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acid dissolutionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 258



例文

METHOD FOR DETECTING NUCLEIC ACID MUTATION BY APPLICATION OF NUCLEIC ACID DISSOLUTION CURVE例文帳に追加

核酸溶解曲線を応用した核酸変異検出法 - 特許庁

The dissolution solution preferably includes hydrochloric acid.例文帳に追加

前記溶解液は、塩酸を含むことが好ましい。 - 特許庁

Further, sulfuric acid is added to the dissolution solution, and the pH of the dissolution solution is held at 0.4 to 0.8.例文帳に追加

また、この溶解液に硫酸を添加し、溶解液のpHを0.4〜0.8に保持する。 - 特許庁

ACID DISSOLUTION PRODUCT OF INORGANIC MATERIAL PRODUCED BY BACILLUS SUBTILIS, ETC.例文帳に追加

枯草菌等が産生する無機物の酸溶解生成物 - 特許庁

例文

NITRIC ACID DISSOLUTION PRE-TREATMENT OF URANIUM/ PLUTONIUM MULTIPLE OXIDE例文帳に追加

ウラン・プルトニウム混合酸化物の硝酸溶解前処理方法 - 特許庁


例文

HYALURONIC ACID GEL WITH CONTROLLED DISSOLUTION RATE AND ITS PREPARATION例文帳に追加

溶解速度が制御されたヒアルロン酸ゲル及びその製造方法 - 特許庁

The compound selected from the undecanedioic acid, undecanedioic acid salt, dodecanedioic acid, dodecanedioic acid salt, tridecanedioic acid, and tridecanedioic acid salt has a saturation dissolution quantity at 50°C at most.例文帳に追加

ウンデカン二酸、ウンデカン二酸塩、ドデカン二酸、ドデカン二酸塩、トリデカン二酸及びトリデカン二酸塩から選択された化合物は、多くとも50℃での飽和溶解量で含まれる。 - 特許庁

ORAL CAVITY COMPOSITION INHIBITING TOOTH ENAMEL DISSOLUTION CAUSED BY ORGANIC ACID例文帳に追加

有機酸による歯のエナメル質の溶解が阻害される口腔用組成物 - 特許庁

In a process for dissolving cobalt hydroxide oxide with sulfuric acid, metal cobalt is added before the dissolution or in the middle of the dissolution.例文帳に追加

コバルトハイドロオキサイドオキサイドを硫酸で溶解する工程において、金属コバルトを溶解前もしくは溶解途中で添加する。 - 特許庁

例文

This removing method includes the following alkali neutralization step 1 and acid dissolution step 2.例文帳に追加

下記のアルカリ中和工程1及び酸溶解工程2を含むことを特徴とする。 - 特許庁

例文

(3) Since the conductive film can be etched with weak acid, dissolution of the lower metal (Al) wirings can be prevented.例文帳に追加

(3)弱酸でエッチングできるため、下層メタル(Al)配線の溶解を防止できる。 - 特許庁

The method for producing chitosan fine particles comprises a process (dissolution process) for dissolving chitosan with an aqueous solution of one kind of acid selected from a group consisting of citric acid, tartaric acid, and malic acid, and a process (deacidification process) for removing an acid solvent from the chitosan solution obtained in the dissolution process.例文帳に追加

クエン酸、酒石酸、リンゴ酸の群から選ばれる少なくとも1種の酸の水溶液によりキトサンを溶かす工程(溶解工程)と、該溶解工程より得られたキトサン溶液の酸溶媒を除去する工程(脱酸工程)から成ることを特徴とするキトサン微粒子の製造方法。 - 特許庁

The method for producing a nickel sulfate aqueous solution includes filling metal nickel masses in a metal dissolution column, feeding heated sulfuric acid from the upper part of the metal dissolution column and at the same time, and then, feeding an oxidant from the lower part of the metal dissolution column.例文帳に追加

金属溶解塔に金属ニッケル塊を充填し、金属溶解塔上部から加熱した硫酸を供給するとともに、金属溶解塔の下部から酸化剤を供給する。 - 特許庁

This solid preparation for the oral cavities comprises (a) tragacanth gum and (b) polyphosphoric acid or its salt, and is designed so as to start the dissolution of the polyphosphoric acid or its salt and then start the dissolution of the tragacanth gum.例文帳に追加

(a)トラガントガム及び(b)ポリリン酸又はその塩を含有し、先にポリリン酸又はその塩が溶解を開始し、次いでトラガントガムが溶解を開始するように構成された口腔用固形製剤。 - 特許庁

The preparation contains (a) the zinc salt of ricinoleic acid, (b) an functional amino acid, (c) a dissolution promoter, (d) an organic acid and/or an inorganic acid and artificially (e) water and has deodorizing activity.例文帳に追加

本発明は、 a)リシノール酸の亜鉛塩と、 b)アミノ官能アミノ酸と、 c)溶解促進剤と、 d)有機酸および/または無機酸と、任意に、 e)水と、 を含む、脱臭作用を有する調製物を提供する。 - 特許庁

The resist material contains a polymer used in combination with a dissolution inhibitor and a photo-acid generating agent(PAG).例文帳に追加

レジスト材料は溶解抑制剤及び光酸生成剤(PAG)と併用されるポリマーを含有する。 - 特許庁

By this method, cobalt and lithium can be recovered by a simple and inexpensive method, that is a sulfuric acid dissolution method.例文帳に追加

この方法によると、硫酸溶解という簡単かつ安価な方法でコバルトとリチウムを回収できる。 - 特許庁

Then, following to degrease processing (step S104), the magnet element is subjected to dissolution processing with acid (step S105).例文帳に追加

次いで、磁石素体を脱脂処理したのち(ステップS104)、酸により溶解処理を行う(ステップS105)。 - 特許庁

The polymeric compound has a structural unit derived from an acrylic ester having an acid dissociable, dissolution inhibiting group.例文帳に追加

酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物。 - 特許庁

The dissolution of the chitosan can be accelerated by adding an organic acid, when preparing the preservation treatment liquid.例文帳に追加

保存処理液を調製する際に、有機酸を加えることにより、キトサンの溶解を促進することができる。 - 特許庁

A lithium cobaltate-containing substance is dissolved with sulfuric acid diluted in the weight ratio of 1.47-1.67 of sulfuric acid to 0.67 to 4.0 of water to 1 of lithium cobaltate, and the dissolution solution is held at60°C till the completion of the dissolution.例文帳に追加

重量比でコバルト酸リチウムを1に対し、硫酸を1.47〜1.67,水0.67〜4.0の割合で希釈した硫酸を用いて、コバルト酸リチウムを含む物質を溶解し、溶解終了時まで溶解液を60℃以上に保持する。 - 特許庁

The method for producing an aqueous copper sulfate solution includes: packing metal copper lumps into a metal dissolution tower; supplying heated sulfuric acid from an upper part of the metal dissolution tower; and supplying an oxidizing agent from an upper or lower part of the metal dissolution tower.例文帳に追加

金属溶解塔に金属銅塊を充填し、金属溶解塔上部から加熱した硫酸を供給し、金属溶解塔の上部または下部から酸化剤を供給することを特徴とする硫酸銅水溶液の製造方法。 - 特許庁

Since the supervoltage of the oxygen generation reaction of diamond is extremely high, the electrolysis of a sulfuric acid ion-containing aqueous solution is substantially the persulfuric acid ion formation reaction by the oxidation of the sulfuric acid ions and the persulfuric acid dissolution water may be efficiently obtained.例文帳に追加

ダイヤモンドの酸素発生反応の過電圧が非常に高いため、硫酸イオン含有水溶液の電解が実質的に硫酸イオンの酸化による過硫酸イオン生成反応になり、効率良く過硫酸溶解水が得られる。 - 特許庁

To suppress the influence of hot water temperature decline due to mixing and dissolution of carbon dioxide in a carbonic acid bath mode.例文帳に追加

炭酸風呂モードの際における炭酸ガスの混入溶解による湯温低下の影響を抑えることができる。 - 特許庁

To obtain a composition stable in the solution or in the dissolution state of a medicine having a retinoic acid receptor agonist effect.例文帳に追加

レチノイン酸レセプターアゴニスト作用を有する薬剤の溶液中又は溶解状態で安定な組成物の提供。 - 特許庁

Calcium oxide formed at the same time is removed by acid dissolution and vacuum drying is performed to obtain a starting material for molding and sintering.例文帳に追加

同時生成の酸化カルシウムを酸溶解で除去した后真空乾燥して成形焼結用原料とする。 - 特許庁

To provide sulfur polysulfide of a high concentration while preventing the anode dissolution of an electrode material and the side-production of thioslfuric acid ions.例文帳に追加

電極材質のアノード溶解、チオ硫酸イオンの副生を防止しながら、高濃度の多硫化硫黄を製造する。 - 特許庁

The metal dissolution method comprises bringing a dissolution auxiliary agent into contact with a metal, and bringing a dilute acid into contact with the dissolution auxiliary agent and the metal to dissolve the metal, wherein the dissolution auxiliary agent is an oxygenous compound of any one metallic element selected from among manganese, bismuth, silver, and chromium.例文帳に追加

溶解反応助剤と金属とを接触させるとともに、この溶解反応助剤および金属に希酸を接触させて該金属を溶解させる金属溶解方法であって、溶解反応助剤は、マンガン、ビスマス、銀およびクロムのうちのいずれかの金属元素の酸素化合物であることとする。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition comprises a light absorbing dye, an alkali-soluble resin and a dissolution inhibitor, wherein the dissolution inhibitor is a modified polyvinyl acetal modified with a carboxylic acid and/or sulfonic acid.例文帳に追加

光吸収色素、アルカリ可溶性樹脂及び溶解抑制剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記溶解抑制剤は、カルボン酸及び/又はスルホン酸により変性された変性ポリビニルアセタールであるポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The method for producing indium metal includes a dissolution process for dissolving an indium ingredient in an acid, wherein the free acid concentration of a dissolution liquid obtained by dissolving the indium ingredient is 3.1-7 g/L.例文帳に追加

インジウム含有物を酸で溶解させる溶解工程を含むインジウムメタルの製造方法において、前記インジウム含有物が溶解した溶解液の遊離酸濃度が3.1g/L〜7g/Lであることを特徴とするインジウムメタルの製造方法である。 - 特許庁

The base material component (A) contains a high molecular compound (A1) having a structural unit (a0) including an acid dissociable dissolution inhibiting group, and the acid dissociable dissolution inhibiting group in the structural unit (a0) includes a group expressed by a formula (a0-0-1).例文帳に追加

[式(a0−0−1)中、R^1’及びR^2’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、Y^1は単結合又は二価の連結基であり、R^3はその環骨格中に−SO_2−を含む環式基である。 - 特許庁

To provide a method for producing electric cobalt which is easily dissolved in an acidic solution such as sulfuric acid, further has reduced generation of undissolved residues upon dissolution, and has excellent acid solubility.例文帳に追加

硫酸等の酸性溶液に容易に溶解し、しかも溶解時の未溶解残渣の発生が少ない、酸溶解性に優れた電気コバルトを製造する方法を提供する。 - 特許庁

The tin alloy elctroplating method comprises adding at least one dissolution current suppressing agent selected from the group consisting of glutamic acid-N, N-diacetic acid, methyl glycine-N, N-diacetic acid, aspartic acid and their salts to the tin electroplating bath to suppress the dissolution current of the anode and to attain the prevention of the substitution deposition of the noble metals to the anode during the electrodeposition.例文帳に追加

スズ合金電気メッキ浴に、グルタミン酸−N,N−二酢酸、メチルグリシン−N,N−二酢酸、アスパラギン酸及びこれらの塩よりなる群から選ばれた溶解電流抑制剤の少なくとも一種を添加して、陽極の溶解電流を抑制し、電析中に貴な金属の陽極への置換析出を防止可能にしたスズ合金電気メッキ方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing defoamer is used, which includes: a step (1) of obtaining dissolution liquid by dissolving fatty acid amide (A) while heating and agitating the fatty acid amide (A), base oil (B) that is liquid at 25°C, and crystal shape control agent (C); and a step (2) of precipitating the fatty acid amide by cooling the dissolution liquid to obtain fatty acid amide dispersion liquid.例文帳に追加

脂肪酸アミド(A)、25℃で液状である基油(B)及び結晶形状制御剤(C)を加熱攪拌しながら、脂肪酸アミド(A)を溶解させて溶解液を得る工程(1)、溶解液を冷却して脂肪酸アミドを析出させ、脂肪酸アミド分散液を得る工程(2)を含むことを特徴とする消泡剤の製造方法を用いる。 - 特許庁

According to the formula, a t-butoxy group, an adamantyloxyoxy group, a trimethylsilyl group or the like is introduced as an acid-dissociable dissolution-inhibiting group.例文帳に追加

以下、上記式に倣って、t-ブチロキシ基、アダマンチルオキシオキシ基、トリメチルシリル基などを、酸解離性溶解抑止基として導入する。 - 特許庁

When switching valves 83b and 83c are opened, carbon dioxide is dissolved into a deionized water and a carbon acid dissolution washing liquid is prepared.例文帳に追加

開閉弁83b,83cが開かれると、純水に炭酸ガスが溶解して炭酸溶解洗浄液が調製される。 - 特許庁

Furthermore, CO_2 generated by the decomposition of the carboxylic acid ester improves the lithium deposition/dissolution efficiency at the negative electrode 22.例文帳に追加

また、カルボン酸エステルの分解により生じたCO_2 により、負極22におけるリチウムの析出・溶解効率が向上する。 - 特許庁

The fructooligosaccharide is added to a brown liquor obtained by washing of a raw material crude saccharide, dissolution, saturation with carbonic acid and purification.例文帳に追加

フラクトオリゴ糖は、原料粗糖を洗糖して溶解したのち、炭酸飽充させて精製したブラウンリカーに添加して含有させる。 - 特許庁

This method for producing highly pure tantalum oxide by a hydrofluoric acid dissolution-solvent extraction method using tantalum-containing sludge comprises subjecting the tantalum-containing sludge to an acid treatment or an alkali treatment to enhance the grade of tantalum and subsequently subjecting the product to a dissolution process using hydrofluoric acid (HF).例文帳に追加

タンタル酸化物含有スラッジを原料とするフッ酸溶解−溶媒抽出法によるタンタル酸化物含有スラッジを酸処理またはアルカリ処理を行ってタンタル品位を高めた後、フッ化水素酸(HF)による溶解工程に供することを特徴とする高純度タンタル酸化物の製造方法。 - 特許庁

The optical disk is contacted with an acid solution, and the films such as the reflection metal film on the thermoplastic resin are removed by dissolution or peeling.例文帳に追加

光学式ディスクを酸溶液に接触させ、熱可塑性樹脂上の金属反射膜等の被膜を溶解ないし剥離除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing a 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanoic acid having a narrow particle size distribution and small particle diameters and, accordingly, high dissolution rate.例文帳に追加

粒径分布が狭く且つ小粒径であり、従って、溶解性に優れた2,2’−ビス(ヒドロキシメチル)アルカン酸の製造方法を提供する。 - 特許庁

The antireflection film 7 comprises a material having a lower pH (expressed in terms of a solution prepared by dissolution in unit volume) than a pH (expressed in terms of a solution prepared by dissolution in unit volume) at the time when an acid is generated in the exposure of the resist film 6.例文帳に追加

反射防止膜7は、レジスト膜6が露光されて酸を発生したときの単位体積溶解溶液換算のpHよりも低い単位体積溶解溶液換算のpHを有する材料からなっている。 - 特許庁

Namely, in the dissolution of the lithium cobaltate, by using the hydrogen peroxide as a reducing agent, the electric potential of the dissolution solution is lowered without performing the mixing of metal salts, and the reaction between the sulfuric acid and lithium cobaltate is promoted.例文帳に追加

すなわち、コバルト酸リチウムの溶解において、過酸化水素を還元剤として使用することにより、金属塩の混入なしで溶解液中の電位を下げ、硫酸とコバルト酸リチウムとの反応を促進させる。 - 特許庁

The chemical amplification type positive working resist composition contains (A) a polyhydroxystyrene having acid dissociable dissolution inhibiting groups substituted for at least part of the hydrogen atoms of hydroxyl groups and (B) a compound which generates an acid when irradiated with radiation, and the residual ratio of the acid dissociable dissolution inhibiting groups after a dissociation test with hydrochloric acid is40%.例文帳に追加

次の成分(A)及び(B)、(A)水酸基の水素原子の少なくとも一部が酸解離性溶解抑制基で置換されたポリヒドロキシスチレン、及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、前記(A)成分の、塩酸による解離試験後の酸解離性溶解抑制基の残存率が、40%以下であることを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The polymer compound comprises an acrylic acid-based ester constituent unit having a specific acid-dissociable dissolution-inhibiting group ester skeleton, for example, a monomer compound of formula (I), and an acrylic acid-based ester constituent unit having a specific adamantane skeleton.例文帳に追加

特定の酸解離性抑制基エステル骨格を有するアクリル酸系エステル構成単位、そのモノマーは、例えば下記(I)式であり、又特定のアダマンタン骨格を有するアクリル酸系エステル構成単位を有する高分子化合物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified dissolution inhibiting compound.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の溶解阻止化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The solubilizing agent and/or the dissolution adjuvant is an amino aid and/or a salt thereof, and the amino acid is particularly preferably arginine, histidine, or lysine.例文帳に追加

溶解剤及び/又は溶解補助剤がアミノ酸及び/又はその塩であり、特に、アミノ酸がアルギニン、ヒスチジン、リジンであることが好ましい。 - 特許庁

The straw-shaped fine pores can be formed by dissolution with acid and impregnation at heating by using a glass fiber in place of the organic fiber.例文帳に追加

有機繊維の代わりにガラス繊維を用い、酸での溶解や加熱時の溶融含浸により、ストロー状細孔を形成することもできる。 - 特許庁

The dissolution suppressant is a tricyclodecane derivative or a sarsasapogenin derivative, each having a group which causes a chemical reaction under the action of an acid as a functional group.例文帳に追加

溶解抑制剤は、酸により化学反応を起こす基を作用基として有するトリシクロデカン誘導体あるいはサルササポゲニン誘導体である。 - 特許庁

例文

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with ionizing radiation, a solvent and a compound which reduces the rate of dissolution of a resist film in the alkali developing solution under the action of the acid and/or irradiation with the ionizing radiation.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤ならびに酸及び/又は電離放射線の照射により、レジスト膜のアルカリ現像液に対する溶解速度を減少させる化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁




  
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