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「region of face」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索
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region of faceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2261



例文

A ceramic elastic layer 6 is provided at least in the region between the chuck electrode layers 3, 4 and the chuck face S1 of the insulating basic material 2.例文帳に追加

絶縁基材2において少なくともチャック電極層3,4とチャック面S1との間の領域は、セラミック質からなる弾性層6になっている。 - 特許庁

A P-type push-in diffusion region 440 higher in concentration than a semiconductor layer 200 is formed from the surface to the bottom face of the semiconductor layer 200.例文帳に追加

半導体層200よりも高濃度のP型の押込拡散領域440は、半導体層200の表層から底面まで設けられている。 - 特許庁

In the region B, the inclined angle is selected to result in the maximum diffraction efficiency of the first-order diffracted light for the principal rays incident perpendicular to the grating plane face.例文帳に追加

領域Bは格子面に垂直に入射する主光線に対して1次回折光の回折効率が最大になるよう上記傾斜角を選ぶ。 - 特許庁

In the recess region, a gate electrode 5, a gate insulation film 6, and a semiconductor channel layer 7 are formed sequentially upward from the bottom face of the recess.例文帳に追加

このときの凹部領域は、凹部底面からその上方に向かって、ゲート電極5、ゲート絶縁膜6、半導体チャネル層7の順で積層される。 - 特許庁

例文

The electrodeposition resist pattern 171 is so formed to cover a metallic pattern region formed while facing the metallic pattern 141 on the back face side of the mirror part 131.例文帳に追加

電着レジストパターン171は、ミラー部131の裏面側の金属パターン141に対向して形成する金属パターンの領域を被覆するように形成する。 - 特許庁


例文

Next, after removing the first buried element isolation insulating film 22, the bottom face thereof and the source region of a memory central transistor are ion injected with impurities.例文帳に追加

そして、第一の埋め込み素子分離絶縁膜22を除去した後に、その底部とメモリセルトランジスタのソース領域とに不純物をイオン注入する。 - 特許庁

The electronic parts are not actually mounted in a region in which the stator coil 35 is projected for the substrate from an infinite remote part on an anti-substrate face side of the stator coil 35.例文帳に追加

そして、ステータコイル35の反基板面側の無限遠方から基板に対してステータコイル35を投影した領域に、電子部品が実装されていない。 - 特許庁

A minute irregular region 21 is formed in the surface portion 19 having an angle to the light outgoing face 16, out of the surface portion 19 constituting the irregularities 18.例文帳に追加

凹凸部18を成す表面部19のうち、光出射面部16に対して角度を成す表面部19には、微細凹凸領域21が形成される。 - 特許庁

By this, it is possible to obtain document data 1 (namely, image data in which a pixel position is displaced corresponding to information distortion) to which the information distortion is added for each region of the whole face of one page of the bitmap data.例文帳に追加

これによって、ビットマップデータの1ページ全面の各領域毎に情報歪みが加えられた文書データ1(即ち、画素位置が情報歪に応じて変移した画像データ)を得る。 - 特許庁

例文

Further, on the printed circuit board 2, a copper foil reflecting pattern 6 taking the place of a light reflector is formed in a region from the bottom face of the light guide plate 5 to around the mounting part of the LEDs 3.例文帳に追加

また、プリント回路基板2には、導光板5の底面からLED3の実装部分にかけての領域において、反射板の代わりをなす銅箔反射パターン6が形成される。 - 特許庁

例文

A plate 8 is freely movably provided outside of a region of the rigid medium 1 to be conveyed, and it is possible to arrange this plate 8 close to the end face of the rigid medium 1.例文帳に追加

搬送するリジッドメディア1の領域外にプレート8が移動自在に設けられており、このプレート8をリジッドメディア1の端面に近接して配置することが可能になっている。 - 特許庁

In this state, the support spring member 30 exerts a spring force, that press-pushes the drive face 12 of the transducer 14 to the surface region 28 of a movable body 18 at a pair of extended parts 42.例文帳に追加

その状態で支持ばね部材30は、一対の延長部分42で、振動子14の駆動面12を可動体18の表面領域28に押し付けるばね力を発揮する。 - 特許庁

This welding determined region R is set in a position retreating from the edge 22a of the first member 21, that is, a flat face of the first member 21 rater than the edge 22a of the first member 21.例文帳に追加

この溶接予定領域Rは、第1部材21において縁22aから後退した位置、つまり、第1部材21の縁22aではなく第1部材21の平坦面に設定される。 - 特許庁

At the boundary face of the part of the circuit region 61a on the substrate 6 and the mold resin, an insulating coating layer 66 bonded more on the side of the substrate 6 than the mold resin is formed.例文帳に追加

基板6における回路領域61aの部分とモールド樹脂との界面に、モールド樹脂よりも基板6側に接着する絶縁性のコーティング層66が形成されている。 - 特許庁

On the outside of a region (recessed part 22) forming a cavity 23 on a lower face of an upper mold 3, a first groove part 26 is formed, and a second groove part 27 is formed on the outside of the first groove part 26.例文帳に追加

上型3の下面におけるキャビティ23を形成する領域(凹部22)の外側に、第1溝部26を形成し、第1溝部26の外側に第2溝部27を形成する。 - 特許庁

Preferably, the pasting step is carried out by a winding around motion in which the glaze film 4 of sheet state is wound around all the circumference of the outer peripheral face corresponding to the glaze layer formation region of the insulator 2.例文帳に追加

貼付工程は、シート状の釉薬フィルム4を、上記碍子2の釉薬層形成領域に相当する外周面全周に巻回する巻付動作により行うことが好ましい。 - 特許庁

A rear fringe part 18r of a preceding paper sheet 18 is deviated from a feed face of a front fringe part 20v of a following paper sheet 20 in the transfer region C to overlap the papers 18 and 20.例文帳に追加

用紙18,20を重なり合わせるために、移転領域C内で先行用紙18の後縁部18rが後続用紙20の前縁部20vの給送面から逸らされる。 - 特許庁

On the junction part 3a formed on one end side of a yoke 3 is formed the serration 4 which includes a number of teeth 4a extending parallel to an axial direction over whole region of its outer peripheral face.例文帳に追加

ヨーク3の一端側に形成された接合部3aには、その外周面全域に、軸方向と平行に延びる多数本の歯4aを有するセレーション4が形成されている。 - 特許庁

Therefore, it becomes possible to prevent deterioration of electrical characteristics and breakage of the vibrating region 7a when the vibrator device 1 is fixed on the upper face 21a of the substrate 21.例文帳に追加

従って、振動子デバイス1によれば、基板21の上面21aへの固定において、電気的特性の劣化、及び振動領域7aの破損を防止することが可能となる。 - 特許庁

The angle between the light reflection face S3 of each low refractive index region 14 and the light axis direction of the incident light in the light incidence plane S1 of the light diffusion sheet 10 is an angle α, and satisfies numeric expression 1.例文帳に追加

低屈折率領域14の光反射面S3は、光拡散シート10の光入射面S1における入射光の光軸方向となす角が角αであり、 - 特許庁

In addition, a partition member 4 is provided in a region between the peripheral end face 1a of the substrate and the side plate 3b of the heat reflecting member 3, which is located on the extension line of the surface composing the substrate 1.例文帳に追加

さらに、基板1の構成面の延長線上にあって、基板周端面1aと熱反射部材3の側板3bとの間の領域に仕切り部材4が設けられている。 - 特許庁

A large number of pointed portions are formed on a plane (an end face facing a second electrode (e.g. a negative electrode)) of a chip pasted to the tip at the proximal region of a first electrode (e.g. a positive electrode).例文帳に追加

第1電極(例えば、陽極)の基部の先端に貼り付けられたチップの平面(第2電極(例えば、陰極)と対向する端面)には、多数の尖頭部が形成されている。 - 特許庁

To make it unnecessary to form any spacer sheet or recessed section on the overall face of a print region, and to prevent any print failure from being generated in a level difference section formed of the thickness of an inlet section at low costs.例文帳に追加

印字領域の全面にスペーサシート又は凹み部を形成する必要がなく、かつ低コストでインレット部の厚みによって形成された段差部により印字不良を生じないこと。 - 特許庁

An image determination section 23 determines a lower limit and an upper limit of pixel values so that a range from the minimum value to the maximum value of the pixel values of the detected face region may take a prescribed rate.例文帳に追加

画像判定部23は、検出された顔の領域の画素値の最小値から最大値までの範囲が所定の割合となるように、画素値の下限値と上限値を決定する。 - 特許庁

Furthermore, in the application method, the end part of the region 10g, of which the end face of the fireproof safety glass 10 has been sealed with the heat-resistant sealing material 17, is set below the application frame.例文帳に追加

さらに本発明の施工方法は、防火安全ガラス10の端面が耐熱性封止材17で封止された領域10gの端部を施工枠の下方に設置する。 - 特許庁

In the PDP 10, for example, a plurality of address electrodes 13 formed on the surface of a rear-face glass substrate 2 respectively have electrode terminals 133 in a region at a periphery of the panel.例文帳に追加

PDP10において、例えば背面ガラス基板2の表面に形成される複数のアドレス電極13は、パネル周囲部の領域に電極端子部133を有する。 - 特許庁

The magnetron unit of the sputtering apparatus 1 has a frame 12 installed on the top face of the target 3, and has a magnet assembly 14 in the inner region of the frame 12.例文帳に追加

スパッタリング装置1のマグネトロンユニット11は、ターゲット3の上面に取り付けられたフレーム12を有し、このフレーム12の内側領域には、マグネットアセンブリ14が配置されている。 - 特許庁

To improve a device speed and a device reliability by introducing an etching stopper for preventing a coarse face of a bottom of a wiring groove to a region to be a bottom part of the wiring groove.例文帳に追加

配線溝底部の面粗れを防止するエッチングストッパーを配線溝の底部となる領域に導入することで、デバイス速度の向上、デバイス信頼性の向上を可能とする。 - 特許庁

A middle pattern image C1 displayed in a central display region of screen is displayed on a front face of a vortex image 42, and a middle pattern image C2 is displayed on a rear surface of the vortex image 42.例文帳に追加

画面の中央表示領域に表示される中図柄画像C1 は、渦画像42の前面に表示され、中図柄画像C2 は、渦画像42の背面に表示されている。 - 特許庁

The semiconductor laser device 1 comprises recesses 4 and 4 each having a depth Lr of 8.2 nm and disposed at both lateral ends of a light emitting stripe region 2 on a light emitting end face 3 of the device 1.例文帳に追加

半導体レーザ装置1の光出射端面3に、発光ストライプ領域2の幅方向両端部に位置して8.2nmの深さLrを有する凹面4,4を形成する。 - 特許庁

A region of a cap 3 joined with a washer 6 can be obtained wider by slitting the SAW device 1 so that an upper face of the package 2 being a surrounding of a cavity 4, that is, the joining region of the cap 3 is formed wider and the seal margin of the cavity 4 can be increased.例文帳に追加

キャビティ4の周囲であるパッケージ2の上面、すなわちキャップ3の接合領域を広がった形状としてSAWデバイス1を個片化することで、キャップ3をワッシャ6で接合する領域を広く取ることができ、キャビティ4の封止マージンを大きくすることが可能となる。 - 特許庁

An insulating film 11 is provided in a region from the top face of a word line 5x which is the closest to a plurality of the first injection diffusion layers 7a among a plurality of the word lines 5 to the end of the first injection diffusion layer 7a side of the diffusion bit line 2 and the element isolation region 8.例文帳に追加

複数のワード線5のうち、複数の第1の注入拡散層7aに最も近いワード線5xの上面上から拡散ビット線2の第1の注入拡散層7a側の端部上及び素子分離領域8上に至る領域に絶縁膜11が設けられている。 - 特許庁

The cam lead of the cam face of the loading cam device 8a is adjusted so that the rate of the thrust of the loading cam device 8a to the thrust of the hydraulic actuator 9a is higher in a low input torque region than in a high input toque region.例文帳に追加

前記ローディングカム装置8aのカム面のカムリードを調節する事により、このローディングカム装置8aが発生する押圧力が、前記油圧アクチュエータ9aが発生する押圧力に対する割合を、入力トルクが低い領域で、同じく高い領域に比べて高くする。 - 特許庁

In a mother board 14 for cutting out a plurality of surface-mounted type antennae, a groove 15 is formed along a boundary line L of an antenna forming region 7, and a through-hole 16 from the bottom of the groove to the bottom face of the mother board is formed in an arrangement along the boundary line of the antenna forming region.例文帳に追加

複数の表面実装型アンテナを切り出し形成するための親基板14には、アンテナ形成領域7の境界線Lに沿って溝15を形成し、溝底部から親基板底面に貫通する貫通孔16をアンテナ形成領域の境界線Lに沿って配列形成する。 - 特許庁

As for the strong electric field drift layer 6, the region almost overlapped with the rear face electrodes 4 is composed of a porous semiconductor layer 6a of an oxidized porous polycrystal silicon layer, and the rest of the region is composed of a semiconductor layer 6b of a polycrystal silicon layer.例文帳に追加

強電界ドリフト層6は、裏面電極4にほぼ重なる領域が酸化した多孔質多結晶シリコン層からなる多孔質半導体層6aにより構成され、それ以外の領域が多結晶シリコン層からなる半導体層6bにより構成されている。 - 特許庁

The article dispensing unit is provided with a first guidance board 501 for guiding articles P from an opposite (back) side to the article dispensing side of a unit main body 200 in a region opposite to the back face of a front panel 5, so that the back face of the front panel 5 can be covered with the articles P.例文帳に追加

前面パネル5の裏面に対向する領域にユニット本体200の物品被払出側と反対(背面)側から物品Pを誘導する第1誘導板501を備えているため、前面パネル5の裏面が物品Pで覆われる。 - 特許庁

To provide a method for providing a pressure-sensitive adhesive layer without protruding it out from the bottom face of an ornamental body, and to provide an ornamental article with the pressure-sensitive adhesive layer only within the region of the bottom face of the ornamental body by this method.例文帳に追加

装飾体のその底面にはみ出すことなく粘着層を設ける方法を提供すると共に、この方法によって装飾体の底面領域内にのみ粘着層を有する装飾用物品を提供せんとするものである。 - 特許庁

A silicon crystal 2 is disposed on the inside wall face of the chamber 1 from the side face of the chamber 1 exposed in a plasma generation region 13 that is a position on which the substrate 12 is mounted through the upper portion of the chamber 1 on which the antenna portion 3 is mounted.例文帳に追加

プラズマ生成領域13に晒されるチャンバ1の側面部分、すなわち、基板12が載置される位置からアンテナ部3が取付けられているチャンバ1の上部にわたって、チャンバ1の内壁面にシリコン結晶体2が配設されている。 - 特許庁

Scribe lines 31 and grooves 34 over the element forming region 32 are formed on an upper face of the silicon wafer 30 along the scribe lines 31, and SiO_2 is deposited on the upper face of the silicon wafer 30 so as to form a glass layer 40.例文帳に追加

シリコンウエハ30の上面に、スクライブライン31と、素子形成領域32に跨る溝34をスクライブライン31に沿って形成した後、SiO_2をシリコンウエハ30の上面に堆積させることでガラス層40を形成する。 - 特許庁

The photo-curable resin 14 is irradiated with the UV light in the direction of going toward the delivering face 1a from the back face 1b through the transparent film 17 to cure a part which does not overlap the shading region 18 of the photo-curable resin 14.例文帳に追加

裏面1bから吐出面1aに向かう方向の紫外光を透明フィルム17を介して光硬化性樹脂14に照射して、光硬化性樹脂14の遮光領域18と重ならない部分を硬化させる。 - 特許庁

Since the SOI layer 37 is processed from the backside to make the channel region thin, there is realized a transistor with stable characteristics, where the front face is flat, processing of the gate electrode is easy, and there is no damage on the front face of the channel.例文帳に追加

また、SOI層37の裏側から加工を施してチャネル領域を薄くするため表面は平坦であり、ゲート電極の加工が容易であり、チャネル表面にダメージがない安定した特性のトランジスタを実現する。 - 特許庁

The cleaning liquid nozzles 4 are fitted while the injection ports face an outer part in a horizontal direction so that cleaning liquid is supplied to a region to which chemical adheres in an inner face 20 of a cylindrical side wall 19 of a guard 14.例文帳に追加

この洗浄液ノズル4は、ガード14の円筒側壁19の内面20において薬液が付着する領域に洗浄液が供給されるように、その噴射口を水平方向外方に向けた状態で取り付けられている。 - 特許庁

Slanted parts 155, 156 are formed in a region in the vicinity of the light-incident faces 151, 152 of a rear face 154 opposing the light emission face 153, and a crossing angle between the slanted parts 155, 156 and the light-incident faces 151, 152 is to be 90° or more.例文帳に追加

発光面153に対向する裏面154の入光面151,152付近領域には傾斜部155,156を形成し、傾斜部155,156と入光面151,152との交差角度を90°以上とする。 - 特許庁

Then ends 9a of the proper number of support terminals 9 are mounted on a mount face 5a at a small area and a mount region is ensured in a space SP formed between the antenna main body 7 and the mount face 5a.例文帳に追加

そして、前記適数の支持端子9の端部9aが、実装面5aに小さい面積で実装され、前記アンテナ本体7と、前記実装面5aとの間に形成された空間SP内に実装領域が確保される。 - 特許庁

The planar shape of the hole is, for example, L-like shape where 2-dimension plane is effectively used while its layout is of L-like shape disposed in face to face, thus the formation region for capacitor is effectively used in plane.例文帳に追加

ホールの平面的な形状を2次元平面を有効的に活用した例えばL字型形状とし、そのレイアウト配置をL字型形状の対面配置とすることで、平面的にもキャパシタの形成領域を有効利用する。 - 特許庁

A space 7 is formed to a laminate 20 between the sheet object 5 of the uppermost layer being the sheet object of the outermost layer and the sheet object 1 of the lowermost layer over a predetermined melting region 11 where the sheet objects are melted and an expansion region expanded to the outside in the face direction from the melting region 11.例文帳に追加

積層体20には、最外層のシート体である最上層のシート体5と最下層のシート体1との間に、シート体が溶融される予め定める溶融領域11とその溶融領域11よりも面方向外方に広がった拡張領域とにわたって空間7が形成される。 - 特許庁

The COD is suppressed by turning the vicinity of the end face into a current uninjected region and the mode scattering loss is suppressed by making equal the refractive index of an external clad layer 110 and that of the first current block layer 107 and making equal the refractive index distributions between the current injected region and the current uninjected region.例文帳に追加

端面の近傍を電流非注入領域とすることでCODを抑制し、且つ、外部クラッド層110の屈折率と第1電流ブロック層107の屈折率とを等しくすることにより、電流注入部と電流非注入部との間の屈折率分布を同じにしてモード散乱損失を抑制する。 - 特許庁

A shadow mask with a skirt part 61 bent, in the tube axis direction while circulating the outer periphery of a perforated region with a large number of color selection apertures in a main face, has a connection part comprising at least two inclined faces, at a boundary part between the perforated region 62 and the skirt part 61 excluding the outer peripheral corner parts of the perforated region 62.例文帳に追加

主面に多数の色選択用開孔を持つ有孔領域6 2の外周を周回して管軸方向に屈折したスカート部61をもつシャドウマスクに、有孔領域6 2とこの有孔領域62の外周のコーナー部を除いたスカート部61との境界部に少なくとも2つの傾斜面からなる連結部を有する。 - 特許庁

A mixture obtained by mixing aqueous ammonia to the water solution of the organic polymer matter having a carboxyl group is applied to the inclined side face 10 of a semiconductor substrate 1 composed of an n^+-type semiconductor region 7, an n-type semiconductor region 8 and a p-type semiconductor region 9, and baking processing is conducted to form the protection film 6 having negative electric charge.例文帳に追加

n^+形半導体領域7とn形半導体領域8とp形半導体領域9とから成る半導体基体1の傾斜側面10に、カルボキシル基を有する有機高分子物質の水溶液にアンモニア水を混合したものを塗布し、ベ−キング処理して負電荷を有する保護膜6を形成する。 - 特許庁

例文

An anode leader wire is planed at a position shifted from the center of the lower face of an anode member, and a cathode leader layer is formed in a region biased from the center of the lower face to the direction opposite to the planting position of the lead wire.例文帳に追加

前記陽極リードワイヤを、前記陽極部材の下面の中央からずれた位置に植立させ、前記コンデンサ素子の下面において、該下面の中央から前記リードワイヤの植立位置と反対方向に片寄った領域に、前記陰極引出層を形成する。 - 特許庁




  
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