「defect resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electronic still camera provided with an image signal processor by which a false signal based on a defect pixel of a solid-state image pickup element included in an object picture from the solid-state image pickup element with high resolution at image pickup is reduced and a video image of the picture is displayed on a monitor in real time.例文帳に追加

撮影時の高解像度の固体撮像素子からの被写体画像に含まれる固体撮像素子の欠陥画素に基づく偽信号を低減しかつその画像の映像を実時間でモニタに表示できる画像信号処理装置を備えた電子スチルカメラを提供。 - 特許庁

To carry out detection efficiently in terms of time and power, while securing a reliability in the detection of dirt and defect of an optical recording/reproducing device, by changing a resolution of detection in relation to a structure or condition of an optical disk recording medium, or the using state of the device.例文帳に追加

光ディスク記録再生装置の汚れ及び欠陥の検出において、光ディスクの記録媒体の構造や状態、または装置の使用状況に関連して検出の分解能を変化することで、信頼性を確保しつつ時間的電力的に効率のよい検出を行う。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a wafer including a step of measuring an infinitesimal internal crystal defect in which a BMD from the front surface of a wafer to be measured to the depth of about 10 μm can be observed with high resolution of a depthwise direction of the wafer and with a difficulty to measure so far.例文帳に追加

被測定ウェーハの深さ方向の高い分解能を有し、かつ、今まで測定することが困難であった被測定ウェーハの表面から１０μｍ程度の深さまでのＢＭＤを観察可能とした微小内部結晶欠陥の測定によるウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁

Further, the gradation pattern is formed, by arranging light shielding parts 3 and light-transmitting parts 3 of size larger than the resolution limit of a defect inspecting device for the photomask, in a region which is ≤20 μm in diameter or the diagonal length, corresponding to the bottom surface of the hemispherical structure.例文帳に追加

しかも、この階調パターンは、半球状構造体の底面に対応する直径または対角長が２０μｍ以下の領域に、フォトマスクの欠陥検査装置の解像限界より大きい寸法の遮光部３及び透光部３を設けることによって形成する。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor realizing high image quality recording whose resolution is ≥1,200 dpi and eliminating an image defect such as an interference fringe pattern (moire) by setting the surface roughness of a conductive supporting body to a specified range, and an image forming method using the same.例文帳に追加

この発明は、導電性支持体の表面粗さを特定の範囲に設定することにより、解像度１２００ｄｐｉ以上の高画質記録で、干渉縞模様（モアレ）等の画像不良を解消した電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

This new method for forming a MOS structure having a GaAs base 140 includes the steps of ion implanting after formation of an oxide and thereafter performing slow heating and cooling operations, in such a manner that an interface defect detectable by a high-resolution transmission electron microscope essentially will not be generated.例文帳に追加

ＧａＡｓを基本とするＭＯＳ構造を形成する新しい方法は、酸化物形成後のイオン注入及び高分解透過電子顕微鏡によって検出できる界面欠陥が本質的に形成されないように行われるその後のゆっくりした加熱及び冷却を含む。 - 特許庁

To provide a high homogeneous porous structure which is estimated by high resolution (high estimation measures) of at most of several nm or several 10s nm, and to provide an SOI substrate which has little defect in an SOI layer by applying such a porous structure to manufacture the SOI substrate.例文帳に追加

数ｎｍ又は数１０ｎｍ以下の高い分解能（高い評価尺度）で評価された場合においても均一性の高い多孔質構造を提供し、更に、このような多孔質構造をＳＯＩ基板の製造に適用することにより、ＳＯＩ層に欠陥の少ないＳＯＩ基板を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a substrate for a photosensitive body free to cut and work with no chattering and less total deflection, the substrate for the photosensitive body having high dimensional precision and the photosensitive body most suitable for an electronic photographing device free to have high resolution and to output full colors without causing a picture image defect.例文帳に追加

所謂「ビビリ」の発生が無く、全振れの少ない切削加工が可能な感光体用基体の製造方法、及び高い寸法精度を有する感光体用基体、並びに画像欠陥の発生がなく、高解像度化、フルカラー出力可能な電子写真装置に好適な感光体の提供。 - 特許庁

To provide a method for inspecting substrates, whereby an inspection time for observing or inspecting the substrate can be shortened, and the discrimination for shapes of parts including defect present on the substrate, and the resolution for images and shape information obtained by observing or inspecting the substrate can be improved fully.例文帳に追加

基体の観察叉は検査を行う際の検査時間を短縮できると共に、基体上に存在する欠陥を含む部位の形状識別性、及び、基体の観察叉は検査で取得される画像及び形状情報の分解能を十分に向上できる基体検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical modulation element which has a gradation function, alignment stability, high contrast, little hysteresis, high resolution and excellent stability of an associated product, and in which a defect is repaired, in an optical modulation element using a ferroelectric liquid crystal.例文帳に追加

強誘電性液晶を用いた光変調素子において、階調機能を持たせると共に、配向安定性を有し、しかも、コントラストが高く、ヒステリシスが少なく、欠陥修復が可能であって、高解像度が可能である、会合体の安定性に優れた光変調素子を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (157 nm) is used, and specifically to provide a positive resist composition having sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, and having improved surface roughness, development defect, scum and resolution.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a signal processing apparatus of an optical signal output device which can check reliability under influence of defect and the like on scale, while maintaining resolution and stability of position detection at a high level over a large displacement detection range, and an optical displacement detecting device including such a signal processing apparatus.例文帳に追加

位置検出の分解能及び安定性を広い変位検出範囲に渡って高いレベルで維持しつつ且つスケール上の欠陥等の影響による信頼度をもチェックできる光学式信号出力装置の信号処理装置及びそのような信号処理装置を備えた光学式変位検出装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition suitable for an exposure light source of ≤200 nm wavelength, in particular an F_2 excimer laser beam (157 nm), to be more specific, a positive photoresist composition which has sufficient transmittance for the 157 nm light source and further of which the surface roughness, the development defect, the development residue (scum) and the resolution are improved.例文帳に追加

２００ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ表面ラフネス、現像欠陥、現像残渣（スカム）、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, having excellent resolution, and causing little development defect and scum (development residue).例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、解像性に優れ、現像欠陥、スカム（現像残渣）の発生が少ない、優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁

To provide an image pickup device for detecting the surface condition of a circuit pattern-formed wafer with high resolution and a defect detection apparatus using the same, without being affected by steep pattern steps, reflectance distributions and optically transparent substance which are formed after resist patterns are formed and removed.例文帳に追加

本発明の目的は、レジストパターン形成後やレジスト除去後の回路パターン付ウェハに存在する急峻なパターン段差、反射率分布、光学的透明体に影響を受けることなく、表面状態を高解像度で検出する撮像装置並びにこれを用いた欠陥検査装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic method and an electrophotographic device in which the film thickness of an electrophotographic photoreceptor is small and an image defect after repetitive use seemed to be caused by a charge leak hardly appears even when electrolytic intensity applied to the electrophotographic photoreceptor is high, and which can realize high resolution and prolongation of the life.例文帳に追加

電子写真感光体の膜厚が薄く、電子写真感光体にかかる電解強度が高くとも、電荷リークに起因すると思われる繰り返し使用後の画像欠陥が現れにくく、高解像度かつ長寿命を実現することができる電子写真方法および電子写真装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, in which the problems of the performance improvement technique of a microphoto application of its own using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam are solved and concretely, the improvement of sensitivity and resolution and a problem of generation of development defect at the time of developing are resolved and which is small in roughness and fineness dependency and capable of obtaining an excellent resist pattern.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、現像の際の現像欠陥発生の問題が解消され、疎密依存性が少なく優れたレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive and compact examination device capable of improving the examination quality by providing an examiner with an examination image of high visibility of a defect using a camera having a usual resolution, and to provide an examination device allowing the same examiner to take charge also of examination of different power generation plants without examination at the side.例文帳に追加

通常の解像度を有するカメラを用いて検査員に欠陥の視認性が良い検査画像を提供することで、検査品質が向上できる低コストでコンパクトな検査装置を提供することができると共に、検査員が現場で検査することなく、同一の検査員が異なる発電プラントの検査も担当できる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging device (a device according to an aberration correction device) for a charge particle beam device as an electron microscope or the like used for the inspection and measurement of a semiconductor, in which a small deviation beam with a high probe current is formed to improve the resolution and throughput in EDX analysis, WDX analysis, or defect inspection.例文帳に追加

半導体の検査および計測に使用される電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置用の「撮像装置」（収差補正装置に準ずる装置）であって、ＥＤＸ分析、ＷＤＸ分析、欠陥検査等の分解能およびスループットを向上させるために高プローブ電流で分散の小さいビームを形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a polyester film, of which hue of reflected light is excellent in decorativeness depending on an angle of visual recognition when used as a prism sheet for a liquid crystal display (LCD) and a lens sheet substrate, and which also has optical characteristics satisfying antiglare properties and resolution properties with sufficient balance, has neither unevenness nor defect, achieves high luminance, and provides a high-quality image.例文帳に追加

液晶ディスプレー（ＬＣＤ）向けのプリズムシート用やレンズシート基材として使用した際に、視認する角度によって反射光の色相が装飾性に優れ、また、防眩性と解像性をバランス良く満たす光学特性を兼ね備え、ムラや欠陥がなく、高度な輝度を実現し、高品質な画像を与えることができるポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner which can output a good gold color in the image formation of an electrophotographic system and can faithfully reproduce intricate electric circuits with high resolution of wiring circuits without the occurrence of an electric conduction defect when used for wiring pattern generation by the electrophotographic system, and to provide a liquid developer containing the toner and an image forming method using the developer.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成において、良好な金色を出力することができ、また電子写真方式による配線パターン作成に用いた場合、導通不良を起こさず配線回路の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現することができる静電潜像現像用トナー、該トナーを含有する液体現像剤、及び該現像剤を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁