「anti- reflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

On the basis of the found ethyl alcohol addition ratio, the optimum addition ratio is determined, etching operation is carried out with use of the etching gas containing the optimum addition ratio of ethyl alcohol to remove a part of an anti-reflection film to be exposed from the etching mask.例文帳に追加

求められたエチルアルコール添加比率に基づいて、前記最適添加比率が決定され、この最適な添加比率のエチルアルコールを含むエッチングガスを用いたエッチング処理により、反射防止膜のエッチングマスクから露出する部分が除去される。 - 特許庁

After a semiconductor substrate 100 comprising a difference in level is overlaid with a silicon oxide film 102 and a polysilicon film 103 in this order, an organic low dielectric constant film 104 is formed in an application manner, and then an inorganic anti-reflection film 105 is formed thereon.例文帳に追加

段差を有する半導体基板１００の上にシリコン酸化膜１０２及びポリシリコン膜１０３を順次形成した後、塗布法により有機低誘電率膜１０４を形成し、その上に、無機反射防止膜１０５を形成する。 - 特許庁

The sealing plate 40 has a base 42 (main body of the sealing plate) where a recess 41 is formed on a glass raw plate made of a no-alkali glass by means of wet etching method, and an anti-reflection film 43 formed on the outer face of the base 42 in the upper part of the base 42.例文帳に追加

封止板４０は、ウェットエッチング法によって無アルカリガラス製のガラス素板から凹部４１が形成されたベース４２（封止板本体）と、ベース４２の上部においてベース４２の外側面に形成された反射防止膜４３とを備える。 - 特許庁

To provide an organic anti-reflective polymer which can prevent the reflection of a lower coating film layer in a process for forming a hyperfine pattern with 193 nm ArF light and 248 nm KrF light and can further remove standing-waves, and to provide a method for synthesizing the polymer.例文帳に追加

１９３ｎｍＡｒＦ及び２４８ｎｍＫｒＦ光を用いる超微細パターン形成工程において、下部膜層の反射を防止でき、定在波を除去し得る有機乱反射防止重合体及びその合成方法を提供する。 - 特許庁

The antireflection member comprises at least an overall adhesive layer 2, a partial design layer 3 made of a metal thin film layer 5 and a print layer 4, an overall release layer 6, an overall low reflection layer 7 and an overall anti-contamination layer 8 sequentially laminated on a transparent base plate 1.例文帳に追加

透明基板１の上に、全面的な接着層２、金属薄膜層５と印刷層４とからなる部分的な図柄層３、全面的な剥離層６、全面的な低反射層７、全面的な防汚層８を少なくとも順に積層する。 - 特許庁

The anti-reflection film is a porous body of silica having a refractive index of 1.05-1.30, wherein the refractive index difference before immersion in 1N hydrochloric acid solution and after immersion in 1N hydrochloric acid solution for 24 hours is 0.15 or less for the wavelength of 650 nm.例文帳に追加

反射防止膜は、屈折率が１．０５〜１．３０であり、１規定の塩酸水溶液に浸漬する前と、１規定の塩酸水溶液に２４時間浸漬した後との波長６５０ｎｍでの屈折率差が０．１５以下であるシリカ多孔質体である。 - 特許庁

It has an anti-reflection layer on one side surface, and has the electricity conductive layer, which contains a conductive material, on the other surface, and surface specific resistance of this electricity conductive layer is 10^11 Ω/(square) (25°C, 55% RH) or less.例文帳に追加

一方の面上に反射防止層を有し、もう一方の面上に導電性材料を含有する導電性層を有し、且つ、該導電性層の表面比抵抗が１０^11Ω／□（２５℃、５５％ＲＨ）以下であることを特徴とする樹脂フィルム。 - 特許庁

To provide a low-alkali or alkali-free glass body having an anti- reflection coating film showing an excellent adhesive property and washing resistance, e.g. a glass body used for fabricating a solar energy system, and a solution used for forming the coating film.例文帳に追加

接着性及び耐洗濯性に優れた反射防止性被膜をコーティングした低アルカリもしくはアルカリフリーのガラス体、例えば太陽エネルギー装置を作製するために用いられるガラス体、及びその被膜形成に用いる溶液を提供する。 - 特許庁

Fabricating the grating trim retarder with anti-reflection coatings and/or a segment where the -C-plate and A-plate gratings overlap enables the in-plane and out-of-plane retardances to be tailored independently according to the desired application.例文帳に追加

反射防止コーティング、および／または−ＣプレートおよびＡプレート格子が重なるセグメントを有する格子トリム・リターダを製作することにより、所望の用途に従って、面内リターダンスおよび面外リターダンスを独立に調整することが可能になる。 - 特許庁

To provide an anti-reflection structure capable of increasing the visibility of a display part displayed by using external light and illumination, and to provide an antireflection coating, a light transmission body, and a liquid crystal display deice provided with the structure.例文帳に追加

本発明は、外光や照明光を利用して表示された表示部分の視認性を高めることが可能な反射防止構造とその構造を備えた反射防止膜、導光体、並びに液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes: an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removal block 14 and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The anti-counterfeit medium characteristically includes, at least a pattern-like light reflection layer 13 and a phase difference layer 14 to partly or entirely cover the pattern-like light reflection layer, on the multi-layered thin film layer 18 provided on one side of the base material 11, which causes color change in accordance with the visual observation angle under the irradiation of visible light.例文帳に追加

基材１１の一方の面側に設けられている、可視光線の照射下で目視角度に対応して色変化が生じる多層薄膜層１８の上に、少なくともパターン状光反射層１３が設けられ、さらにそのパターン状光反射層の一部もしくは全面を覆うように位相差層１４が設けられていることを特徴とする偽造防止媒体。 - 特許庁

The optical filter for display device comprises an anti-reflection film part, a transparent substrate, a mesh film part and a color correction film part, wherein an inorganic adhesive layer is formed on a surface of at least one of the respective film parts.例文帳に追加

ディスプレイ装置用光学フィルタは、反射防止フィルム部、透明基板、メッシュフィルム部、およびカラー補正フィルム部を含むディスプレイ装置用光学フィルタであって、各フィルム部のうちの少なくとも１つの一面に非有機酸粘着層が形成されることを特徴とする。 - 特許庁

Furthermore, antireflection films 4 comprising of multilayered films are formed in the low-density region which is relatively high in the spectral reflectivity of the visible wavelength region of the ND film 2, for example, in the region of 0.3 or lower in density for improving the anti-reflection function.例文帳に追加

更に、ＮＤ膜２の可視波長領域の分光反射率が比較的大きく、膜厚が比較的薄い低濃度領域、例えば濃度０．３以下の領域に多層膜から成る反射防止膜４を成膜して反射防止機能を向上させる。 - 特許庁

To shorten the downtime attendant on the removal of a sublimable compound, to simplify removal work and improve safety in a semiconductor manufacturing devise for applying an organic film of an anti-reflection film to the surface of a semiconductor wafer.例文帳に追加

本発明は半導体ウェハの表面に反射防止膜などの有機膜を塗布するための半導体製造装置に関し、昇華性化合物の除去に伴うダウンタイムを短縮し、かつ、その除去作業の簡単化および安全性向上を目的とする。 - 特許庁

To provide a low-reflectivity, brightness-enhanced multilayer optical film for an OLED capable of providing a high brightness characteristic and an anti-reflection function because it is high in emission efficiency from a light-emitting element to the outside of a display device; and to provide an OLED display device equipped with the same.例文帳に追加

発光素子から表示装置の外部への出射効率が高いため、高輝度特性および反射防止機能が得られる、ＯＬＥＤ用低反射率の輝度向上多層光学フィルムおよびこれを備えたＯＬＥＤ表示装置を提供する。 - 特許庁

In a typical case, by using the coating composition, a medium to high refractive indices layers 18 and 19 as anti-reflection coating films 17 may be formed, and in another case, transparent conductive thin films, such as an antistatic film or a transparent conductive film may be formed.例文帳に追加

代表的には、このコーティング組成物を用いて、反射防止膜１７の中乃至高屈折率層１８，１９や、高屈折率ハードコート層を形成したり、或いは、帯電防止膜や透明導電膜等の導電性透明薄膜を形成することができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate equipped with the anti- reflection layer provides the substrate (a), deposits amorphous silicon on the substrate (b), and etches the amorphous silicon layer and the substrate with an etching solution, and removes the amorphous silicon layer with the etching solution (c).例文帳に追加

本発明のアンチリフレクション層を具える基板の製造方法は、(a) 基板を提供し、(b) 基板上にアモルファスシリコンを堆積させ、(c) エッチング液でアモルファスシリコン層及び基板をエッチングし、且つアモルファスシリコン層をエッチング液により除去することを特徴とする。 - 特許庁

A first etching stopper film 2, a first insulating film 3, a second etching stopper film 4, a second insulating film 5 and inorganic anti-reflection film 6 are formed on a semiconductor substrate 1 sequentially from its lower layer, on which a resist layer 7 is formed and then subjected to a photolithographical process to form a hole pattern.例文帳に追加

半導体基板１上に、下層から順に第１エッチングストッパ膜２、第１絶縁膜３、第２エッチングストッパ膜４、第２絶縁膜５、無機反射防止膜６を成膜し、その上にフォトリソグラフィによりレジスト７を用いてホールパターンを形成する。 - 特許庁

To realize a good transparency, optical properties, durability and adhesion to an anti-reflection film comprising an inorganic matter in a coating, and to inhibit interference fringes against a substrate having a refractive index of ≥1.52.例文帳に追加

本発明は、塗膜に良好な透明性、光学特性、耐久性と同時に無機物からなる反射防止膜との密着性、耐久性とを兼ね備えることを実現し、同時に屈折率が１．５２以上の基材に対して、干渉縞を無くすことを実現する。 - 特許庁

As the result, heat shrinkage, elution of the additive are suppressed, the drying is facilitated and the coating layer which is sufficiently hardened can be obtained and, therefore, the anti-reflection film 20 which has few appearance faults and is excellent in scratch resistance can be manufactured with excellent productivity.例文帳に追加

以上より、熱収縮や添加剤の溶出を抑制して乾燥を促進し、かつ十分に硬化させた塗布層を得ることができるので、外観故障が少なく、耐擦傷性に優れる反射防止フィルム２０を優れた生産性で製造することができる。 - 特許庁

To provide an anti-reflection film for optical components of an optical glass system, permitting to improve an S/N ratio in observation treating very feeble light such as microscope observation, by preventing collapse of surface particles due to eradication of magnesium fluoride and suppressing micro-scattering.例文帳に追加

光学ガラス系の光学部品の反射防止膜に使用されるフッ化マグネシウムの払拭による表面粒子の崩壊を阻止して微小散乱を抑えることにより、顕微鏡観察等、極微弱光を扱う観察においてＳ／Ｎ比の向上を図る - 特許庁

In the method for manufacturing the optical thin film and the anti-reflection film obtained by a coating and drying process using a die on a support, the die has a heat-retaining function and the difference between the retained die temperature and a coater chamber temperature is -2°C to +2°C.例文帳に追加

支持体上にダイを用いて塗布乾燥して得られる光学薄膜の製造方法において、ダイに保温機能を有し、ダイ保温温度とコーター室温度の差を−２℃〜＋２℃とすることを特徴とする光学薄膜及び反射防止膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a coating method capable of making film thickness in a width direction uniform even when coating of a thin layer is performed, capable of suppressing variation in the film thickness in a longitudinal direction and capable of maintaining stable coating by suppressing generation of stripe, or the like, and to prepare an optical film and an anti-reflection film.例文帳に追加

薄層の塗布を行った場合でも、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布を維持できる塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

Additionally, on the surface of each of the on-chip micro lenses 27, an anti-reflection film 33 is formed which is composed of a first inorganic film 31 having a higher refractive index than that of the on-chip micro lens and a second inorganic film 32 having a lower refractive index than those of the on-chip micro lens thereon and the first inorganic film.例文帳に追加

さらに、オンチップマイクロレンズ２７の表面上に、オンチップマイクロレンズより屈折率の高い第１の無機膜３１と、その上のオンチップマイクロレンズ及び第１の無機膜より屈折率の低い第２の無機膜とからなる反射防止膜３３が形成される。 - 特許庁

The composition can be adjusted in pH without lowering the application performance by adding a predetermined fluorine compound, and it is possible to provide the composition for forming the anti-reflection film having excellent preservation stability, and matching performance to the resist film.例文帳に追加

この反射防止膜形成用組成物は、所定のフッ素化合物を添加することにより、塗布性を低下させずにｐＨを容易に調整でき、保存安定性、及びレジスト膜とのマッチング性に優れた反射防止膜形成用組成物を提供することができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device further comprises the steps of: forming an amorphous Si layer 26 on the opposite surface side of the epitaxial semiconductor layer 4 after the etching step; and forming an anti-reflection film and a color filter on the amorphous Si layer 26 in this order.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、前記エッチングする工程の後に、前記エピタキシャル半導体層４の前記反対面側にアモルファスＳｉ層２６を形成する工程と、前記アモルファスＳｉ層の上に、反射防止膜、カラーフィルタを順に形成する工程を含む。 - 特許庁

To solve the problem that the impact resistance of a plastic lens obtained by forming a primer layer on a plastic base material, forming a hard coat layer on the primer layer, and forming a thicker anti-reflection film of prescribed layers on the hard coat layer so as to have a convex surface and a concave surface is low.例文帳に追加

プラスチック基材上にプライマー層を形成後、そのプライマー層上にハードコート層を形成し、更にそのハードコート層上に所定の層の膜厚を厚くした反射防止膜を凸面と凹面に形成したプラスチックレンズは耐衝撃性が低いという問題を有する。 - 特許庁

To provide an optical filter which sufficiently absorbs side bands of emission spectrum of a red phosphor and can maintain initial filer performance for a long period of time in spite of exertion of the load of a heat history and an anti-reflection film having the excellent characteristics described above.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、赤色蛍光体の発光スペクトルのサイドバンドを充分に吸収し、しかも、熱履歴の負荷がかかっても長期に亘って初期のフィルター性能が維持できる光学フィルター、及び前記優れた特性を有する反射防止膜を提供する。 - 特許庁

An electrical wave introduction window 13 of a cooling container 11 comprises a cooling window material 14 in which a monocrystal sapphire substrate is used as a base material, a cut face is formed as a C plane, and a thick anti-reflection film of silicon oxide (SiOx) is formed on a surface of the sapphire substrate.例文帳に追加

単結晶サファイア基板を母材とし、カット面をＣ面として形成すると共に、酸化珪素（ＳｉＯｘ）の厚膜反射防止膜を前記サファイア基板の表面に形成した冷却用窓材１４を冷却容器１１の電波導入窓１３に備え付けた。 - 特許庁

Since an anti-reflection film 41a is formed on the backside of a Fresnel lens sheet 41 constituting the main body part 40 to perform such transmittance compensation that the power distribution of image light is canceled, the illuminance distribution in a white level of the transmission screen member 18 can be made uniform.例文帳に追加

ここで、本体部分４０を構成するフレネルレンズシート４１の裏面に反射防止膜４１ａを形成して、像光の倍率分布を相殺するような透過率の補正を行っているので、透過型スクリーン部材１８のホワイトレベルにおける照度分布を均一化することができる。 - 特許庁

A lamella 6 subjected to anti-reflection processing on its surface is attached to the recessed part 3c of a back cover 3, so that incident light R1 reflected on a part A of a double refraction plate 201a positioned on the forefront surface of a filter 201 and going toward a part C on the inclined surface 2c of a substrate 2 is intercepted.例文帳に追加

表面に反射防止処理を施した薄板６を後カバー３の凹部３ｃに取り付けることで、フィルタ２０１の最前面に位置する複屈折板２０１ａのＡ部で反射して基板２の傾斜面２ｃのＣ部に向かう入射光Ｒ１を遮る。 - 特許庁

The reflecting piece is applied in the backlight module and the metallic film layer will not only increases the reflection effect of the light by reflecting the light emitted from a light source through the metallic film layer, but also is prevented from oxidizing and deteriorated by the anti-UV layer and the light emission quality is affected.例文帳に追加

この反射片はバックライトモジュール内に応用し、その金属膜層は光源から射出した光線を金属膜層に通して反射させ、光線の反射効果を高めるだけでなく、抗ＵＶ層によって反射片が酸化変質して出光品質に影響を及ぼすことから防止する。 - 特許庁

To provide an anti-counterfeit medium which has a multi-layered thin film layer to change the reflection color according to change in the visual observation angle and also includes an overt function and an covert function, which, in particular, enables easy visual authenticity check, and makes difficult counterfeit, alteration, falsification, and photocopy.例文帳に追加

目視角度の変化に応じて反射色に変化が生じる多層薄膜層を有し、さらにオバート機能とコバート機能を具備してなる偽造防止媒体であり、特に目視による真偽判定が容易であり、かつ偽造・改ざん・変造・複写を困難にする偽造防止媒体を提供する。 - 特許庁

The penetrating holes 45a, 45b, 45c constituting the examination index 45 are observed as black circles under the illuminating light of the endoscope because of the illuminating light which passes the penetrating holes 45a, 45b, 45c on the index plate 44 and is guided to the anti-reflection opening 43a.例文帳に追加

指標板４４の貫通孔４５ａ、４５ｂ、４５ｃを通過して反射防止穴４３ａに照明光が導光されることにより、検査用指標４５を構成する貫通孔４５ａ、４５ｂ、４５ｃが内視鏡の照明光の基で黒い丸印として観察される。 - 特許庁

The anti-reflection film is manufactured through: a process for preparing the solid particulate dispersion of an infrared absorption dye; a process for applying the above dispersion onto a transparent support to form an infrared-absorption layer thereon; and a process for forming a low-refractive index layer on the surface opposite to the infrared-absorption layer.例文帳に追加

赤外線吸収染料の固体微粒子分散物を調製する工程、固体微粒子分散物を透明支持体上に塗布して赤外線吸収層を形成する工程および低屈折率層を形成する工程により、反射防止フイルムを製造する。 - 特許庁

To provide various optical materials and cured members which are suitable for a material for an optical device such as an optical waveguide, and a sealing member and a material for a displaying device such as an anti-reflection film, and show excellence in transparency in the near infrared region, hygroscopicity resistance, heat resistance and the like.例文帳に追加

光導波路や封止部材などの光デバイス用材料および反射防止膜などの表示デバイス用材料として好適な近赤外領域における透明性、耐吸湿性、耐熱性などに優れた各種の光学材料および硬化した部材を提供する。 - 特許庁

Regarding the transmission type screen used for a rear projection type projection TV, the transmission type screen is provided with a glass substrate, and also, the screen is provided with an optical anti-reflection material on the front side of the glass substrate, and a light diffusion layer coated with inorganic material on the rear side of the glass substrate.例文帳に追加

背面投射型プロジェクションテレビに用いる透過型スクリーンにおいて、該透過型スクリーンはガラス基板を有し、該ガラス基板の前面に光反射防止材を有し、該ガラス基板の背面に無機質コーティングからなる光拡散層を有することを特徴とする透過型スクリーン。 - 特許庁

The composition for top-face anti-reflection coating comprises: a fluorine-containing polymer with the weight average molecular weight of 300,000 to 800,000 represented by the general formula (1), -Ax-By-, where A is represented by the specified general formula (A); an alkyl sulfonic acid with the carbon number of 10 to 18; and a solvent.例文帳に追加

下記一般式（１）：−Ａｘ−Ｂｙ−（１）（式中、Ａは下記一般式（Ａ）：で表される、重量平均分子量が３００，０００〜８００，０００であるフッ素含有ポリマーと、炭素数１０〜１８のアルキルスルホン酸と、溶媒と、を含んでなる上面反射防止膜形成用組成物。 - 特許庁

In a coherent light source 11 provided with a semiconductor laser 12 and with an optical wavelength conversion element 13 and in an optical device 10, an anti-reflection film 14 for harmonic converted by the optical wavelength conversion element 13 is formed on an exit end face 12a of the semiconductor laser 12.例文帳に追加

半導体レーザ１２と光波長変換素子１３とを備えたコヒーレント光源１１および光学装置１０において、半導体レーザ１２の出射端面１２ａに、光波長変換素子１３で変換された高調波に対する反射防止膜１４を形成する。 - 特許庁

This anti-reflection film is an optical film having at least a hard coat layer and a low refractive index layer containing a fluorine-containing polymer.例文帳に追加

透明支持体上に、少なくともハードコート層と含フッ素ポリマーを含む低屈折率層とを有する光学フィルムであって、該ハードコート層乃至低屈折率層の少なくとも１層に下記一般式（１）で表される化合物からの構成成分を含むビニルポリマーを含有する反射防止フィルム。 - 特許庁

To provide a hard coat resin composition for eyeglass lenses of a high refractive index superior in adhesion to an eyeglass lens base material and an anti-reflection inorganic deposition film by having the same hard coat property as a coating agent of conventional polysiloxane by only active energy ray radiation without needing a heat curing process.例文帳に追加

熱硬化工程を必要とせず、活性エネルギー線照射のみで、従来のポリシロキサンのコーティング剤と同等のハードコート性を有し、さらには、メガネレンズ基材、反射防止用無機蒸着膜との密着性に優れる高屈折率のメガネレンズ用ハードコート性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック８、端面洗浄処理ブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

To provide: a method for making a fingerprint stain on a cured film with a low reflection and a film strength hardly be distinct; an anti-fingerprint coating material composition capable of forming the cured film on which a fingerprint soil is hardly notified; and a coated article formed on the top surface of a base material.例文帳に追加

低反射性で被膜強度を備えたものとしながら硬化被膜の指紋汚れを目立ちにくくする方法、並びに指紋汚れが目立ちにくい硬化被膜が形成できる耐指紋性コーティング材組成物、及び該硬化皮膜が基材の最表面に形成されてなる塗装品を提供する。 - 特許庁