「dissolution rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Carbon dioxide is dissolved in a carrier liquid by fine-bubbling and introducing a high pressure carbon dioxide gas (operating fluid) to the carrier liquid while the carrier liquid (physiological salt solution or the like) is continuously flowed to a dissolution tank 16 disposed on a line at a predetermined flow rate.例文帳に追加

ライン上に配置した溶解槽１６にキャリア液（生理食塩水等）を所定流量で連続的に流しつつ、キャリア液に高圧二酸化炭素ガス（作用流体）を微小泡化して導入することにより、キャリア液中に二酸化炭素を溶解させる。 - 特許庁

When a secondary refining treatment that uses electrode heating for a molten steel is performed, the estimated remaining thickness of a slag line refractory 3c is calculated by using the dissolution loss speed of the slag line refractory 3c obtained based on the energization electric power consumption rate when electrode heating is performed.例文帳に追加

溶鋼に対して電極加熱を用いた二次精錬処理を行うに際し、電極加熱を行う際の通電電力原単位を基に得られたスラグライン耐火物３ｃの溶損速度を用いて当該スラグライン耐火物３ｃの推定残厚を算出する。 - 特許庁

To provide a positive type resist material which has an extremely high alkaline dissolution-rate contrast before and after exposure, a high resolution, a high sensitivity, and good roughness (LWR) after exposure, and further which suppresses acid diffusion rate, in particular, a positive type resist material using a high molecular compound suitable as a base resin of a chemical amplification positive type resist material, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the expression (1), F represents a forming rate (nm/min) of the oxide film during electrolysis in anodizing; D represents a dissolution rate (nm/min) of the oxide film which has been immersed in the electrolytic solution used in the anodizing at the treatment temperature in the electrolysis, without being electrolyzed; and V represents voltage (V) during electrolysis in the anodizing.例文帳に追加

Ｈ＝Ｆ／（Ｄ×Ｖ） （１） 前記式（１）中、Ｆは前記陽極酸化処理における電解時の酸化皮膜の形成速度（ｎｍ／ｍｉｎ）を表し、Ｄは前記陽極酸化処理に使用する電解液中に電解時の処理温度で無電解にて浸漬処理した時の酸化皮膜の溶解速度（ｎｍ／ｍｉｎ）を表し、Ｖは前記陽極酸化処理における電解時の電圧（Ｖ）を表す。 - 特許庁

In another preferred aspect, photoresist compositions are provided that comprise (i) one or more resins, (ii) a photoactive component, and (iii) one or more materials that comprise a sufficient amount of acidic groups to provide a dark field dissolution rate of at least one angstrom per second.例文帳に追加

別の好ましい態様において、提供されるフォトレジスト組成物は、（ｉ）１種以上の樹脂、（ｉｉ）光活性成分、および（ｉｉｉ）少なくとも１オングストローム／秒のダークフィールド溶解速度を提供するのに充分な量の酸性基を含む１種以上の物質を含む。 - 特許庁

The adhesive can be used as a water-soluble hot-melt adhesive giving high adhesive force and water-dissolution rate after the preliminary drying treatment.例文帳に追加

澱粉糊液であり、澱粉可塑剤を澱粉１００質量部当たり１０〜１００質量部含有し、３０℃、濃度５０％で１００〜２０００００cpsの粘度を有することを特徴とする感熱性接着剤が、予備乾燥後に接着力および水溶解速度の大きい水溶性ホットメルト接着剤として使用できる。 - 特許庁

A sheet bath is obtained by providing a print of a letter and/or a drawing, a figure or the like on a water soluble sheet with the use of a water soluble ink into which a bathing agent has been mixed through a water soluble adhesion ink and making the dissolution rate of the water soluble sheet higher than that of the print.例文帳に追加

水溶性シートに、水溶性接着用インクを介して入浴剤混入の水溶性インクを使用して文字及び／又は絵や図形等の印刷物を設け、該水溶性シートの溶解速度を印刷物の溶解速度より速くしてなるシート状入浴剤。 - 特許庁

To provide a new α-substituted acrylate derivative useful as a raw material for a polymer compound for use in a photoresist composition excellent in its dissolution-rate controllability while maintaining its high transparency in the vicinity of the wavelength of 193 nm, and an efficient method of producing the same.例文帳に追加

波長１９３ｎｍ付近における高い透明性を維持しながら、溶解速度のコントロールに優れたフォトレジスト組成物用高分子化合物の材料として有用である、新規なα−置換アクリル酸エステル誘導体およびその効率的な製造方法を提供する。 - 特許庁

The copper concentration in molten solder is estimated according to the molten state of the copper pattern formed on the substrate, by bringing the copper pattern formed on the substrate into contact with the fused solder, while utilizing the relation that the rate of dissolution of solid metal is dependent on the solute concentration in fluid metal.例文帳に追加

固体金属の溶解速度が液体金属中の溶質濃度に依存していること利用し、基板上に形成された銅パターンと溶融はんだと接触させ、上記基板上に形成された銅パターンの溶解状態により溶融はんだ中の銅濃度を推定する。 - 特許庁

The fertilizer dissolution material 2 is composed of brick or granular solid produced from fertilizers such as silica sand, digested sludge, a fish processing waste water sludge and wood scraps to supply phosphorus, nitrogen, silicic acid, iron, humic materials, etc., necessary for forming a seaweed bed at an extremely low rate over a long period.例文帳に追加

肥料溶出体２は藻場造成に必要なリン、窒素、ケイ酸、鉄、フミン質等を極少量ずつ長期間にわたって供給するように、ケイ砂、消化汚泥、水産加工廃水汚泥、木くずなどの肥料を原料として作られたレンガ、もしくは粒状固形物で構成されている。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has a specific alicyclic hydrocarbon group and in which the dissolution rate to an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound having a specific structure to generate an acid by the irratidation with active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for producing indium metal, which can produce high-purity indium metal by a simple process at a high recovery rate by controlling the free acid concentration of a dissolution liquid obtained by dissolving an indium ingredient with an acid and then removing Sn being a metal impurity in the indium ingredient.例文帳に追加

インジウム含有物を酸で溶解させた溶解液の遊離酸濃度を制御し、インジウム含有物中の金属不純物であるＳｎを除去することで、簡単な工程で且つ高い回収率で高純度のインジウムメタルを製造することができるインジウムメタルの製造方法の提供。 - 特許庁

To obtain a soil-preventing coating composition applied to a ship body, structured material under or on water, fishery material, etc., to be more in detail, enabling the control of dissolution rate of the coating film and capable of exhibiting a soft coating film structure and soil-preventing performance for a long period of time.例文帳に追加

船体、水中・水上構造物、漁業資材などに適用される防汚塗料組成物に関し、詳しくは塗膜の溶出速度の制御を可能として長期にわたって柔軟な塗膜構造と防汚性能を発揮できる防汚塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type lithographic printing plate having a new water-soluble oxygen blocking layer that shows preferable oxygen blocking property as well as favorable sensitivity and printing durability, excellent adhesion with a photopolymerizable photosensitive layer, and a high dissolution rate in rinsing and/or development.例文帳に追加

良好な酸素遮断性を有するとともに、感度、耐刷性が良好であり、光重合性感光層との接着に優れ、かつ水洗及び／または現像での溶解速度が速い新規な水溶性酸素遮断層を設けた光重合型の平版印刷版を提供する。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin which includes a specific repeating constitutional unit and whose dissolution rate in an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid and a compound which generates the acid by irradiation with active rays or radiations and patterns are formed by using the positive photoresist composition.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a lignophenol derivative, with which load of waste liquid treatment is reduced, the amount of water used in production is saved, a process period is shortened, productivity is improved, a dissolution rate in an organic solvent such as acetone, an alcohol, etc., is increased and recovery ratio of the purified lignophenol derivative is improved.例文帳に追加

廃液処理の負担を少なくして、製造にかかる水使用量の節減および工程期間を短縮し生産性を向上させ、さらにアセトン，アルコール等の有機溶媒への溶解率を高くし、精製リグノフェノール誘導体の回収率を向上させることのできるリグノフェノール誘導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The coating film and the coated substrate provided with the coating film having a dissolution rate of ≤50% to a specific aqueous medium is obtained by contacting a substrate with a coating liquid containing a polymer having a phosphoric acid ester group and heat-treating the obtained film having phosphoric acid ester group at 200-450°C.例文帳に追加

本発明のコーティング膜及び該膜を備えた被覆基体は、リン酸エステル基を有する重合体含有コーティング液を基体に接触させて形成したリン酸エステル基を有する膜を、２００〜４５０℃で加熱処理して得た、特定の水系媒体に対する溶出率が５０％以下を示すことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an edge bead remover having an excellent resist dissolution rate, low toxicity and very high safety, excellent also in environmental preservation, giving out little unpleasant odor, having a relatively high boiling point and good operability, forming no residue or deposit and capable of efficiently producing a high-grade substrate for the production of electronic parts.例文帳に追加

優れたレジスト溶解速度を有し、低毒性で極めて安全性が高く、環境保全にも優れ、不快臭も極めて少なく、比較的高沸点で操作性が良好であり、残さや析出物を生じることがなく、高品位の電子部品製造用基材を高効率で製造することができるエッジビードリムーバを提供する。 - 特許庁

To provide a resin capable of constituting a photosensitive resin composition which can easily adjust an alkali dissolution rate to enable good developing properties by an alkali aqueous solution and also can cope with the formation of a fine pattern, and particularly is suitable for photolithography, a photosensitive resin composition containing the resin, and a method for producing the resin.例文帳に追加

アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

(2) In the method for producing the stainless steel for the conductive component having low contact electric resistance having a step of immersing the stainless steel in a solution, the solution contains fluorine ions, and the stainless steel is dissolved at the dissolution rate of ≥0.002g/(m^2.s) and <0.50g/(m^2.s) in the step.例文帳に追加

（２）溶液に浸漬する工程を有するステンレス鋼の製造方法において、前記溶液がフッ素イオンを含有し、前記工程において前記ステンレス鋼を溶解速度０．００２ｇ／（ｍ^２・ｓ）以上０．５０ｇ／（ｍ^２・ｓ）未満で溶解することを特徴とする接触電気抵抗の低い通電部品用ステンレス鋼の製造方法。 - 特許庁

By the method, it becomes possible to rapidly and easily perform the crystal growth test or the crystal dissolution rate measurement of minerals or metals in various environments without selecting a test place, and further, the method can be applied to a simple measurement in the order of micrometer.例文帳に追加

PFAテフロン（登録商標）シートの表面に試験対象となる鉱物又は金属の粒子を埋め込んで成る結晶成長・溶解速度試験用試験センサーの表面形状を試験前後で測定し、試験前後の表面形状の差から鉱物又は金属の結晶成長速度もしくは溶解速度を求めるものである。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin which decomposes under the action of an acid and exhibits an increased dissolution rate in an aqueous alkali solution; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound which is unevenly distributed unevenly in a film surface, upon formation of film.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）製膜により膜表面に偏在する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The method for producing a resin that increases a dissolution rate in an alkali development solution by an acid action comprises a process for dripping a monomer solution containing two or more monomers to a heated solvent to polymerize the monomers and a process for terminating the polymerization before or after the completion of dripping of the monomer solution.例文帳に追加

二種類以上のモノマーを含有するモノマー溶液を加熱した溶剤に滴下して重合する工程と、モノマー溶液の滴下終了前もしくは後に重合を停止させる工程、を含むことを特徴とする酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂の製造方法。 - 特許庁

To provide an air mixing nozzle which increases oxygen dissolution efficiency and reduces running cost by breaking introduced bubbles into smaller ones by using pressurized water flow energy flowing through the inside of a nozzle member at high speed without increasing the amount of air introduced from the outer periphery of pressurized water flow and water flow rate.例文帳に追加

加圧水流の外周部より導入する空気量及び水流速を増すことなく、ノズル部材内を高速流通する加圧水流エネルギーを用いて導入気泡のより微細化を図って酸素溶存効率を高め、かつランニングコストの低減を図るようにした混気用ノズルを提供すること。 - 特許庁

A laminate of the thick film, a pattern and the like are formed using the negative resist composition for a thick film comprising a photoacid generator (A) represented by formula (1), a phenolic resin (B) having an ADR (alkali dissolution rate) of ≥1,000 Å/s, and an epoxy resin (C) having two or more epoxy resins per molecule.例文帳に追加

下記式（１）で表される光酸発生剤（Ａ）、ＡＤＲ（アルカリ溶解速度）が１０００Å／ｓ以上であるフェノール樹脂（Ｂ）及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂（Ｃ）を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。 - 特許庁

The auxiliary agent composition for washing contains an auxiliary agent for washing comprising an acidic substance and a polymer covering the same, where the polymer has a rate of dissolution in water of at most 10% at pH10 and at least 80% at pH6 when stirred for 10 min in water at 20°C.例文帳に追加

酸物質と、これを被覆するポリマーとを有する洗濯用助剤を含有する洗濯用助剤組成物であって、該ポリマーが、２０℃の水中で１０分間攪拌した際に、水に対しｐＨ１０で１０％以下、かつｐＨ６で８０％以上の溶解率を有する洗濯用助剤組成物である。 - 特許庁

This percutaneous absorption sheet includes: distal sections 14A containing the pharmaceutical; proximal sections 14C which have an in-vivo dissolution rate larger than that of the distal sections 14A; needle sections 14 which contain the pharmaceutical and are provided with intermediate sections disposed between the distal sections 14A and the proximal sections 14C; and a sheet section 12 supporting the needle sections 14.例文帳に追加

経皮吸収シートは、薬剤を含む先端部１４Ａと、生体内での溶解速度が先端部１４Ａよりも大きい根元部１４Ｃと、薬剤を含み、先端部１４Ａと根元部１４Ｃとの間に配置される中間部とを備えるニードル部１４と、ニードル部１４を支持するシート部１２とを含む。 - 特許庁

This polyvinyl alcohol-based binder fiber comprises a polyvinyl alcohol-based polymer having a dissolution temperature of 40 to 70°C in water, a swelling degree of 80 to 350% in water, a maximum shrinkage degree of ≤10% in water, an elusion rate of ≤20% in water, a water dispersion level of ≤10, and an average polymerization degree of ≥1,000.例文帳に追加

水中溶解温度が４０〜７０℃、水中膨潤度が８０〜３５０％、水中最大収縮率が１０％以下、水中溶出率が２０％以下、水分散性レベル１０以下であり、かつ平均重合度１０００以上のビニルアルコール系ポリマーにより構成されたポリビニルアルコール系バインダー繊維とする。 - 特許庁

To provide an edge bead remover having an excellent resist dissolution rate, low toxicity and very high safety, excellent also in environmental preservation giving out little unpleasant odor, having a relatively high boiling point and good operability, forming no residue or deposit and capable of efficiently producing a high-grade substrate for the production of electronic parts.例文帳に追加

優れたレジスト溶解速度を有し、低毒性で極めて安全性が高く、環境保全にも優れ、不快臭も極めて少なく、比較的高沸点で操作性が良好であり、残さや析出物を生じることがなく、高品位の電子部品製造用基材を高効率で製造することができるエッジビードリムーバを提供する。 - 特許庁

The objective stretchable conjugate yarn giving a knit or woven fabric having outstanding stretchability is produced by doubling a multifilament yarn having latent-crimping potency and a highly shrinkable easily soluble filament yarn having a boiling water shrinkage higher than that of the multifilament yarn by ≥5% and a dissolution rate to an alkaline aqueous solution higher than that of the multifilament yarn by a factor of ≥5.例文帳に追加

潜在捲縮能を有するマルチフィラメント糸と、該マルチフィラメント糸よりも沸水収縮率が５％以上高く、且つアルカリ水溶液に対する溶解速度が５倍以上である高収縮・易溶性フィラメント糸とが複合されたもので、卓越した伸縮性を有する編・織物を与えるストレッチ性複合糸を開示する。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a pullulan-containing powder and a process for the manufacture thereof and a use thereof, which solve such weak points of the pullulan- containing powder produced by using a conventional manufacturing technique as causes the separation when mixed in the powdery state with a nonreducing sugar of a glucose as the constitutive sugar and is difficult to dissolve in water, and which has an accelerated dissolution rate.例文帳に追加

本発明は、従来の製造技術を用いて製造されるプルラン粉末の欠点、即ち、グルコースを構成糖とする非還元性糖質とを粉末状態で混合したときに分離を生じ、水にも溶け難いなどの欠点を解消し、溶解速度を高めたプルラン含有粉末とその製造方法並びにその用途を提供することを課題とする。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved by irradiation with the active light or radiation to generate a basic compound and an ionic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び活性光線又は放射線の照射により結合が開裂して、塩基性化合物とイオン性化合物を発生する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved under heat to separate two or more components including a radical species and/or an ionic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び熱により結合が開裂して、ラジカル種及び／又はイオン性化合物を含む２成分以上に分離する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an ink-jet printing ink good in dispersion or dissolution stability, prevented from change in the size and issue rate of ink droplets and malissue thereof through preventing leaching of silicon, glass or either one film of oxide, nitride and metal provided on the silicon or glass in contact with the ink, to provide an ink-jet printing method, and to provide an ink-jet printer.例文帳に追加

インクと接するシリコン、ガラス及びこれらに設けられた酸化物、窒化物、金属のいずれかの膜の溶出防止により、インク滴の大きさや吐出速度の変化、吐出不良を防止し、インクの分散又は溶解安定性の優れたインクジェット記録用インク、インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置を提供する。 - 特許庁

The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation.例文帳に追加

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。 - 特許庁

Preferably, the pharmaceutical composition provides a dissolution rate of naloxone hydrochloride within ±10% to that of oxycodone hydrochloride in vitro tested by USP device I (basket) method in USP XXIV (2000) under 100 rpm in 900 ml of a simulated gastric fluid (SGF) at 37°C for one, four and 12 hours.例文帳に追加

好ましくは、３７℃における９００ｍｌの模擬胃液（ＳＧＦ）中において１００ｒｐｍで、米国薬局方ＸＸＩＶ（２０００年）のＵＳＰ装置Ｉ（バスケット）法によりイン・ビトロで試験したときに、１時間、４時間、及び１２時間において、該オキシコドンハイドロクロライドの溶解速度に対して±１０％の範囲内にある前記ナロキソンハイドロクロライドの溶解速度をもたらす、該医薬組成物。 - 特許庁

The optical information recording medium has at least a light reflection layer, a recording layer, and the light transmission layer in order on a substrate, and the recording layer contains coloring matters, and the dissolution rate of the coloring matters to the light transmission layer is ≤0.1 mass % of the light transmission layer, and laser is made incident from the light transmission layer side to record and reproduce information.例文帳に追加

基板上に、少なくとも光反射層、記録層、光透過層、を順次有する光情報記録媒体であって、前記記録層が色素を含有し、該色素の前記光透過層への溶解率が該光透過層の０．１質量％以下であり、該光透過層側からレーザーを入射して情報を記録・再生することを特徴とする光情報記録媒体である。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures high shelf stability of a solution of the composition, enhances dissolution contrast between unexposed and exposed parts and forms a pattern with high sensitivity and good resolution while maintaining a high rate of a residual film, a method for producing an accurate pattern of a good shape and high reliability electronic parts with a pattern obtained by the method.例文帳に追加

本発明は、組成物溶液の保存安定性が高く、未露光部と露光部の溶解コントラストを高くし、高い残膜率を維持しながら高感度で解像性の良好なパターンを形成させる感光性樹脂組成物、 良好な形状の精密なパタ−ンの製造法及び前記製造法により得られるパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a dissolving apparatus excellent in space saving properties because being excellent in automation and labor saving and capable of being miniaturized, excellent in dissolution uniformity even in the case of a high dilution ratio and a small feed-out flow rate and not deteriorating the function of a liquid polymer because a necessary amount of a mixed liquid is formed by sequentially dissolving the liquid polymer in a short time and can be sequentially used.例文帳に追加

自動化、省力化に優れ、小型化が可能であるため省スペース性に優れ、高希釈倍率で混合液の送出流量が少量の場合であっても溶解の均一性に優れ、又、短時間で逐次溶解させて必要量の混合液を生成し逐次使用できるため液体ポリマーの機能を劣化させることがない溶解装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with ionizing radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved by the acid to generate ionic compounds, at least one of which contains a compound nonreactive with a proton donative compound in the composition.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び酸により結合が開裂してイオン性化合物を発生し、該イオン性化合物のうち少なくとも１つが組成物中のプロトン供与性化合物と反応しない化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming on a substrate 1 a resist layer 3 containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene and not containing a fluorine atom; performing rendering or exposure of a predetermined pattern shape by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a fluorocarbon-containing developer having a dissolution rate of an insoluble part of less than about 0.5 Å/h.例文帳に追加

基板１上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が１時間あたり約０．５Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 - 特許庁