「tin concentration」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The solid oxide type fuel cell separator material is a separator material in which a TiN coating layer having a thickness of 0.05-100 μm is formed to a ferrite stainless steel of 11-40 mass% of Cr, and a Ti concentration of the TiN coating layer is adjusted to more than 40 atom%.例文帳に追加

Cr：11〜40質量％のフェライト系ステンレス鋼に膜厚：0.05〜100μmのTiN被覆層を形成したセパレータ材であり、TiN被覆層のTi濃度が40原子％以上に調整されている。 - 特許庁

The concentration of tin C_tin in the molten glass satisfies the relationship: Ctin≥0.5S_tin.例文帳に追加

溶融ガラス中のスズの濃度Ｃ_tinが以下の関係式を満たす：Ｃ_tin≧０．５Ｓ_tin。 - 特許庁

Preferably, the concentration of bivalent tin ions is 1 to 100 g/L and the concentration of zinc ions is 0.2 to 80 g/L in a tin-zinc alloy plating bath.例文帳に追加

好ましくは、錫−亜鉛合金めっき浴中の２価の錫イオン濃度は１〜１００ｇ／Ｌであり、亜鉛イオン濃度は０．２〜８０ｇ／Ｌである。 - 特許庁

The tin electroplating solution for the ceramic electronic component contains tin ion and has pH≥5 and ≤8, ≤0.3 mol/L concentration of ammonia and ammonium ion, and (molar concentration of chelate agent)/(molar concentration of tin ion) of ≤2.5.例文帳に追加

本実施形態に係るめっき液は、セラミック電子部品用の電気スズめっき液であって、スズイオンを含み、ｐＨが５以上８以下であり、アンモニアおよびアンモニウムイオンの濃度が０．３ｍｏｌ／Ｌ以下であり、キレート剤のモル濃度／スズイオンのモル濃度が２．５以下である。 - 特許庁

To stably produce a large quantity of high concentration tin oxide ITO sintered compacts having high density of ≥7.0 g/cm^3even when the concentration of tin oxide is 20 to 50 mass%.例文帳に追加

酸化錫濃度が２０〜５０質量％であっても、７．０ｇ／ｃｍ^3以上という高密度の高濃度酸化錫ＩＴＯ焼結体を安定して多量に生産する。 - 特許庁

Further, it is possible to block the migration of the tin ions to the side of the cathode by using the anion exchange membrane and eliminate an increase in the concentration of tin in the plating bath.例文帳に追加

また、スズイオンが陰極側に移動するのをアニオン交換膜で阻止し、メッキ浴のスズ濃度の上昇をなくせる。 - 特許庁

This organic EL element has an indium oxide transparent conductive film having a concentration gradient in which hydrogen concentration and tin concentration decrease as separating from an organic layer.例文帳に追加

有機層から離れると水素濃度およびスズ濃度が減る濃度勾配を有する酸化インジウム透明導電膜を有する有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

The tin concentration in the alumina refractory on an oxide basis is less than or equal to 1.0 wt.%.例文帳に追加

アルミナ耐火物中のスズ濃度が、酸化物基準で、１．０質量パーセント以下である。 - 特許庁

To smoothly prevent the substitutive deposition on the anode and the increase in tin ion concentration in a plating bath regarding a tin alloy electroplating method.例文帳に追加

電気スズ合金メッキ方法において、簡便な操作で陽極での置換析出と、メッキ浴のスズイオン濃度の増大を円滑に防止する。 - 特許庁

The outermost layer is adjusted to have fluorine concentration of 0.5-2 wt.% or antimony concentration in such a way that the molar ratio of antimony to tin is 0.05-0.2.例文帳に追加

最外層では、フッ素濃度を０．５〜２重量％とするか、アンチモン濃度を錫とのモル比が０．０５〜０．２となるように調整する。 - 特許庁

When forming the indium, tin and silicon oxide film 13 using indium, tin, silicon and oxygen targets, the oxygen concentration of sputtering gas is set to ≥30%.例文帳に追加

そして、インジウム・錫・珪素・酸素ターゲットを用いて、インジウム・錫・珪素酸化膜１３を形成する際のスパッタガスの酸素濃度は３０％以上とする。 - 特許庁

To provide a method for recovering tin where, in a tin-containing basic solution comprising Sb as impurities, the Sb concentration can be sufficiently reduced in a short time, and tin can be efficiently recovered.例文帳に追加

不純物としてＳｂを含む錫含有塩基性溶液中のＳｂ濃度を短時間で十分に低下させて効率的に錫を回収することができる、錫の回収方法を提供する。 - 特許庁

The current collector is manufactured in such a manner that the tin concentration in alloy reduces as separating from the ear part.例文帳に追加

集電体は耳部から離れるに従い、合金中のスズの濃度が減少するように作製する。 - 特許庁

Mg is added into a molten steel 11 having a Ti concentration and a N concentration satisfying the product of solubility for crystallizing TiN at not lower than the liquidus temperature of the molten steel.例文帳に追加

溶鋼の液相線温度以上でＴｉＮが晶出する溶解度積を満たすＴｉ濃度とＮ濃度の溶鋼１１に、Ｍｇを添加する。 - 特許庁

The amorphous tin oxide sol obtained by hydrolyzing a tin halide compound to form tin oxide slurry and then making the formed tin oxide slurry solate is manufactured through a stage for dispersing the tin oxide slurry in a solution containing water soluble resin after a stage for adjusting halogen ion concentration per 1 g tin oxide in the tin oxide slurry to be ≤0.1 mg.例文帳に追加

ハロゲン化錫化合物を加水分解処理して酸化錫スラリーを生成させ、次いで、生成した該酸化錫スラリーをゾル化して得られる非晶質酸化錫ゾルにおいて、該酸化錫スラリー中の酸化錫１ｇ中のハロゲンイオン濃度を０．１ｍｇ以下に調整する工程の後、前記酸化錫スラリーを水溶性樹脂を含む溶液中で分散する工程を経て製造されたことを特徴とする非晶質酸化錫ゾル。 - 特許庁

The transparent conductive film (pixel electrode 9) has indium tin oxide as a principal component and has a plurality of portions (a first conductive layer 9a, a second conductive layer 9b) having different tin concentration which is a ratio of tin atomic number against the total atomic number of indium atom and tin atom.例文帳に追加

本発明に係る透明導電膜（画素電極９）は、インジウム錫酸化物を主成分とし、インジウム原子と錫原子の合計原子数に対する錫原子数の比率である錫濃度が異なる複数の部位（第１の導電層９ａ、第２の導電層９ｂ）を有している。 - 特許庁

To obtain stable tin oxide sol free from viscosity increase or the like even at a high concentration by a simple and rational means.例文帳に追加

簡易且つ合理的な手段によって、高濃度で粘度の上昇等を生じない安定な酸化スズゾルを得る。 - 特許庁

A low oxidation concentration layer of indium tin oxide whose oxygen concentration is low as compared with that of the other part is arranged in the vicinity of an interface between the transparent electrode and the doped layer.例文帳に追加

透明電極とドープ層との界面近傍に、それ以外の部分と比べて酸素濃度を少なくしたインジウム錫酸化物の低酸化濃度層を設ける。 - 特許庁

Such sol can be obtained by adding tetramethylammonium hydroxide to an alkali-stable type tin oxide sol containing tin oxide in a concentration of ≤15 mass % expressed in terms of SnO_2 and concentrating the resulting sol.例文帳に追加

このようなゾルは、酸化スズ濃度がＳｎＯ_２として１５質量％以下のアルカリ安定型酸化スズゾルに水酸化テトラメチルアンモニウムを添加し、濃縮を行うことにより得ることができる。 - 特許庁

In the front plate glass 111, the deeper the depth from the surface of its bottom surface is made, the lower the concentration of tin oxide is made, and the concentration of tin oxide in the range where the depth from the bottom surface is shallower than 3 μm is 1% by mass or more.例文帳に追加

前面板ガラス１１１は、そのボトム面の表面からの深さが深くなるほど酸化錫の濃度が小さくなり、且つボトム面からの深さが３μｍより浅い範囲における酸化錫の濃度が１質量％以上である。 - 特許庁

Indium, gallium or tin collected in this method is condensed into high concentration, and is easily recycled industrially.例文帳に追加

この方法により回収されるインジウム、ガリウムまたはスズは、高濃度に濃縮されており、工業的に再利用するのが容易である。 - 特許庁

To provide a method capable of controlling the concentration of tin ions higly precisely in an electrotinning method using an insoluble electrode.例文帳に追加

不溶性電極を用いた電気錫メッキ方法において、錫イオン濃度を精度よく制御する方法を提供すること。 - 特許庁

A sonic speed Vf of the reflux exhaust at the temperature Tin is calculated corresponding to the water vapor concentration MCW, a rate of gas component contained in the reflux exhaust and the temperature Tin (S17, S18).例文帳に追加

水蒸気濃度ＭＣＷ及び還流排気に含まれるガス成分の比率、並びに温度Ｔｉｎに応じて温度Ｔｉｎにおける還流排気の音速Ｖｆを算出する（Ｓ１７，Ｓ１８）。 - 特許庁

To provide a tin-bismuth alloy plating apparatus which is capable of applying tin-bismuth alloy plating of a stable bismuth concentration by effectively using the bismuth of a plating solution containing the bismuth of a high concentration and is capable of suppressing the formation of a lance-like deposit and a plating method.例文帳に追加

高濃度のビスマスを含有するメッキ液のビスマスを有効に使用して安定したビスマス濃度の錫−ビスマス合金メッキを施すことができ、さらに、槍状析出物の生成を抑えることができる錫−ビスマス合金メッキ装置及びメッキ方法を提供する。 - 特許庁

The plated layer 3 is formed by electroplating so that tin (Sn) concentration decreases toward the outermost circumference from the innermost circumference, and bismuth (Bi) concentration increases toward the outermost circumference from the innermost circumference.例文帳に追加

そして、めっき層３は、錫（Ｓｎ）が最内周から最外周へ向かって減少し、ビスマス（Ｂｉ）が最内周から最外周へ向かって増加するように電気めっきにより作製される。 - 特許庁

To provide an evaluating and controlling method for the gas concentration and substrate temperature in a film deposition system in which a TiN film is deposited by CVD.例文帳に追加

ＣＶＤによりＴｉＮ膜を成膜する成膜装置のガス濃度および基板温度の評価・調整方法を提供する。 - 特許庁

A thioethane compound (e.g. 3,6-dithiaoctane-1,8-diol) of 0.1-200 g/l is added to an electrotinning or tin-alloy plating bath, or an electrotinned or tin-alloy plated material is treated with an aqueous solution of the thioethane compound in the same concentration.例文帳に追加

0.1〜200 g/L の濃度のチオエタン化合物 (例、3,6-ジチアオクタン-1,8-ジオール) を、電気錫または錫合金めっき浴中に添加するか、同濃度のチオエタン化合物の水溶液で電気錫または錫合金めっき材を処理する。 - 特許庁

In this epitaxial silicon wafer, an epitaxial film is made on the sub wafer constituted of silicon single crystals, where boron concentration is 4×10^18 to 2×10^19 atoms/cm^3 and the concentration of tin is 1×10^18 to 2×10^19 atoms/cm^3.例文帳に追加

ボロンの濃度が4×10^１８〜2×10^１９atoms/cm^３で、錫の濃度が1×10^１８〜2×10^１９atoms/cm^３であるシリコン単結晶によるサブウェーハ上に、エピタキシャル膜が形成されているエピタキシャルシリコンウェーハ。 - 特許庁

From among X-ray spectral information obtained, the peak intensity caused by diffracted X-ray is used to determine copper concentration in a tin alloy plating layer.例文帳に追加

取得したＸ線スペクトル情報のうち、回折Ｘ線に起因するピークの強度を使用して、スズ合金メッキ層の銅濃度を決定する。 - 特許庁

To provide an etching method capable of maintaining an appropriate concentration of an indium ion, in particular, out of an indium ion and a tin ion included in an etchant.例文帳に追加

エッチング液に含まれるインジウムイオン及びスズイオンの内、特にインジウムイオンの濃度を適切な濃度に維持することができるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The tin electroplating solution for the ceramic electronic component contains tin ion and has pH ≥3 and ≤8, ≤0.5 mol/L concentration of cation having ≥0.5 mol/L solubility of hydroxide in water.例文帳に追加

本実施形態に係るめっき液は、セラミック電子部品用の電気スズめっき液であって、スズイオンを含み、ｐＨが３以上８以下であり、水に対する水酸化物の溶解度が０．５ｍｏｌ／Ｌ以上であるカチオンの濃度が、０．５ｍｏｌ／Ｌ以下である。 - 特許庁

In the method for removing tin and thallium from a hydrochloric acid solution containing tin, thallium and indium, the hydrochloric acid solution has the concentration of an stannous ion in the hydrochloric acid solution 50 times or larger than the concentration of a thallium ion in a treatment solution, and the treatment solution is subject to cleaning treatment by adding a sulfating agent.例文帳に追加

スズ、タリウム、インジウムを含有する塩酸酸性溶液からスズ、タリウムを除去する方法であって、塩酸酸性溶液が、塩酸酸性溶液中のスズイオンの濃度が、処理溶液中のタリウムイオンの濃度の５０倍以上である塩酸酸性溶液であり、この処理溶液に、硫化剤を添加する浄液工程を行う。 - 特許庁

A water vapor concentration MCW in the fresh charge is calculated based on a fresh charge humidity Ha1 to be detected and a fresh charge temperature Ta1 and a sonic speed Va2 of the fresh charge at a temperature Tin is calculated based on the water vapor concentration MCW and the temperature Tin of the mixed gas of the fresh air and the reflux exhaust (S12-S16).例文帳に追加

検出される新気湿度Ｈａ１及び新気温度Ｔａ１に基づいて新気中の水蒸気濃度ＭＣＷを算出し、水蒸気濃度ＭＣＷ及び新気と還流排気の混合ガスの温度Ｔｉｎに基づいて温度Ｔｉｎにおける新気の音速Ｖａ２を算出する（Ｓ１２〜Ｓ１６）。 - 特許庁

In the manufacturing method of the rutile type titanium oxide superfine particle, a titanium compound solution having Ti concentration of 0.07-5 mol/L is allowed to react in a range of pH 1-3 in the presence of a tin compound in a molar ratio (Sn/Ti) of tin to titanium of 0.001-2.例文帳に追加

チタンに対するスズのモル比（Ｓｎ／Ｔｉ）が０．００１〜２のスズ化合物共存下、Ｔｉ濃度が０．０７〜５mol/lのチタン化合物溶液をｐＨが−１〜３の範囲で反応させることを特徴とするルチル型酸化チタン超微粒子の製造方法。 - 特許庁

The electrolytic tin plating solution for the ceramic electronic component contains stannous ion and a chelating agent, and whose pH is controlled between 6-9, and whose value of the relation (molar concentration of the chelate agent)/(molar concentration of stannous ion) is controlled higher than 2.4 and 4.5 or less.例文帳に追加

本実施形態に係るめっき液は、セラミック電子部品用の電気スズめっき液であって、スズイオン及びキレート剤を含み、ｐＨが６以上９以下であり、キレート剤のモル濃度／スズイオンのモル濃度の値が２．４より大きく、４．５以下である。 - 特許庁

The conductive tin oxide sol contains phosphorus-doped conductive tin oxide colloidal particles (A), wherein the sol, prepared so as to have the colloidal particles (A) in concentration of 10 mass% in the sol, has transmittance of 30% or more at a wavelength of 600 nm in an optical path length of 10 mm.例文帳に追加

リンがドープされた導電性酸化スズコロイド粒子（Ａ）を含むゾルであって、該ゾル中のコロイド粒子（Ａ）の濃度を１０質量％となるように調製したゾルの光路長１０ｍｍにおける波長６００ｎｍの光線透過率が３０％以上である導電性酸化スズゾル。 - 特許庁

Due to the coexistence of a specific metal ion such as iron, manganese and chromium at a prescribed concentration with oxycarboxylic acid, the electroless tin plating bath becomes mildly acidic or neutral and shows an excellent temporal stability.例文帳に追加

鉄、マンガン、クロムなどの特定の金属イオンを所定濃度でオキシカルボン酸に共存させるため、無電解スズ浴は弱酸性ないし中性域を呈すると共に、経時安定性にも優れる。 - 特許庁

Such sol is efficiently used as raw materials or the like of various catalysts or electronics materials, because the sol is constituted of uniform tin oxide fine particles and the solution is stable and contains SnO_2 in a high concentration.例文帳に追加

また、このようなゾルは、均一な酸化スズの微細粒子で構成され、その溶液は高濃度で安定であることから各種触媒やエレクトロニクス材料の原料等に有益に使用される。 - 特許庁

To provide: a method for regenerating an electroless tin plating solution by reducing impurities, especially a copper concentration, from the plating solution; a method for controlling a plating solution; and a plating method using the method for controlling a plating solution.例文帳に追加

無電解スズめっき液から不純物、特に銅濃度を減少させることにより、めっき液を再生する方法、めっき液の管理方法、及びこれを用いためっき方法を提供する。 - 特許庁

Regarding the electrotinning method for a steel sheet using a tinning bath comprising tin ions and a sulfonic acid based compound as a plating electroconducting assistant, plating is performed in such a manner that the concentration of chlorine ions in the tinning bath is controlled to ≤0.5 g/L, and also, the concentration of fluorine ions is controlled to ≤2 g/L.例文帳に追加

錫イオンと、めっき電導助剤としてスルホン酸系化合物とを含有する錫めっき浴を用いる鋼板の電気錫めっき方法において、錫めっき浴中の塩素イオン濃度を0.5g/l以下、かつ、フッ素イオン濃度を2g/l以下に管理してめっきすることを特徴とする電気錫めっき方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing substrate with tin oxide film, in which the concentration of chlorine remaining in a film is efficiently reduced even when not only substrate temperature is high (for example, 590°C or more) but also the substrate temperature is low (for example, 450 to 550°C), and the film in which the crystal grain of tin oxide is largely grown is formed.例文帳に追加

基体温度が高温（例えば、５９０℃以上）のみならず低温（例えば、４５０〜５５０℃）であっても膜中に残留する塩素濃度を効率よく低減することができ、かつ、酸化錫の結晶粒が大きく成長した膜を成膜することができる酸化錫膜付き基体の製造方法の提供。 - 特許庁

The magnesium oxide sintered compact having 80-90% relative density is obtained by sintering at the low temperature (1,350-1,450°C) while controlling the concentration of tin oxide to be added to ≥0.05 mol% and ≤1.00 mol%.例文帳に追加

その酸化錫の添加濃度を０．０５ｍｏｌ％以上１．００ｍｏｌ％以下とすることにより、相対密度８０〜９０％の酸化マグネシウム焼結体を低温（１３５０℃〜１４５０℃）で焼結することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method of efficiently separating impurity elements such as bismuth, tin and antimony from a solution of platinum group elements at a low cost and obtaining the solution of the platinum group elements with a low concentration of the impurity elements.例文帳に追加

白金族元素の溶解液から、ビスマス、スズ、アンチモンなどの不純物元素を効率的に且つ低コストで分離して、不純物元素濃度の低い白金族元素の溶解液を得る方法を提供する。 - 特許庁

The etching agent according to the present invention contains is an etching agent which contains copper salt containing no halogen, and hydrochloric acid and is used for alloy including indium tin oxide alloy (ITO) film, and the hydrochloric acid has a concentration of ≥4.5 mol/liter.例文帳に追加

本発明のエッチング剤は、ハロゲンを含まない銅塩および塩酸を含む、インジウム錫酸化物合金（ＩＴＯ）膜を含む合金のエッチング剤であって、前記塩酸の濃度が４．５モル／リットル以上である。 - 特許庁

Furthermore, the paste composition for the electrodes is arranged so as to include the phosphorus-containing copper alloy particles, the tin-containing particles, the glass particles, the solvent, and the resin, and to have a solid content concentration in a range of 70 mass% to 98 mass%.例文帳に追加

さらにまた電極用ペースト組成物に、リン含有銅合金粒子、錫含有粒子、ガラス粒子、溶剤及び樹脂を含ませ、固形分濃度が７０質量％〜９８質量％の範囲であるように構成する - 特許庁