「solution resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive type pattern forming material having high sensitivity and high resolution, excellent in various performances such as dimension controllability and developed with an aqueous alkali solution and to provide a method for producing a mask for exposure in which the pattern forming material is made to function as a light shielding film.例文帳に追加

高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon-containing positive photoresist which has high resolution with respect to a radiation of ≤300 nm, particularly KrF (248 nm) or ArF (193 nm), exhibits excellent dry etching resistance and can be developed with an aqueous alkali solution.例文帳に追加

３００ｎｍ以下、特にＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（１９３ｎｍ）などの放射線に対して高分解能で優れたドライエッチング耐性を示し、アルカリ水溶液で現像することのできるシリコン含有ポジ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a method for the recovery of an optically active organic acid and an optically active amine useful as a synthetic intermediate for optically active pharmaceuticals and agrochemicals or an optical resolution agent from an alcohol solution of the optically active amine and the optically active organic acid.例文帳に追加

光学活性アミンと光学活性有機酸のアルコール溶液から、光学活性医農薬合成中間体あるいは光学分割剤として有用な光学活性有機酸と光学活性アミンを回収する方法の提供。 - 特許庁

To produce a composition for the underlayer film of a resist excellent in the reproducibility and resolution of a resist pattern when the composition is kept warm over a long period of time and excellent also in adhesion to the resist and resistance to a developing solution used after the exposure of the resist.例文帳に追加

組成物を長期保温した場合のレジストパターンの再現性や解像度に優れ、レジストとの密着性に優れ、レジストを露光した後に使用する現像液に対する耐性に優れたレジスト下層膜用組成物に関する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist having excellent heat resistance, sensitivity and resolution, having a fast resist stripping rate with ozone water, being developable with an alkali aqueous solution, and hardly producing scum as a dissolution residue of the resist upon development.例文帳に追加

耐熱性、感度及び解像度に優れ、オゾン水によるレジスト剥離速度が速く、アルカリ水溶液で現像することができ、さらに現像の際にレジストの溶け残り物であるスカムが生じ難いポジ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

On the other hand, when a monomer having no functions of becoming alkali-soluble by leaving a protective group of an ester by an acid is used, the homopolymer included in the monomer causes a scum (an insoluble material) in an alkali developing solution to provide the insufficient resolution.例文帳に追加

一方、酸によりエステルの保護基が脱離しアルカリ可溶になる機能を持たないモノマーを使用した場合、そのモノマーに含まれるホモポリマーはアルカリ現像液でのスカム（不溶解物）発生により十分な解像度が得られない。 - 特許庁

When the retrieval conditions logically satisfying a part of the context retrieval conditions are already registered in a retrieval history table 2, a solution candidate retrieval part 405 certifies the past retrieval resolutions for the retrieval conditions as retrieval resolution candidates.例文帳に追加

解候補検索部４０５は、コンテキスト検索条件の一部を論理的に満足する検索条件が検索履歴テーブル２に既登録であれば、その検索条件に対する過去の検索解を検索解候補と認定する。 - 特許庁

To provide a method for producing a positive photosensitive resin composition which is developed with an alkaline aqueous solution in a short time, is produced in commercial production facilities, and forms a pattern having high resolution and high film thickness retention.例文帳に追加

アルカリ水溶液による短時間での現像が可能であり、量産設備で製造が可能で、かつ高解像度で膜厚保持率の高いパターンを形成できるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition or a transfer material being developable with a low alkaline developing solution even in the case of any of positive type and negative type photosensitive resin compositions or a photosensitive resin layer transfer material, having high resolution giving a pattern having excellent removing solution resistance after heat curing and exhibiting excellent aging stability of a photosensitive material.例文帳に追加

ポジ型、ネガ型の何れの感光性樹脂組成物、又は感光性樹脂層転写材料においても弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度が高く、熱硬化処理後の剥離液耐性に優れたパターンが得られ、かつ感材の経時安定性にも優れた感光性樹脂組成物或いは転写材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is thoroughly developed, has high sensitivity, high resolution, good adhesion to a substrate and excellent etching resistance, can be developed with a dilute aqueous alkali solution and makes stripped pieces small in stripping with an aqueous alkali solution and to provide a photosensitive resin laminate and a method for producing the same.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer having a narrow molecular weight distribution, and exhibiting excellent solubility in a developing solution of the polymer, resolution of a resist composition and depth of focus, when used for a resist composition.例文帳に追加

分子量分布が狭い重合体の製造方法を提供することを目的とし、レジスト組成物に用いた場合に重合体の現像液への溶解性並びにレジスト組成物の解像度および焦点深度に優れた性能を発揮できるようにする。 - 特許庁

To provide a developing solution composition capable of improving development properties, such as sensitivity, resolution, pattern features, and film residual rate in a photolithographic process which uses a photosensitive composition containing a polyarylene resin having a crosslinking functional group.例文帳に追加

架橋性官能基を有するポリアリーレン樹脂を含有する感光性組成物を使用したフォトリソグラフィ方法において、感度、解像度、パターン形状、残膜率などの現像性を向上させることができる現像液組成物を提供する。 - 特許庁

An adjacent node that receives the situation information, processes the received information in accordance with a resolution (data solution) profile in the network environment defined by the visibility function according to a visibility parameter contained in the situation information and retransmits the information to a further adjacent node.例文帳に追加

受信した隣接ノードは状況情報に含まれる視認性パラメータにより、視認性関数により定義されるネットワーク環境内の分解能（データ解決）プロフィールに従って受信した情報を処理し、さらなる隣接ノードに再送信する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion in development and heat resistance, capable of being developed with an alkaline aqueous solution, and giving a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

A photosensitive composition containing polyimide and a polyamic acid block copolymer is used to adjust solubility in an aqueous alkaline solution to produce a semiconductor protective film and ITO insulating film of OLED having high resolution and excellent temporal stability.例文帳に追加

ポリイミドとポリアミド酸のブロック共重合体とを含む感光性組成物を用い、アルカリ水溶液に対する溶解度を調節されることにより高解像度と、優れた経時安定性に優れた半導体保護膜及びＯＬＥＤのＩＴＯ絶縁膜。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition developable with an aqueous alkali solution, having excellent mechanical properties (mechanical strength), sensitivity, resolution and heat resistance and giving a pattern of a good profile, and to provide a method for producing a pattern using the positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像可能であり、機械物性（機械強度）、感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるポジ型感光性樹脂組成物および該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition excellent in resolution of a resist pattern after development while having high sensitivity, excellent also in tenting property of a hardened film and flocculating property during dispersion in a developing solution, and useful as an alkali developable DFR for manufacture of a printed wiring board.例文帳に追加

高感度でありながら現像後のレジストパターンの解像性に優れ、また硬化膜のテンティング性、現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用ＤＦＲとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in resolution and adhesion, ensures a good resist profile and good chemical resistance, and can be developed with an alkaline aqueous solution, a photosensitive resin laminate using the photosensitive resin composition and usage of the same.例文帳に追加

解像度及び密着性に優れ、かつ良好なレジスト形状、耐薬品性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる、感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体とその使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive thermosetting resin composition easy to use, because of its superior preservation stability, developable with a low alkaline aqueous solution of about pH 10, having high resolution and giving a film which is superior in transparency heat and solvent resistances and insulating property, after curing.例文帳に追加

保存安定性が優れるため、使用しやすく、ｐＨ１０程度の弱アルカリ性水溶液で現像が可能で、解像度が高く、硬化後の膜が透明性に優れ、耐熱性、耐溶剤性、絶縁性に優れたポジ型感光性熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid treatment device capable of preventing a phenomenon or so called a loading effect, wherein the production amount of resolution products or the concentration of a developing solution becomes different locally and an etching speed or the like is changed, and capable of uniformly developing a photo mask such as a reticle or the like.例文帳に追加

溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象を防止し、レチクル等のフォトマスクに対する均一な現像処理が可能な液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition capable of forming a resist pattern good in sensitivity and resolution at the time of using an exposure light of ≤250 nm, especially, ≤220 nm, and by using a specified resin which has repeated units and is decomposed by acid to increase solubility to alkaline developing solution.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive polymer composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and high resolution, and capable of forming a pattern form thin film that is superior in flatness, heat resistance, solvent resistance and transparency.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、高感度、かつ高解像度の感放射線性重合体組成物であり、さらに平坦性、耐熱性、耐溶剤性、透明性に優れたパターン状薄膜を形成できるポジ型感放射線性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having superior sensitivity and resolution and also having superior property of dry-to-touch, peelability and property of suppressing the contamination of a plating solution as a resist for etching and plating used in the manufacture of a printed wiring board and in the precision working of metal.例文帳に追加

プリント配線板の製造や金属の精密加工等に用いられるエッチングやめっき用のレジストとして、優れた感度、解像性を有し、かつ優れた指触乾燥性、剥離性、耐めっき液汚染性を合わせ持つ感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a phantom for evaluating a radioactive concentration resolution for a gamma camera or the like, capable of setting a plurality of radioactive concentrations by only once concentration regulation, without requiring a plurality of times of concentration regulation for a radioactive solution filled into the phantom, and capable of setting repeatingly the radioactive solution of the same radioactive concentration ratio when evaluating the plurality of gamma cameras or the like.例文帳に追加

ファントムに充填する放射性溶液の濃度調整を複数回必要とせず、１回の濃度調整のみで複数の放射能濃度の設定を行うことができるとともに、複数のガンマカメラ等の評価を行う際に同じ放射能濃度比の放射性溶液を繰り返し設定することができるガンマカメラ等の放射能濃度分解能評価用ファントムを提供する。 - 特許庁

Sampling data are inputted, multiple resolution analysis is performed based on the sampling data, the characteristics of an evaluation function are accurately grasped by utilizing analytical results of the multiple resolution analysis to analyze evaluation function space, such an optimization processing means as makes operation processing load calculating a solution small is selected and executed and also whether or not solutions are converged is decided by carrying out the optimization processing means.例文帳に追加

サンプリングデータを入力し、サンプリングデータに基づいて多重解像度解析をして、多重解像度解析の解析結果を活用して評価関数空間の解析をすることで、評価関数の特徴を的確に把握し、解を求める演算処理負荷を小さくするような最適化処理手段を選択・実行するとともに、最適化処理手段の実行により解が収束しているか否かを判定する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of achieving excellent compatibility when forming a dry film and excellent resolution and close adhesion property, showing equal sensitivity when exposed to light of exposure machines of both types of i-line and h-line, and developing by an alkaline aqueous solution without generating condensate during development.例文帳に追加

ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、ｉ線、ｈ線の両方タイプの露光機した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像可能であり、かつ現像時に凝集物を発生しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a developing solution having stable developing activity, excellent development accelerating property, developing particularly a photosensitive resin in a proper time, having excellent resolution and property of removing residue on development and having no adverse effect on the semiconductor characteristics of a semiconductor device such as TFT(thin film transistor).例文帳に追加

安定した現像活性を有し現像促進性に優れ、特に感光性樹脂を適切な時間で現像し、解像度および現像残渣の除去性に優れると共に、ＴＦＴ等の半導体素子の半導体特性に及ぼす悪影響がない現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is highly sensitive with respect to light having wavelength of 350 nm to 410 nm and excellent in terms of resolution, adhesion and developing property after exposure and has a good solubility with respect to solution and with which a stable throughput can be obtained and deposit on resist hardly occurs.例文帳に追加

波長３５０ｎｍ〜４１０ｎｍの光線に対して非常に高感度であり、解像性、密着性、露光後の焼き出し性に優れるとともに、安定したスループットが得られ、更に溶剤に対する溶解性が良好で、レジストに析出物が発生し難い感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution and adhesion and can be developed with an alkaline aqueous solution, to provided a photosensitive resin laminate that uses photosensitive resin composition, and to provide a method for forming a resist pattern on a substrate using the photosensitive resin laminate.例文帳に追加

感度、解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an alkali developing solution giving a stable pattern shape because of a long allowed time of development time, capable of forming a resist pattern with little residue on development, a good pattern shape and good resolution and having high developing capacity in a colored pattern forming step using a photosensitive composition.例文帳に追加

感光性組成物を用いた着色パターン形成工程において、現像処理時間の許容時間が長く安定したパターン形状が得られ、現像残りが少なく、パターン形状、解像度が良好なレジストパターンを得ることができ、現像処理能が大きい現像液を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, which has a chemical structure with high durability against dry etching and shows excellent resolution without swelling in a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution as a standard developer.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、標準現像液である２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method for forming an image, the above silver halide color photographic material is exposed under the conditions of ≤5 μsec exposure time for blue, green and red colors per one pixel and ≥200 dpi resolution and then developed for ≤100 seconds of total wetting time at ≥40°C developer solution temperature.例文帳に追加

並びに、そのハロゲン化銀カラー感光材料を、青、緑、及び赤色の露光時間が一画素あたり５μ秒以下で、２００ｄｐｉ以上の解像度で露光し、次いで合計湿潤時間が１００秒以下で、発色現像液温度が４０℃以上の現像処理をする画像形成方法。 - 特許庁

To provide a heat-developable photosensitive material capable of forming an image by a simple environmentally-benign developing system without using solution type processing chemicals, excellent in decolorability after development and giving a high resolution clear black image and to provide an imaging method using the material.例文帳に追加

溶液系処理化学薬品を使用せずに、簡便で環境を損なわない現像処理システムにより画像形成でき、且つ現像処理後の消色性に優れ、解像度の高い鮮明な黒色画像を示す熱現像感光材料及びこれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photothermocurable resin composition developable in an aqueous alkaline solution and high in resolution and superior in resistance to heat and chemicals and moisture and PCT and superior in electric characteristics by incorporating a specified photosensitive prepolymer, a specified photopolymerization initiator, a reactive diluent, and an epoxy compound.例文帳に追加

露光時の光硬化深度が大きく高解像度が得られ、優れた耐熱性、耐薬品性、電気特性、耐吸湿性、ＰＣＴ耐性を有する硬化物を与え、かつ加熱を伴う諸工程においてミストを発生しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that is developable with an aqueous alkaline solution, has high sensitivity and high resolution, is tackfree, has good heat resistance, etching resistance and storing stability, and is easy to be removed when used as an etching resist, and to provide an alkaline soluble resin as a constituent thereof.例文帳に追加

アルカリ水溶液を用いて現像可能な、高感度、高解像度を有し、さらに、タックフリーで、耐熱性、耐エッチング性、保存安定性も良好で、しかもエッチングレジストとして用いた場合に容易に除去できる感光性樹脂組成物及びその構成成分であるアルカリ可溶性樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide precursor composition, which shows high sensitivity and high resolution and a part of which is developable excellently with an alkali solution, a pattern forming method capable of forming a pattern showing excellent heat resistance and chemical resistant, and a highly reliable electronic component.例文帳に追加

高感度及び高解像度を示す感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物、またその一部はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造法及び信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming technique capable of efficiently forming a high resolution pattern for use in microfabrication using a radiation sensitive composition as a photoresist which can be developed with an aqueous alkali solution, has high sensitivity characteristics and is reversed from negative type to positive type in accordance with dose.例文帳に追加

アルカリ水溶液によって現像可能であり、高感度な特性を有し、照射量によってネガ型からポジ型に反転する感放射線組成物をホトレジストに用いて、微細加工に用いる高解像度なパターンを効率よく形成することのできるパターン形成技術を提供する。 - 特許庁

To provide a controller of a boiler plant for safely and stably controlling the operation of a control object to retrieve an optimal solution by extremely excluding any risk falling into a local optimal resolution even if there is any error between behaviors of a model simulating a control object and an actual control object.例文帳に追加

制御対象を模擬したモデルと実際の制御対象との挙動との間に誤差がある場合でも、局所最適解に陥るリスクを極力排除して制御対象を安全で安定に運転制御して最適解を探索できるボイラプラントの制御装置を提供する。 - 特許庁

A method for optically resolving the benzylamine derivative comprises carrying out optical resolution by depositing an optically active (S)-benzylamine derivative as an (S)-mandelic acid salt in a solution containing the benzylamine derivative and an (S)-mandelic acid.例文帳に追加

（式中、Ａｒは置換基を有しても良い炭素数６〜１５のアリール基を示し、式（１）中の＊１は不斉炭素原子を示す。）前記ベンジルアミン誘導体と（Ｓ）−マンデル酸とを含む溶液中にて、光学活性（Ｓ）−ベンジルアミン誘導体を（Ｓ）−マンデル酸塩として析出させて光学分割を行う。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition developable with an alkali developing solution having a normal concentration, capable of forming a resist pattern having high resolution and a rectangular cross-sectional shape as an ordinary line-and-space pattern and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液を適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で断面形状が矩形であるレジストパターンを形成することができ、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁