「step region」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

In a step S30, the central coordinates of the texture pixels in a region including reference texture end coordinates S_End are calculated as reference texture correction end coordinates S/End'.例文帳に追加

ステップＳ３０では、参照テクスチャ終点座標Ｓ＿Ｅｎｄを含む領域のテクスチャ画素の中心座標を参照テクスチャ補正終点座標Ｓ＿Ｅｎｄ’として算出する。 - 特許庁

The controller of the substrate treating device decides the optimum luminous exposure at the time of exposing the peripheral edge region of the substrate in accordance with the thickness of the resist film (step S106).例文帳に追加

基板処理装置のコントローラは、このレジスト膜の膜厚に応じて、基板周縁側のエッジ領域を露光する際の最適な露光量を決定する（ステップＳ１０６）。 - 特許庁

On the region including these step differences S1, S2, a first pattern difference P11 having a predetermined width over at least high and low levels is provided.例文帳に追加

これらの段差Ｓ１，Ｓ２を含む領域上において、少なくとも高いレベルと低いレベルに渡って所定幅を有する第１パターンＰ１１が設けられている。 - 特許庁

A P+ emitter region 41 is formed from above a step difference and an interval 42 is enlarged by the influence of acceleration oxidation to the collector buried layer 29.例文帳に追加

段差の上部からＰ＋エミッタ領域４１を形成すること及びコレクタ埋め込み層２９に対する増速酸化の影響により、間隔４２を拡大する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes an irradiation step of irradiating at least part of a region to be irradiated of a silicon crystal with ions of light elements or electron beams.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、シリコン結晶の少なくとも一部の照射対象領域に軽元素イオン又は電子線を照射する照射工程を備えている。 - 特許庁

Since the high melting metal layer has good step coverage, the high melting metal layer does not break by the level difference of the opening on the upper face of the forming region of the photodiode.例文帳に追加

その結果、高融点金属層はステップカバレッジが良いので、フォトダイオードの形成領域上面にある開口部の段差で高融点金属層は破断しない。 - 特許庁

The method further includes a step of specifying at least one potential allocation customer so that at least one femto base station is allocated in the geographic region.例文帳に追加

方法は、更に、少なくとも１つのフェムト基地局を地理的領域内で配置するよう少なくとも１つの潜在的な配置カスタマを特定することを含む。 - 特許庁

The method includes a step in which a reference model (70) is generated based on training voice signals and the model (70) is compensated for added noise in a cepstrum region.例文帳に追加

上記方法は、訓練音声信号に基づいて参照モデル（７０）を発生し、ケプストラム領域内において、付加ノイズに対する参照モデル（７０）を補償するステップを含む。 - 特許庁

Region discrimination data indicating whether pixels are in or out of the contour L of the character are prepared for reducing the step-like block noise generated in extending the data.例文帳に追加

データ伸張時に生じる階段状のブロックノイズを低減するため、各画素がキャラクターの輪郭Ｌよりも内部か否かを示す領域識別データを用意する。 - 特許庁

Simultaneously, the powder material P is applied with a fixed thickness on a first stage 20a and the overlapping region 20v using a material supply apparatus 31 (coating step).例文帳に追加

同時に第１ステージ２０ａとオーバーラップ領域２０ｖに、材料供給装置３１を使用して粉末材料Ｐを一定の厚さで供給する（被覆工程）。 - 特許庁

The recording pixel in the pixel region 450 is recorded to a recording medium in accordance with the number of the scannings in the horizontal scanning direction by horizontally scanning a BK head 162 (step 265).例文帳に追加

ＢＫヘッド１６２の主走査により、画素領域４５０の記録画素が、主走査方向への走査回数に応じて、記録媒体に記録される（ステップ２６５）。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display element having high display grade by preventing mixing of foreign matters into a display region when a rubbing treatment is performed in a manufacturing step.例文帳に追加

製造工程におけるラビング処理を行う際、表示領域への異物の混入を防止することにより、表示品位の高い液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

Making it easier for SMEs to export is an important step that APEC can take to encourage the growth and development of SMEs in the region. 例文帳に追加

中小企業が輸出を行いやすくすることは，ＡＰＥＣが地域における中小企業の成長と発展を奨励するためにとることができる重要な一歩である。 - 経済産業省

We also endorsed the APEC Guidelines for Advance Rulings as a critical step to increase the certainty and predictability of moving goods throughout the region.例文帳に追加

我々はまた，地域全体にわたる物品の移動の確実性及び予測可能性を高めるための重大な措置として，ＡＰＥＣ事前教示ガイドラインを承認した。 - 経済産業省

To provide a method for manufacturing a semiconductor memory element, which has a shallow trench isolation (STI) region and a deep trench isolation (DTI) region, which can simplify a step of forming these trench isolation regions, and which can realize a low manufacturing cost and an excellent electrical characteristic of the STI insulating film region.例文帳に追加

浅いトレンチ分離(ＳＴＩ)領域及び深いトレンチ分離(ＤＴＩ)領域を有し、これらのトレンチ分離領域を形成する工程を簡素化した、製造コストが安く、ＳＴＩ絶縁膜領域の電気的特性に優れた素子を得ることができる半導体メモリ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This invention further relates to a method for pasting a label to a label carrier, a bottle, in particular, comprising the step of printing the labels at a label manufacturing region and punching them out, placing them at the label magazine 14 just after the punching operation, and transferring the label magazine 14 full of labels from the label manufacturing region to the label pasting region.例文帳に追加

さらに、ラベル製造領域でラベルを印刷して打抜くステップと、その後すぐにそれらをラベルマガジン１４に置くステップと、満杯のラベルマガジン１４を、ラベル製造領域からラベルをラベルキャリヤに貼り付けるラベル貼り付け領域に移送するステップとを備える、ラベルキャリヤ、特にボトルにラベルを貼り付ける方法に関する。 - 特許庁

In the transparent electrode layer etching step, a laser beam is emitted so that the length of a line irradiated with the laser beam in the neighboring region before removing the photoelectric conversion unit may exceed the end of a power generation region as a region where power is extracted at the time of power generation, and may be ≤10 mm.例文帳に追加

前記透明電極層エッチング工程において、前記光電変換ユニットを除去する前の前記周囲領域内でレーザーが照射されるラインの長さが、発電時に電力の取り出される領域である発電領域の端部を越え、且つ、１０ｍｍ以下となるように、レーザーを照射する。 - 特許庁

To put it in the concrete, a phase encoding quantity is set so as to perform the arrangement of the data temporally and alternately to the region of reverse polarity with a zero encode in a phase encoding direction in the space (k) as a center and so that a phase encode step may advance from a high frequency region to the low frequency region in time series.例文帳に追加

具体的には、ｋ空間における位相エンコード方向の零エンコードを中心とする逆極性の領域に対して経時的に交互に行われるように、かつ、位相エンコードステップが高周波領域から低周波領域に時系列的に進むように位相エンコード量が設定される。 - 特許庁

Before or during the step (ii), a nitride or oxynitride layer (5) of a semiconductor of the thin layer (3) is formed on the exposed region (3a) with a thickness sufficient to provide a ratio of the rate of oxygen diffusion though the exposed region (3a) to that through the region (3b) covered with the mask (4) that is greater than 2.例文帳に追加

ステップ（ii）の前又は最中に、薄い層（３）の半導体の窒化物又は酸窒化物の層（５）は、露出領域（３ａ）上に形成され、上記層（５）の厚さは、露出領域（３ａ）を通る酸素の拡散速度とマスク（４）で覆われる領域（３ｂ）を通る酸素の拡散速度との比が２より大きくなるようにする。 - 特許庁

Offset of an image signal is corrected for performing black level adjustment of the image signal for each imaging region and a gain of the image signal is then corrected for adjusting an output value of the image signal for each imaging region, thereby removing the image step caused by an output difference of the image signal for each imaging region.例文帳に追加

撮像領域毎の画像信号の黒レベル調整を行うために画像信号のオフセットの補正を行い、その後、撮像領域毎の画像信号の出力値の調整を行うために画像信号のゲインの補正を行うことで、撮像領域毎の画像信号の出力差による画像の段差を取り除く。 - 特許庁

A CPU 30 reads a card information group stored in a cassette 200 to a bag region 51 and reads only a one with a readable flag of '1' of the card information group read to the bag region 51 to a deck region 52 for storing the card information readable to a game screen (Step 1700).例文帳に追加

ＣＰＵ３０は、カセット２００に記録されているカード情報群をかばん領域５１に読み出し、次いで、かばん領域５１に読み出したカード情報群の内、読み出し許可フラグが「１」のもののみを、ゲーム画面内に出し合うことが可能なカード情報を記憶するデッキ領域５２に読み出す（ステップＳ１７００）。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method includes a laser annealing step for heating the side of a principal plane 1a of a wafer (semiconductor wafer) WH by applying a laser light LZ to the side of the principal plane 1a of the wafer WH following a scanning path 15 extending from a peripheral region 1d through a device region 1c to the peripheral region.例文帳に追加

ウエハ（半導体ウエハ）ＷＨの主面１ａ側に、周縁領域１ｄからデバイス領域１ｃを経由して前記周縁領域に至る走査軌道１５に沿ってレーザ光ＬＺを照射し、ウエハＷＨの主面１ａ側を加熱するレーザアニール処理工程を以下のように行う。 - 特許庁

The pattern display control means performs two-step stop display control by temporarily stopping an adjoining region W1b adjacent to the central region W1a of a high dividend pattern W1, thereafter stopping the central region W1a on the prize line L1 to display at a standstill the high dividend pattern W1 on the prize line L1.例文帳に追加

図柄表示制御手段は、高配当図柄Ｗ１の中央領域Ｗ１ａに隣接する隣接領域Ｗ１ｂを一時停止させた後に、中央領域Ｗ１ａを入賞ラインＬ１上に停止させて、高配当図柄Ｗ１を入賞ラインＬ１に停止表示させる二段階停止表示制御を行う。 - 特許庁

The exposure method has a step in which leveling sensor light is made incident into an exposure region on the surface of an SOI substrate before emitting exposure light in the exposure region and a leveling correction is performed by detecting reflected light beams generated by reflection of incident light beams 4a, 4d of the leveling sensor light from the exposure region.例文帳に追加

本発明に係る露光方法は、ＳＯＩ基板の表面の露光領域に露光光を照射する前に、前記露光領域にレベリングセンサー光を入射し、その入射光４ａ，４ｄが前記露光領域で反射する反射光を検出することによりレベリング補正を行う工程を有する露光方法である。 - 特許庁

The trench substrate includes a base substrate 102; an insulating layer 112 formed on one or both surfaces of the base substrate 102 and having a circuit region therein and having a trench formed in a dummy region of a product edge; and a circuit layer 124 including a circuit pattern and a via formed in the interior of the trench formed in the circuit region by a plating step.例文帳に追加

ベース基板１０２、前記ベース基板１０２の一面または両面に積層され、回路領域を含み製品縁部のダミー領域にトレンチが形成された絶縁層１１２、及び前記回路領域に形成されたトレンチの内部にメッキ工程で形成された回路パターン及びビアを含む回路層１２４を含む。 - 特許庁

To enhance reliability of a gate terminal/wiring and a drain terminal/wiring by preventing progress of wiring corrosion from the cut surface of an inner element region even after the inner element region is completed and the inner element region is separated from a electrostatically protective wiring and a electrostatically protective element, in a manufacturing step of a thin film transistor substrate.例文帳に追加

薄膜トランジスタ基板の製造工程中において、内部素子領域が完成し、内部素子領域を静電保護配線及び静電保護素子から切り離した後でも、内部素子領域の切断面から配線腐食が進行を防止し、ゲート端子／配線及びドレイン端子／配線の信頼性を向上させる。 - 特許庁

In a next crystallization step, the intensity of the laser light 50 is optically modulated, so that a cyclic light and dark pattern can be projected onto the region R, the first division region D in the upper left of the substrate 0 is irradiated with the modulated pattern, the identical region D is again irradiated with the pattern so as not to overlap therewith at least once by shifting the region R.例文帳に追加

次の結晶化工程では、照射領域Ｒに周期的な明暗のパタンを投影可能な様にレーザ光５０の強度を光学変調して、基板０の左上にある最初の分割領域Ｄを照射し、更に少なくとも一回該明暗のパタンが重複しない様に照射領域Ｒをずらして同一の分割領域Ｄを再度照射する。 - 特許庁

In the multi-wiring film forming step, a dummy pattern formed by vertically linking together the wirings and the vias is formed in a region other than the dicing region in the scribe line region, and no dummy pattern formed by vertically linking together the wirings and the vias is formed at least on an upper part of the interlayer insulating film in the dicing region.例文帳に追加

そして、前記多層配線膜を形成する工程において、前記スクライブライン領域における前記ダイシング領域を除く領域には、前記配線及び前記ビアを上下方向に連結させたダミーパターンを形成し、前記ダイシング領域における前記層間絶縁膜の少なくとも上部には、前記配線及び前記ビアを上下方向に連結させたダミーパターンを形成しない。 - 特許庁

There is provided the method of manufacturing the electronic element substrate, including a resistance reduction processing step of reducing the specific resistance of the partial region or the whole region of the oxide in a substrate at least a part of the outermost surface layer of which is made of the oxide having specific resistance of ≤1×10^9 Ωcm by applying a potential higher than the potential of the substrate to the partial region or the whole region.例文帳に追加

少なくとも最表層の一部が比抵抗１×１０^９Ω・ｃｍ以下の酸化物からなる基板における前記酸化物の一部領域又は全領域に対し、前記基板の電位よりも高い電位を印加することにより、前記一部領域又は前記全領域の比抵抗を低下させる低抵抗化処理工程を有する電子素子基板の製造方法である。 - 特許庁

An electroplating method includes each step of forming a seed region to be electroplated on a first portion of a substrate, forming a ground plane on a second portion of a substrate, electrically isolating the ground plane from the seed region, electroplating the region, wherein the electroplating includes causing the ground plane and the region to make electrical connection, and then removing the ground plane from the second portion of the substrate.例文帳に追加

電気めっき方法は、電気めっきされるシード領域を基板の第一の部位に形成し、グラウンド面がシード領域から電気的に分離されるように、基板の第二の部位にグラウンド面を形成し、シード領域に電気めっきを施し、電気めっきはグラウンド面と前記領域に電気接続を行わせることを含み、基板の第二の部位からグラウンド面を除去する、各工程を含む。 - 特許庁

This manufacturing method contains a step in which the impurities are selectively introduced at a first concentration, into a region for nonvolatile memory cells 20R and a region for the electrostatic discharge damage countermeasure transistors 10R in the semiconductor substrate 1, and thereby the tunnel diffusion layer 24 is formed; and at the same time, a source region 11 and a drain region 12 of the electrostatic discharge damage action transistor are formed.例文帳に追加

この製造方法は、半導体基板１において不揮発性メモリセル用領域２０Ｒおよび静電破壊対策トランジスタ用領域１０Ｒに第１濃度で不純物を選択的に導入することによって、トンネル拡散層２４を形成し、同時に静電破壊対策トランジスタのソース領域１１およびドレイン領域１２を形成する工程を含む。 - 特許庁

This printing method comprises a step of printing the image on a medium 17 and a step of forming data 15, 18 relating to the quality of the image indicating whether or not the quality of the image in a first region of the medium 17 is deteriorated.例文帳に追加

本発明による印刷方法は、媒体１７上に画像を印刷するステップと、媒体１７の第１の領域内の画像品質が悪化したかどうかを示す、画像の品質に関連したデータ１５、１８を生成するステップとを含む。 - 特許庁

When a ratio of a use region capacity of a memory card 101 is exceeding 60% (Yes in step S2), files are sorted sequentially from the old one in terms of the last recording date into a "deletion candidate file", and a deletion candidate checking screen is displayed (step S3).例文帳に追加

メモリカード１０１の使用領域容量の比率が６０％を超えている場合には（ステップＳ２でＹｅｓ）、最終記録日時が古いファイルから順に「削除候補ファイル」に分類し、削除候補確認画面を表示する（ステップＳ３）。 - 特許庁

A semiconductor storage device is configured of a semiconductor board 21 forming a trapezoidal step 21b, a first well 32, a gate electrode 38 fitted on the step through a gate oxide film 36, an impurity diffusion region 28, second wells 34a and 34b and the charge storage section 40.例文帳に追加

台状のステップ部21bが形成された半導体基板21と、第１ウェル32と、ステップ部上にゲート酸化膜36を介して設けられたゲート電極38と、不純物拡散領域28と、第２ウェル34a及び34bと、電荷蓄積部40とを備えて構成される。 - 特許庁

When the VICS information received by the beacon receiving/processing portion contains "emergency information" or "caution warning information" (step S13), the main control portion compares the received "emergency information" or "caution warning information" with contents stored in the buffer region (step S15).例文帳に追加

ビーコン受信・処理部が受信したVICS情報に「緊急情報」又は「注意警戒情報」が含まれる場合に（ステップＳ１３）、受信した「緊急情報」又は「注意警戒情報」をバッファ領域の記憶内容と主制御部が比較する（ステップＳ１５）。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which the number of fabrication steps is decreased as compared with prior art by performing a patterning step and a recess step of a substrate region connected with a storage node contact plug, which had been performed in two chambers, in one chamber.例文帳に追加

２つのチャンバ内で行っていた、パターニング工程とストレージノードコンタクトプラグが接続される基板領域のリセス工程とを１つのチャンバ内で行い、従来よりも工程数が減少した半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The step difference is high on the insulating protective film on the heating resistor, and is made to be such a step difference that a platen roller can presses a thermal paper on the insulating protective film on the heating resistor and on the flat insulating protective film outside of the region of the partial glaze layer.例文帳に追加

段差は、発熱抵抗体上の絶縁性保護膜が高く、且つ、プラテンローラが、発熱抵抗体上の絶縁性保護膜と部分グレーズ層の領域外の平坦な絶縁性保護膜において感熱紙を押圧できる段差にする。 - 特許庁

While this nuclear medicine diagnostic device performs image data collection based on the detection of radiation from a subject (step 1), the device sets a region of interest at a location where the change of the count value of the radiation becomes larger due to breathing in the image obtained through the collection (step 2).例文帳に追加

被検体からの放射線検出に基づく画像データ収集を行いつつ（ステップ１）、これより得られる画像内において、呼吸による放射線カウント値の変化が大きくなる場所に関心領域の設定を行う（ステップ２）。 - 特許庁

However, in cooling down wherein an engine water temperature is less than a predetermined value (YES in step S3), the TSCV 12 is fully opened even in the swirl generating region S (step S4), and intake air is similarly taken in from both of two intake ports 6a, 6b.例文帳に追加

但し、エンジン水温が所定値未満の冷機時であれば（ステップＳ３でＹＥＳ）スワール生成領域（Ｓ）においてもＴＳＣＶ１２を全開にして（ステップＳ４）、２つの吸気ポート６ａ，６ｂの双方から同じように吸気を流入させる。 - 特許庁

In one embodiment, a copy method is provided with a step where a plurality of pages (400, 402) are received in the copy equipment for copying, and a step where a plurality of the pages (400, 402) are arranged in a region (300) in the copy equipment and put in a state that copy is enabled.例文帳に追加

一実施形態において、複写方法は、複写を行う複写装置内に複数のページ(400,402)を受容するステップと、複数のページ(400,402)を複写装置の領域(300)内に配置して、複写されることができるようにするステップとを含む。 - 特許庁

Next, white or black of each mesh of the LSI patterns after division is compared with each region of the meshes in the code book (Step S4), and the summed regions of white (0) parts or black (1) parts of the predetermined numerical value or over are selected (step S5).例文帳に追加

次いで、分割後のＬＳＩパターンの各メッシュが白か黒を、コードブック中のメッシュの各領域と比較し（ステップＳ４）、白（０）部分、又は黒（１）部分の合計領域が予め設定された数値以上のものを選び出す（ステップＳ５）。 - 特許庁

This stopper layer performs a role of an etching stopper when etching back the unnecessary embedded layer at the upper part of the trench (step S20), and hence a step between the stopper layer and the field oxide film is reduced after the etching to improve the flatness of an element isolation region.例文帳に追加

このストッパ層はトレンチ上部の不要な埋め込み層をエッチングバックする際に（工程Ｓ２０）エッチングストッパの役割を果たすので、エッチング後にストッパ層とフィールド酸化膜との段差が少なくなり素子分離領域の平坦性が向上する。 - 特許庁

The T-ECU also continues flex lock-up control (Step S26) when the output shaft rotation speed NO at completion of shift control is determined to be in a flex lock-up region in a shift stage after being shifted (YES in Step S25).例文帳に追加

そして、Ｔ−ＥＣＵは、変速制御終了時における出力軸回転数ＮＯが、変速後の変速段におけるフレックスロックアップ領域にあると判断した場合には（ステップＳ２５でＹＥＳ）、フレックスロックアップ制御を継続する（ステップＳ２６）。 - 特許庁

The method of manufacturing the steel pipe, includes a rolling step where a steel sheet which is thinner than the wall thickness of the steel pipe to be manufactured is rolled and lapped, and a welding step in which the region where the steel sheets are lapped is welded.例文帳に追加

鋼管の製造方法であって、製造する前記鋼管の肉厚より薄い鋼板を巻き重ねる巻き工程と、前記鋼板が重なり合っている部位を溶接する溶接工程と、を有することを特徴とする鋼管の製造方法。 - 特許庁

The photomask has a mask substrate, a step for placing an offset at an optimum focus position arranged on the mask substrate, and a monitor pattern having the properties of varying the size of the step region by focus variation of the exposure light.例文帳に追加

本発明のフォトマスクは、マスク基板と、前記マスク基板上に配置された最適フォーカス位置にオフセットを載せるための段差と、前記段差領域に露光光のフォーカス変動により寸法を変化させる性質を持つモニターパターンを有するものである。 - 特許庁