「radiation defects」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To obiate the degradation in radiation characteristics and processing defects which occur in a processing and washing stage of glass for electronic optical parts.例文帳に追加

電子光学部品用ガラスの加工洗浄工程で起こる放射線特性の低下や加工欠点をなくすこと。 - 特許庁

To provide an active light or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having less water residue defects, bubble defects, and development residue defects and is superior in LWR, and a pattern forming method using this resin composition.例文帳に追加

水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has an excellent reactivity with an alkali developer while securing hydrophobicity during liquid immersion exposure, and can prevent occurrence of development defects such as blob defects and bridge defects.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、ブロッブ欠陥、ブリッジ欠陥等の現像欠陥の発生を抑制することができる感放射線性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a radiation image photographing device capable of preventing a bias line from being broken, thereby reducing the occurrence ratio of linear defects.例文帳に追加

バイアス線の断線を防止し、線欠陥の発生率を低減させることが可能な放射線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a radiation image conversion panel having a fixed performance with few image, defects.例文帳に追加

画像欠陥が少なく、一定の性能を有する放射線像変換パネルを安定して製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition including a cyclic olefinic polymer and giving a resin film excellent in sensitivity to radiation, capable of forming a patterned film under radiation and ensuring the patterned film with scarce defects.例文帳に追加

環状オレフィン系重合体を含む感放射線組成物であって、放射線に対する感度に優れ、放射線によるパターン膜の形成が可能で、パターン膜の欠陥が少ない樹脂膜を与える感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition film manufacturing method, a vapor phase deposition film manufacturing apparatus, and a radiation image conversion panel manufacturing method capable of manufacturing a radiation image conversion panel suppressing occurrence of point defects or the like and obtaining an image of high quality with less defects.例文帳に追加

点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる気相堆積膜の製造方法および気相堆積膜の製造装置並びに放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation image photographing apparatus capable of preventing line defects from appearing continuously on multiple scan lines when the apparatus itself detects, for example, a start of applying radiation.例文帳に追加

装置自体で放射線の照射の開始等を検出する場合に、線欠陥が複数の走査線に連続して現れることを防止することが可能な放射線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transpar ency to a radiation, ensuring few development defects and excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に現像欠陥が極めて少なく、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which suppresses occurrence of development defects, so that the yield of semiconductor devices can be improved.例文帳に追加

現像欠陥の発生を抑制し、半導体デバイスの歩留まりを向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To eliminate defects where since radiation is irradiated over a wide range, even when a fine measuring target or local element is required, because a radiation source for irradiating the surface of the measuring target with radiation has a simple planar shape.例文帳に追加

測定対象物表面に放射線を照射する放射線源が，単純な平面的なものであったので，微小な測定対象や，局所的な元素分析が必要なときにも，広い範囲に放射線を照射してしまうという欠点を解消すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is superior in various properties of roughness of line width, suppression of bubble defects, suppression of particles, and reduction of scum.例文帳に追加

線幅ラフネス、バブル欠陥抑制、パーティクル抑制、スカム低減の諸性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide an electroacoustic transducer that suppresses abnormal vibrations in the length direction, so as to realize radiation of sound waves which will not cause defects with respect to large inputs.例文帳に追加

長手方向の異常振動を抑制して、大入力に対して異常のない音波放射の実現化を図った電気音響変換器を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation image detector, which is small, excellent in productivity, and also excellent in moisture resistance while preventing generation of image defects.例文帳に追加

本発明の目的は、小型で、生産性に優れ、画像欠陥の発生を防止した耐湿性に優れる放射線画像検出装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a monomer for producing a resin for additives of a radiation-sensitive resist material having excellent transparency and very few development defects.例文帳に追加

優れた透明性を有し、現像欠陥の極めて少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体を提供する。 - 特許庁

Thus, since amplitudes of reflection waves and standing waves are attenuated, transmission defects and unnecessary electromagnetic wave radiation can be reduced at low cost.例文帳に追加

これにより、反射波および定在波の振幅が減衰されるので、伝送欠陥および電磁波の不要輻射を低コストで低減することができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has a large depth of focus, ensures small LWR and little residue on dissolution in development and hardly causes development defects.例文帳に追加

焦点深度が広く、ＬＷＲが小さく、現像時の溶け残りが少なく現像欠陥が発生し難い感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic properties required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring good adhesiveness to a substrate and few development defects.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、基板に対する接着性が良好で現像欠陥が少ない。 - 特許庁

To provide a low-cost characteristic measuring device for electronic components capable of preventing defects caused by generated heat in a multi-measuring system beforehand, without having to increase the size of a heat radiation facility, and the like.例文帳に追加

マルチ測定方式において、放熱設備などを大型化することなく低コストで発熱による不具合を未然に防止できる電子部品の特性測定装置を得る。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that suppresses occurrence of development defects and has excellent exposure latitude and line edge roughness performance.例文帳に追加

現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).例文帳に追加

活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The device structure can include an epitaxial region having reduced defects and/or improved radiation extraction efficiency on the roughened growth surface of the substrate.例文帳に追加

このデバイス構造体は、基板の粗面化成長表面上に、欠陥が少なく、および／または改善された放射取り出し効率を有するエピタキシャル領域を含みうる。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated device in which transmission defects and unnecessary electromagnetic wave radiation can be reduced at low cost, and a display device with the same.例文帳に追加

伝送欠陥および電磁波の不要輻射を低コストで低減することができる半導体集積装置およびそれを備える表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To allow the work for irradiating a defect detection object with a radiation while detecting the defects of its solid insulator to be performed efficiently and easily without erroneous determination.例文帳に追加

欠陥検出対象物に放射線を照射しながらその固体絶縁物の欠陥を検出する作業を、効率よく且つ誤判定なく容易に実施する。 - 特許庁

To provide a method for producing a radiation image conversion panel preparing a stimulable luminescent phosphor plate without image defects by bumping (splashing) when the radiation image conversion panel is produced by vacuum deposition and to provide an apparatus for producing the panel.例文帳に追加

放射線像変換パネルを蒸着で作製するときに突沸（スプラッシュ）による画像欠陥がない輝尽性蛍光体プレートを作製することを可能とする放射線像変換パネルの製造方法および該パネルの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a short-wavelength radiation typified by far UV, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring few development defects.例文帳に追加

遠紫外線に代表される短波長の放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a radiation detector without image defect and high quality by reducing the defects of fluorescent substance under layer by suppressing the pin hole defect and projection defect in the fluorescent substance under layer.例文帳に追加

蛍光体下地層のピンホール欠陥や突起欠陥を抑制して蛍光体層の欠陥を少なくし、画像欠陥のない高品位な放射線検出装置を提供する。 - 特許庁

A system and a method for extending the operating life of a device susceptible to defects caused by total ionizing dose radiation and/or bias dependent degradation are described.例文帳に追加

総線量の電離放射線及び／又はバイアスによる劣化によって引き起こされる欠陥の影響を受けやすいデバイスの動作寿命を延ばすシステム及び方法が記載される。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of remarkably decreasing development defects while keeping good properties of polysiloxane and sufficient principal resist performance as a chemical amplification resist and provide a polysiloxane useful as a constituent component of the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、ポリシロキサンに基づく良好な特性とレジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、現像欠陥を著しく低減し得る感放射線性樹脂組成物、及び当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can attain high sensitivity, a favorable pattern shape, favorable roughness characteristics and reduction of residue defects, and to provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin film therefrom and a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an evaluation method of a resin for evaluating a degree of occurrence of development defects at the stage of a resin material, and to provide a radiation-sensitive resin composition suitably usable as a chemically amplified resist.例文帳に追加

現像欠陥発生度合を樹脂原料段階で評価可能な樹脂の評価方法、および、化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enables formation of a pattern having good pattern collapse resistance and few development defects, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れが良好であり、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scintillator panel bringing about satisfactory productivity, and less causing temperature defects to arise even at a temperature different from that in the time of gain correction, when the panel is built in an FPD (flat panel radiation detector).例文帳に追加

生産性よく、かつ、ＦＰＤ（フラットパネル型放射線ディテクタ）に組み込まれたとき、ゲイン補正時と異なる温度においても温度Ｄｅｆｅｃｔの発生が少ないシンチレータパネルを提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that is excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, and DOF, as well as a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method minimizes the amount of peroxo-group defects in the quartz glass material and suppresses the generation of closely adjacent hydroxy groups, i.e. an essential cause of radiation-induced density decrease.例文帳に追加

この方法において、石英ガラス材料の照射誘起による密度の減少に関する本質的な原因であることが明らかになっている緊密な隣接水酸基の生成を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a producing method of radiation image conversion panel capable of extremely reducing an unevenness and spots of paint generating during forming a spread protection layer and reducing an unevenness and defects on image caused by the unevenness and spots of paint.例文帳に追加

保護層の塗布形成時に発生する塗布ムラやブツを極力低減させ、塗布ムラやブツにより引き起こされる画像上のムラや欠陥を低減させ得る放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist excelling particularly in depth of focus (DOF) and capability of substantially decreasing development defects, while maintaining excellent basic performance as a resist.例文帳に追加

レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which improves a pattern shape and exposure latitude and reduces bridge defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

パターン形状及び露光ラチチュード（Exposure Latitude）の改善とブリッジ欠陥の低減との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure having a large receding contact angle to a liquid for immersion exposure and giving a photoresist film less liable to cause development defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いフォトレジスト膜を与える液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies few development defects as well as high sensitivity, high resolution and a good pattern shape when an active ray or radiation, particularly an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線の使用に対して、高感度、高解像性、良好なパターン形状に加えて、現像欠陥の特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁