂が剥離するのを防止して信頼性を向上させることができ、かつ、内燃機関用点火コイルの小型化にも対応することができるイグナイタを提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving a spread bottom profile of a resist pattern, with which a pattern having few pattern collapse defects is formed, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

レジストパターンの裾引き形状改善に効果があり、パターン倒れ欠陥が少ないパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a skin material which can be vacuum formed without causing defects in appearance such as rupture and a dent in the sunlight-transmitting layer, and fully achieves desired targets of decreasing effects of thermal conduction and radiation heat on air in a cabin.例文帳に追加

日射透過層に破裂や凹みなどの外観不良を招くことなく真空成形することができ、車室内空気への熱伝導および輻射熱を低減するという所期の目的を十分に達成し得る表皮材を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyester film which, when used for the material of liquid crystal displays, is free from unevenness and defects, exhibits an excellent processability and an easy adhesivity to solvent-free ionizing radiation-curable resins constituting the lens layer, and is highly antistatic.例文帳に追加

液晶ディスプレイなどの部材として使用した際に、ムラや欠陥がなく、加工性に優れ、レンズ層などの無溶剤系電離放射線硬化樹脂に対しても易接着性が優れ、かつ、帯電防止性を高度に併せ持つ二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor radiation detector and a radiation imaging unit that uses, capable of realizing freer size of a detector field of view than the conventional types, of readily removing only the semiconductor module concerned when faults occur, and also of minimizing the damage due to replacement of the detector module concerned, even if defects are generated in the detector modules.例文帳に追加

従来よりも自由な大きさの検出器視野を実現でき、故障が発生した場合に容易にその半導体モジュールだけを取り外すことができるとともに、検出器モジュールに不良が発生しても、その検出器モジュールを交換する場合の損害を小さくすることができる半導体放射線検出器及びこれを用いた放射線撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

This device for inspection defects is designed so that by adopting achromatic reflecting objective lens, sensitivity is improved by inhibiting brightness variations due to multiple-wave length illumination (i.e., illumination by illuminating radiation of multiple-wavelength band), and also by manifesting defects through optional wavelength detection; and moreover, so that it can acquire identical spatial image on the sample, with various multiple kinds of optical images.例文帳に追加

本発明は、色収差のない反射対物レンズを採用することにより、多波長照明（複数の波長帯域を有する照射光による照明）による明るさ変動を抑制すると共に波長選択検出によって欠陥を顕在化して感度向上を図り、しかも試料上の同一空間像を異なる複数種の光学像で取得できるように構成した欠陥検査装置である。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which resolves on a vertical sidewall in forming a contact hole pattern, ensures enhanced EDW, improves side lobe resistance, and reduced the number of Blob defects, as well as a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いＥＤＷを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつＢｌｏｂ欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can sufficiently reduce development defects in manufacturing semiconductors, particularly, in the formation of a contact hole pattern, and exhibits the superior depth of a focus (DOF), and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, reduction of a skirt-like pattern profile, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, excellent in depth of focus, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive composition showing sufficient transmission property when a light source of 157 nm wavelength is used, having wide latitude for defocusing, and suppressing development defects.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型感放射線性組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、現像欠陥が抑制されたポジ型感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure which is capable of providing a resist coating film that exhibits excellent drainability on the surface by having a high dynamic contact angle during the exposure in a liquid immersion exposure process, while suppressing occurrence of development defects by being greatly decreased in the dynamic contact angle during the development.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角により、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制される液浸露光用感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, with which a pattern having good corner proximity and fewer developing defects can be formed, and which causes little elution of an acid into an immersion liquid and shows proper properties to the immersion liquid, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition and a resist pattern forming method capable of suppressing the occurrence of development defects at an unexposed part while securing hydrophobicity during liquid immersion exposure and hydrophilicity during developing on a resist-coated surface and maintaining excellence in the resulting pattern shape.例文帳に追加

レジスト被膜表面における液浸露光時の疎水性と現像時の親水性とを確保し、かつ得られるパターン形状の良好性を保持しつつ、未露光部における現像欠陥の発生を抑制できる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To provide spacers having high film hardness, excellent in smoothness of spacer surfaces, less liable to produce residue and scumming on a substrate in an unexposed portion, and less liable to cause image defects such as image persistence and display irregularities, and a radiation-sensitive resin composition for forming the spacers.例文帳に追加

高い膜硬度を有し、スペーサー表面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板上に残渣や地汚れを生じ難く、しかも焼き付きや表示ムラなどの表示不良が起こり難いスペーサー、並びに上記スペーサー形成用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a welding defect automatically detecting method in radiographic inspection capable of automatically and precisely separating and identifying and detecting various kinds of defects by a picture processing technique from a welding part which is irradiated with radiation by a radiographic device and capable of quantitatively evaluating the grades of them.例文帳に追加

放射線透過装置によって放射線が照射された溶接部から、画像処理技術により各種欠陥を自動的に精度良く分離・識別して検出すると共に、それらのグレードを定量的に評価できる放射線透過検査における溶接欠陥自動検出法を提供する。 - 特許庁

To provide a material for a medical implant or equipment which has advantageous mechanical properties, excellent biocompability and optimum radiation opacity, simultaneously exhibits the minimum picture artifact in an MRI (Magnetic Resonance Imaging) test (MRI suitability), and further conquers the defects of medical metals which have been obtainable in recent years.例文帳に追加

有利な機械特性、優れた生体適合性、最適な放射線不透性を有すると同時にMRI検査において最小の画像アーチファクトを示し（MRI適合性）、ひいては近年入手可能であった医療目的のための金属の欠点を克服する医療用インプラントおよび装置のための材料の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a stereo fluoroscopic device having superior versatility and handleability, capable of observing internal structure or detecting internal defects, or the like, regardless of the dimensions or the shape of a specimen by using a radiation transmissible through the specimen such as an X-ray, and of miniaturizing the device, using a simple structure that makes the specimen rotate.例文帳に追加

Ｘ線等の被検体を透過する放射線を用いることにより被検体の寸法や形状によらず内部構造の観察や内部欠陥等を検出することができ、被検体を回転させる簡素な構造で装置を小型化することができる汎用性、取扱い性に優れるステレオ透視装置の提供。 - 特許庁

Even if radiation dose to detector volumes 22B and 22C is reduced by defects on the encoder disk or a point defect 26 due to seaming, etc. existing in the optical path inside the encoder, the optical encoder can normally operate based on signals from other detector volumes 22A, 22D and 22F.例文帳に追加

エンコーダ・ディスク上の欠陥や、エンコーダ内部の光路中に存する汚れ等による点欠陥２６により、検出器領域２２Ｂおよび２２Ｃへの入射光量が減じられても、他の検出器領域２２Ａ、２２Ｄ、および２２Ｆからの信号に基づき、光学式エンコーダは正常に作動することができる。 - 特許庁

To provide a radiation image conversion panel which prevents a substrate from corroding due to a phosphor layer because the panel has a parylene film isolating the phosphor layer from the substrate, keeps the adhesion of the parylen film high, and which also makes it possible to prevent the degradation in image quality such as point defects caused by treatments prior to the formation of the parylene film.例文帳に追加

蛍光体層と基板とを隔離するパリレン膜を有することにより、蛍光体層による基板の腐食を防止すると共に、パリレン膜の密着性が高く、かつ、パリレン膜の形成に先立つ処理に起因する点欠陥等の画質劣化を防止できる放射線画像変換パネルを提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁