「solution resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist material, of a chemically amplified type in particular, for use in lithography with a high-energy light source in particular, having a practically sufficient level of etching resistance, excellent in adhesion to a substrate and in affinity with the developing solution, much higher than conventional materials in sensitivity and in resolution performance, and swelling less during the developing process.例文帳に追加

特に高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、実用レベルのエッチング耐性を有し、基板密着性及び現像液親和性に優れ、従来品を大きく上回る感度と解像性を有し、加えて現像時の膨潤の小さいレジスト材料、特に化学増幅型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a positive-type photosensitive resin composition capable of obtaining a high-sensitivity, high-resolution pattern, having low linear expansion coefficient and giving uniform film thickness because of the superior dispersibility of an alkali soluble resin, a photosensitive diazo quinone compound and an inorganic oxide colloid solution to each other, and to provide a semiconductor device and a display device.例文帳に追加

高感度で高解像度のパターンを得ることができ、低線膨張係数を有し、アルカリ可溶性樹脂と感光性ジアゾキノン化合物と無機酸化物のコロイド溶液との分散性に優れるため膜厚が均一なポジ型感光性樹脂組成物の製造方法並びに半導体装置及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.例文帳に追加

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method using a negative image forming material on which an image is recorded with the use of IR laser by which an image having excellent resolution and printing durability is formed even though a heat treatment is not carried out after exposure, and a planographic printing plate having stable quality is obtained when subjected to a development processing with always constant solution activity.例文帳に追加

赤外線レーザを用いて記録するネガ型画像形成材料からの画像形成方法において、露光後加熱処理を施さずとも、解像力、耐刷性に優れた画像を形成し、常に一定の液活性のもとで現像処理することによって、安定した品質の平版印刷版を作製することができる方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a UV-curing resin composition excellent in developability, resolution, development latitude and resistance to the heat of soldering and capable of preparing a photo-soldering resist ink developable with a dilute aqueous alkali solution and capable of forming a soldering resist which exhibits excellent adhesion to a substrate, excellent electric corrosion resistance and particularly excellent resistance to the heat of soldering and to gold plating on the substrate.例文帳に追加

現像性、解像性、現像幅及びはんだ耐熱性に優れ、また優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクを調製できる紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain the positive silicone-containing photosensitive composition high in sensitivity and resolution, especially in manufacture of semiconductor devices by incorporating a specified polymer insoluble in water and soluble in alkaline solutions and polymer or the like having the property that the solubility in an alkaline developing solution is increased by action of acids.例文帳に追加

Ｄｅｅｐ−ＵＶ領域での光吸収が小さく、短波長光源に対応し得る感光性組成物を提供することであり、詳しくは高感度で且つ高い解像力を有し、更に、特に０．２μｍ以下の微細パターンに於ける現像処理後の膜減りが少なく、矩形形状を与える感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures high shelf stability of a solution of the composition, enhances dissolution contrast between unexposed and exposed parts and forms a pattern with high sensitivity and good resolution while maintaining a high rate of a residual film, a method for producing an accurate pattern of a good shape and high reliability electronic parts with a pattern obtained by the method.例文帳に追加

本発明は、組成物溶液の保存安定性が高く、未露光部と露光部の溶解コントラストを高くし、高い残膜率を維持しながら高感度で解像性の良好なパターンを形成させる感光性樹脂組成物、 良好な形状の精密なパタ−ンの製造法及び前記製造法により得られるパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide methods for manufacturing an insulating layer and/or a surface protection layer obtained from a photosensitive resin composition, excellent in both sensitivity and resolution, allowing quick development by only an aqueous alkali solution, excellent in tightness with respect ot a base material, and further capable of obtaining a light-colored coating film of a polyimide resin after imidized, and a method for manufacturing a circuit board provided therewith.例文帳に追加

感度、解像度ともに優れ、アルカリ水溶液のみによって迅速に現像することができ、しかも、基材との密着性に優れ、さらには、イミド化後に淡色のポリイミド樹脂の皮膜を得ることのできる感光性樹脂組成物から得られる絶縁層および／または表面保護層の製造方法、および、それらを備える回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in sensitivity with respect to an exposure light source having the wavelength of 405±10 nm and resolution, having satisfactory tenting properties, and capable of being developed by an alkali aqueous solution, a photosensitive resin laminated body using the photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern on the substrate using the photosensitive resin stacked body, and the use of the resist pattern.例文帳に追加

４０５±１０ｎｍの波長の露光光源に対する感度、解像度に優れ、テンティング性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。 - 特許庁

In an organic electroluminescence element having plural organic layers containing at least one light emission layer sandwiched between an anode and a cathode, at least one of the light emission layers contains a phosphorescent compound, and at least one of the organic layers contains a metal complex layer formed by mixing solution containing at least one selected from a metal source and a metal complex with solution containing a ligand and then coating or by separately coating each resolution, thereby forming metal complex polymer.例文帳に追加

陽極と陰極に挟まれた少なくとも１層の発光層を含む複数の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該発光層の少なくとも１層はリン光発光性化合物を有し、かつ、該有機層の少なくとも１層が、金属ソース及び金属錯体から選ばれる少なくとも１つを含む溶液と配位子を含む溶液を混合した後に、若しくは別々に塗布し、金属錯体ポリマーを形成することにより形成される金属錯体層を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having proper resolution after development, so superior in dispersion stability in a developing solution as not to generate scums, superior in flexibility of a cured film, and having tenting properies and proper etchant resistance, and a photosensitive resin laminate having a photosensitive resin layer formed of the composition, and to provide a resist pattern forming method that uses the laminate and a conductor pattern producing method.例文帳に追加

現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition containing a low toxicity compound having an ethylenically unsaturated group, having superior photosensitive characteristics such as high sensitivity and high resolution and capable of good development with an aqueous alkali solution, to produce a pattern having superior heat and chemical resistances and to obtain electronic parts having enhanced reliability.例文帳に追加

本発明は、従来のものに比べ毒性の低いエチレン性不飽和基を有する化合物を含み、高感度、高解像度などの優れた感光特性を有する感光性ポリイミド前駆体組成物、及び該組成物はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造方法並びに前記のパターンを有することにより信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁