例文 (129件) |
defect resolutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 129件
To attain effective defect correction without substantially causing the deterioration of resolution by effectively utilizing the information on effective pixel thereby minimizing the deterioration of S/N.例文帳に追加
有効画素の情報を無駄無く利用し、従ってSNの劣化を最小限にとどめつつ解像度の劣化を事実上生じない効果的な欠陥補正を可能にする。 - 特許庁
To provide an electron microscope endowed with functions of direct-image observation of a high throughput by defect inspection of a semiconductor wafer or the like and scanned image observation at a high resolution.例文帳に追加
半導体ウエハ等の欠陥検査による高スループットの直接写像観察と、高分解能での走査像観察機能を備えた電子顕微鏡を提供すること。 - 特許庁
To provide a polymer having high sensitivity and high resolution and causing little defect in development when it is used for a resist composition in DUV excimer laser lithography and the like.例文帳に追加
DUVエキシマレーザーリソグラフィー等においてレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトが少ない重合体を提供する。 - 特許庁
To provide a contamination and defect inspection/observation system that can suppress a great increase of a footprint and easily perform fast, high-resolution confirmation of inspection conditions by including a sample edge portion.例文帳に追加
フットプリントの大幅な増大を抑え、エッジ部分を含む高速・高分解能で、検査条件の確認を簡便に行える異物・欠陥検査・観察システムを提供する。 - 特許庁
To provide an inexpensive and high-resolution surface defect inspecting apparatus and its method for making a line sensor accurately track a location and a position fluctuation in an inspecting object.例文帳に追加
本発明は、被検査物の位置や姿勢変動にラインセンサを精度よく追従し、低コストで高解像度化が容易な表面欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device defect inspection method and a system thereof which inspects predetermined risky spots using a step-and-repeat type high resolution SEM and estimates a defect occurrence frequency at the risky spots statistically with high reliability.例文帳に追加
ステップ・アンド・リピート式の高解像度SEMを用いて予め定められた危険点を検査し、危険点での欠陥発生頻度を統計的かつ信頼性を持って推定する半導体デバイスの欠陥検査方法及びそのシステムを提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in development defect performance, liquid immersion defect performance and limit resolution and enables to form a pattern having a good shape, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To defect-inspect a flat display panel, using a line sensor of high resolution to verify a degree of the defect in detail and precisely, and to efficiently conduct measurement to shorten the inspection time.例文帳に追加
平面表示パネルを高分解能のラインセンサを用いて欠陥検査し、欠陥の程度を詳細かつ精度よく検証することができ、効率よく測定を行うことにより、検査時間を短縮する平面表示パネルの欠陥検査装置および方法を提供すること。 - 特許庁
To obtain a light reflecting mirror which suppresses shake of an image and a resolution defect, which are caused by mirror oscillation, to prevent troubles such as image distortion and magnification errors due to degradation of flatness of the mirror.例文帳に追加
ミラー振動による画像の揺れや解像力不良を抑え、ミラーの平面度の悪化による画像歪みや倍率誤差等の不具合を防止することができる光折り返しミラーを得る。 - 特許庁
To provide an electron beam device that can prevent damages to the device and can make compatible low aberration, high resolution or high S/N ratio, with easiness of defect classification by obtaining a three-dimensional SEM image.例文帳に追加
デバイス損傷を防止することが可能であり、低収差、高分解能若しくは高S/N比と、立体的なSEM像を得ることによる欠陥分類の容易さと、を両立させる。 - 特許庁
To provide an image signal processing apparatus to process an image signal from an imaging element which eliminates noise of the defect correction or the like and conducts both a resolution maintenance and an outline correction properly.例文帳に追加
撮像素子からの画像信号を処理する画像信号処理装置において、欠陥補正等のノイズ除去と、解像度維持や輪郭補正との両方を好適に行うことが難しい。 - 特許庁
To provide a photomask having practical resolution which can be applied for a 65-nm node, has no defect, and is inspected for defects, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
本発明は、65nmノードにも適応できる実用解像度を有し、無欠陥かつ欠陥検査可能なホトマスクおよび半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To obtain a device which can detect a three-dimensional space in the 360° circumference of the internal surface of a conduit with high resolution and clearly display a defect, such as the crack, particularly, in the circumferential direction.例文帳に追加
管渠の内壁面を周囲360度の3次元空間を分解能よく検出して特に円周方向の亀裂などの欠陥を明白に表示できる装置を得ること。 - 特許庁
To provide a method and a system for inspecting substrate defects, whereby the inspection accuracy for substrate defects can be improved by increasing a resolution of a defect observing apparatus.例文帳に追加
欠陥観察装置の解像度を上げることにより、基板の欠陥検査精度を向上させることができる基板の欠陥検査方法および基板の欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁
To provide a base which is free of a defect in resist coating, has proper slipping property and superior resist coating process adaptability, and is superior in resist resolution and releasing from the resist.例文帳に追加
レジスト塗布時の欠陥がなく、適度な滑り性でレジスト塗布工程適正にも優れ、レジスト解像性やレジストとの離型性に優れたドライフォトレジスト用の支持体を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method and an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in limit resolution, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect characteristics.例文帳に追加
限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード(EL)、及びブリッジ欠陥特性に優れたパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a silver halide photographic sensitive material having good processing stability, giving clear thin lines, capable of forming a defect-free image, and adaptable to finer resolution being a practice in recent years.例文帳に追加
処理安定性がよく細線が鮮明で、欠陥がない画像を形成することができ、近年の高精細化に十分に対応しうるハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁
To provide a laser excitation ultrasonic image device, capable of inspecting a defect in an inside of an inspection object and capable of analyzing structure thereof in nondestructive and noncontact manner, with nanometer order of spatial resolution.例文帳に追加
非破壊・非接触で、検査対象内部の欠陥検査や構造解析を、空間解像度がナノメータオーダでも行えるといったレーザ励起超音波画像装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for acquiring high-resolution image of a defect of the upper surface of a wafer edge, that does not have the problem of degrading the quality of images to be acquired.例文帳に追加
撮影する画像の品質を低下させる焦点調節の問題のない、ウエハ縁端部の上部表面の欠陥の高分解能画像を取得する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an imaging device that attains effective defect correction where information of effective pixels can be utilized without waste and deterioration in the resolution cannot substantially be caused, while minimizing the deterioration in the S/N.例文帳に追加
有効画素の情報を無駄無く利用し、従ってSNの劣化を最小限にとどめつつ解像度の劣化を事実上生じない効果的な欠陥補正を可能にする。 - 特許庁
To provide an inspection device using a charged particle beam, capable of accurately detecting a defect hard to detect by an optical image by using an electron beam and of reducing erroneous detection of the defect without degrading inspection resolution by reducing noise of the inspection image causing trouble at that time.例文帳に追加
光学画像では検出困難な欠陥を電子線を用いて高精度に検出するとともに、その際問題となる検査画像のノイズを低減して、検査分解能をさげることなく欠陥の誤検出を低減することができる荷電粒子線を用いた検査装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a small-sized, inexpensive and high resolution color image pickup by preventing the occurrence of a color Moire pattern caused by a periodic color coding arrangement and, at the same time, to substantially prevent the occurrence of resolution deterioration even when an isolated pixel defect exists.例文帳に追加
周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、小型低コストで高解像度を確保すると共に、孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化が実質的に生じさせないカラー撮像の可能なカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image display that is excellent in various characteristics such as resolution, quality of image, and emission efficiency, easily enlarges a screen, can also realize the reduction of a manufacturing cost, and can solve problems such as wiring defect.例文帳に追加
解像度や画質、発光効率などの諸特性に優れ、且つ大画面化が容易で、製造コストの低減も実現でき、また配線不良などの問題も解決できる画像表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.例文帳に追加
紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁
A hole pattern or the like free from a development defect, the pattern having a crosslinked hardened layer 5 on the surface of the resist pattern and having a size less than the resolution limit of the exposure wavelength is formed by developing the coating layer 4.例文帳に追加
被覆層4を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層5を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor supersensitive to a light source emitting monochromatic light of a wavelength ≥380 nm and ≤500 nm, having high quality represented by high resolution, high gradation or the like, and allowing formation of a small-defect image faithfully developed to high-resolution exposure.例文帳に追加
波長380nm以上500nm以下の単色光を発する光源に対し高感度であり、高解像度、高階調性等に代表される高品質であって、しかも高解像度な露光に対して忠実に現像された欠陥の少ない画像を形成することのできる電子写真感光体を実現する。 - 特許庁
Since the reflected beam from the sample surface is detected by each light receiving element (19) separated by a light shielding member, a con-focal optical system is established, resulting in higher resolution for defect detection.例文帳に追加
さらに、試料表面からの反射ビームは、遮光部材により分離された各受光素子(19)により受光されるので、コンフォーカル光学系が構成され、この結果、欠陥検出の分解能が一層高くなる。 - 特許庁
To provide an eddy current flaw detection probe for a pulsed eddy current flaw detector inspecting magnetic materials, such as carbon steel, capable of detecting defects inherent in an inspection object at a high resolution, while maintaining defect detection sensitivity.例文帳に追加
炭素鋼等の磁性材に対する検査を行うパルス渦電流探傷装置の渦電流探傷プルーブにおいて、被検査体に内在する欠陥を、欠陥検出感度を維持しつつ高分解能で検出する。 - 特許庁
To provide an image display unit which is excellent in various characteristics such as resolution, quality of image, and emission efficiency, whose screen size can be easily increased, whose manufacturing cost can be reduced, and by which problems such as wiring defect can be solved.例文帳に追加
解像度や画質、発光効率などの諸特性に優れ、且つ大画面化が容易で、製造コストの低減も実現でき、また配線不良などの問題も解決できる画像表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection method and an inspection device for a display device that enable a defect of pixels to be detected based on a current flowing to only one pixel and consequently enable the resolution of an inspection waveform to be increased to realize highly accurate inspection.例文帳に追加
一つの画素にだけ流れる電流に基づいて画素の欠陥検査を可能とし、もって検査波形の分解能を高めて精度の高い検査を行うことのできる表示装置の検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a wafer inspection device which can achieve high-speed, high-resolution visual test of semiconductor wafer and consistently prepares samples for TEM observation or various analyses with high accuracy of position from the area where any foreign material or defect exists.例文帳に追加
半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からTEM観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To actualize a method and a device for electrostatic photographic image formation which cause no defect in fixation even at low temperature and have the same effect even when toner particles are made small in size for higher resolution and to save energy.例文帳に追加
低温でも定着不良が発生せず、高解像度化を図るためトナー粒子を小粒径にした場合にも同様の効果を奏する静電写真画像形成方法及び装置を実現し、省エネルギー化を達成すること。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition being used for pixel formation of a solid state imaging device, allowing a pixel excellent in resolution, and enabling suppression of occurrence of release defect in a pixel after post-bake carried out in pixel formation.例文帳に追加
固体撮像素子の画素形成に用いられ、解像性に優れた画素が形成でき、且つ、画素形成の際に行われるポストベーク後において画素の剥がれ欠陥の発生が抑制された感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam device having a little degradation of resolution even in image shifting beyond ±75 μm and a defect inspection device having a CAD navigation function interlocking with image shifting function, in a defect inspection device combining a plurality of probes measuring electrical property of samples including minute circuit wiring patterns with a charged particle ray device.例文帳に追加
微細な回路配線パターンを含む試料の電気特性を測定する複数のプローブと荷電粒子線装置とを組み合わせた不良検査装置において、±75μm以上のイメージシフトでも分解能の劣化の少ない荷電粒子線装置と、イメージシフト機能に連動したCADナビゲーション機能を有する不良検査装置の提供する。 - 特許庁
To provide a color image pickup element and device for substantially solving the problem of generating color moire fringes caused by periodic color coding array, for substantially preventing the generation of the deterioration of resolution even when any isolated pixel defect exists, for ensuring miniaturization, low costs and color image pickup with high resolution, and for sharply improving an image pickup dynamic range.例文帳に追加
周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、同時に孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化を実質的に生じさせず、小型低コストで高解像度のカラー撮像が可能で、且つ撮像ダイナミックレンジを飛躍的に向上させることができるカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁
To solve problems that a step of arraying a first mask step and a second mask step is not easy and a defect is caused when a double patterning step for overcoming the limit of resolution of exposure equipment is performed in a fine pattern forming method of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体素子の微細パターン形成方法に関し、露光装備の解像度の限界を克服するため二重パターニング(Double Patterning)工程を行うことにおいて、第1マスク工程と第2マスク工程を整列する工程が容易でなく不良が発生する。 - 特許庁
To provide a defect-inspecting apparatus that dispenses with the rotating mechanism of a color filter inside a camera, eliminates the rotation waiting time of the filter, minimizes image capturing and image data transfer of a high-resolution camera, and reduces the inspection time.例文帳に追加
カメラ内部にカラーフィルタの回転機構を不要にして、フィルタの回転待ち時間が無くなるようにすると共に、高解像度カメラの画像撮像と撮像データ転送は最小限にし、検査時間の短縮を実現した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a high-resolution multiple mass filter wherein an electric field for separating ionized particles is never disturbed even if there is a film defect such as a pin hole in an inside electrode, or the beam diameter of the ionized particles entering the mass filter is large.例文帳に追加
内側電極にピンホール等の膜欠陥があっても、また、マスフィルタヘの入射イオン化粒子のビーム径が大きい場合でも、イオン化粒子を分離するための電界が乱されることがない分解能が高い多重極マスフィルタを提供する。 - 特許庁
Hereby, the detector behaves as if it has no lattice defect, and gamma detection is performed in this state, and energy resolution is temporarily recovered.例文帳に追加
放射線損傷を受けたGe検出器に規定電圧をかけ、強いガンマ線源を検出器の近くに置き、十分多くの電子・空孔対を生成させると、これらが格子欠陥に取り込まれ、あたかも格子欠陥がなくなったかのような振る舞いをするようになる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a waveguide type photodetector, wherein a lattice defect concentrates only on the center portion of a rib-type waveguide of a semiconductor even in the case of using an exposure apparatus of which the resolution is equal to or higher than the width of the rib-type waveguide.例文帳に追加
解像度がリブ型導波路の幅以上の露光装置を使用しても格子欠陥が導波路のリブ型導波路の中央部にのみに集中する導波路型受光器の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加
ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁
To provide a positive type radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in resolution, sensitivity, pattern shape, etc., causing no development defect in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加
放射線に対する透明性が高く、しかも解像度、感度、パターン形状等に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging device that attains effective defect correction where deterioration in the resolution cannot substantially be caused by utilizing information of effective pixels without waste, so as to minimize the deterioration in the S/N, without the need for provision of a complicated hardware circuit needing much load.例文帳に追加
複雑な負担の大きいハード回路を要することなく、また有効画素の情報を無駄無く利用し、従ってSNの劣化を最小限にとどめつつ解像度の劣化を事実上生じない効果的な欠陥補正を可能にする。 - 特許庁
To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.例文帳に追加
ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging device capable of preventing deformation of a photoconductive film and an image defect due to temperature rise of the imaging device without degrading the performance of the imaging device such as high sensitivity, high resolution and high S/N ratio.例文帳に追加
撮像装置の高感度、高解像度、高S/N等の性能を劣化させることなく、撮像装置の温度上昇による光導電膜の変形及び画像欠陥を防止することができる撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an inexpensive surface protective film which is excellent in the ability to protect an adherend (especially an optical sheet) and capable of carrying out an inspection of a defect on the adherend (in particular, the optical sheet) in high resolution, at the state that a surface-protective film (a pressure-sensitive adhesive sheet) is adhered to the adherend.例文帳に追加
被着体(特に光学シート)の保護性能に優れ、表面保護フィルム(粘着シート)を貼付した状態で、被着体(特に光学シート)の欠陥検査を精度良く行うことのできる安価な表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁
In the defect-inspecting apparatus for inspecting the defects to be inspected by applying image processing, which uses a captured signal outputted from a capturing section for capturing an inspection target, the capturing section has at least two cameras having different resolutions, defects are detected by the high-resolution camera, and the color of the defects is detected by a low-resolution camera.例文帳に追加
検査対象を撮像する撮像部から出力された撮像信号を用いて画像処理を行い前記検査対象の欠陥検査を行う欠陥検査装置において、 前記撮像部は、解像度の異なる少なくとも2台のカメラを有し、 高解像度のカメラで欠陥を検出し、低解像度のカメラで前記欠陥の色の検出を行うように構成する。 - 特許庁
To provide a color image pickup element and a device for substantially solving the problem of generating color moire fringes caused by a periodic color coding array, for ensuring miniaturization, low costs and high resolution, for substantially preventing generation of deteriorated resolution even when any isolated pixel defect exists, for relatively increasing the degree of freedom of the array of the color coding array, and for obtaining a high random effect.例文帳に追加
周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、小型低コストで高解像度を確保すると共に、孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化が実質的に生じさせず、且つ色コーディング配列の配列自由度が比較的高く、高いランダム効果が得られるカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁
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