Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
「diffraction region」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索
[go: Go Back, main page]

1153万例文収録!

「diffraction region」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > diffraction regionの意味・解説 > diffraction regionに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

diffraction regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 236



例文

To provide an arithmetic circuit with which arithmetic processing, such as summing and summing of products and so on is carried out, without being influenced by a diffraction limit of light by finding a photophysical phenomenon distinct among quantum dots arranged in nanometer region.例文帳に追加

ナノメートル領域に配置した量子ドット間に特有な光物理現象を見出し、光の回折限界に支配されることなく和演算や積和演算を始めとした演算処理等を行うことができる演算回路を提供する。 - 特許庁

In a diffracted optical element composed of a structure in which a first region and second region 6 and 7 each having different temperature dependency in the refractive index with each other are arranged alternatively, the element temperature at which diffraction efficiency for incident light in a specific polarization direction becomes minimal is set within the limits of 25 to 70 degrees C.例文帳に追加

屈折率異方性及び屈折率の温度依存性がそれぞれ互いに異なる第1の領域と第2の領域6,7とが交互に配列された構造を有し、特定の偏光方位の入射光に対する回折効率が極小値をとる素子温度が、摂氏25度以上摂氏70度以下の範囲内であることとした。 - 特許庁

A moving mechanism 36 of the adjustment device 30 moves the grating plate relative to the transmitted light in the direction approximately perpendicular to the transmitted light of the optical head at least from a first position where the transmitted light is made incident on the diffraction region to a second position where the passing light is made incident on the non-refractive region, or from the first position to the second position.例文帳に追加

調整装置30の移動機構36は、光ヘッドの透過光にほぼ直交する方向に向けて、少なくとも、その透過光が回折領域に入射される第1の位置から透過光が非回折領域に入射される第2の位置まで又は第1の位置から第2の位置まで、透過光に対して格子板を移動させる。 - 特許庁

This element for transfer in formed of a cholesteric liquid crystal film which is a laminated body constituted at least of a supporting base/a cholesteric liquid crystal layer/an adhesive layer, and the cholesteric liquid crystal layer has a region showing a diffraction capability at least on one section in the film thickness direction.例文帳に追加

支持基板/コレステリック液晶層/接着剤層から少なくとも構成される積層体であって、コレステリック液晶層が、膜厚方向の少なくとも一部に回折能を示す領域を有したコレステリック液晶性フィルムからなる転写用素子である。 - 特許庁

例文

When light is made incident from the surface of the transmission type diffraction grating where the grooves are formed and diffracted light is fetched from the surface of the base plate where the grooves are not formed, the cycle (a) of the groove is within 0.51λc to 1.48λc when the center wavelength of the wavelength region to be used is defined as λc.例文帳に追加

この透過型回折格子の溝の形成された面から光を入射し、溝の形成されていない基板面から回折光を取り出すとき、溝の周期aを、使用する波長域の中心波長をλcとして、0.51λc〜1.48λcの範囲とする。 - 特許庁


例文

The center position of the light transmitted through the frequency cut filter and the diffraction mask is shifted from the center of the defect detection region in the plate as an object by a distance from one third or more to a half or less of a viewing field of the imager.例文帳に追加

そして、前記周波数カットフィルタ及び回折マスクを透過した光の中心位置が、対象とする板状体の欠陥検出部位の中心から前記撮像装置の視野範囲の1/3以上1/2以下に相当する距離ずらすことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a near field micro device capable of utilizing spacial resolution exceeding the diffraction limit by generating and propagating near field light shorter in wavelength than electromagnetic wave, to the electromagnetic wave ranging from a microwave to a mid-infrared region, and to provide a spectral image acquisition method.例文帳に追加

マイクロ波から中赤外領域の電磁波に対し、その波長より短い近接場光を発生・伝播させてその回折限界を超える空間分解能を利用することができる近接場顕微装置とその分光・画像取得方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, regions A1, A2, A3 of a diffraction optics 1 are divided successively into a circular and two annular regions in this order in the radial direction, and an eight step stair structure is manufactured in the region A1 by repeating patterning and etching processes.例文帳に追加

回折光学素子1を領域A1、A2、A3はそれぞれ半径方向に円形及び円環形領域に3分割し、領域A1においてパターニング及びエッチングの工程を繰り返すことにより領域A1に8段の階段構造を製作する。 - 特許庁

Thus, the 1st transparent electrodes are arranged on the insulating films to shorten intervals between the 1st and 2nd transparent electrodes for prevention against diffraction of a light beam between electrodes and to widen the region wherein aberration compensation is substantially performed.例文帳に追加

第1の透明電極を透明絶縁膜の上に配置することによって、第1及び第2の透明電極の間隔を縮め、電極間での光ビームの回折を防止すると共に実質的に収差補正を行える領域を拡大することができる構成とした。 - 特許庁

例文

The diffraction lattice layer 15 includes: a plurality of regions 15a disposed in an optical waveguide direction at a cycle corresponding to an output wavelength; and a region 15b that is provided among the plurality of regions 15a and has an impurity concentration lower than that of the plurality of regions 15a.例文帳に追加

回折格子層15は、出力波長に応じた周期で光導波方向に配列された複数の領域15aと、複数の領域15aの間に設けられ不純物濃度が複数の領域15aより低い領域15bとを有する。 - 特許庁

例文

This alignment mark is formed in a manner whereby a a first film (insulating film) 2 transparent to light for mask alignment is formed on the prescribed region of a semiconductor substrate, and a second film (conductive film) 4 which is formed like a diffraction grating pattern composed of islands and provided on the first film 2 to reflect the mask aligning light.例文帳に追加

半導体基板1上の所定の領域に、マスク合わせ用の光に対して透明性の第1の膜(絶縁膜2)を形成し、その第1の膜上に、複数の島状体からなる回折格子パターンで、マスク合わせ用の光を反射する第2の膜(導電膜4)を形成する。 - 特許庁

In the corrosion resistant member, at least the region of the corrosion resistant member exposed to the corrosive gas containing the halogen element or its plasma contains ≥99.5 mass% Y expressed in terms of Y_2O_3 and has ≤0.4° half-value width of a peak belonging to the (222) plane of cubic Y_2O_3 in X-ray diffraction.例文帳に追加

少なくともハロゲン元素を含む腐食性ガスまたはそのプラズマに曝される部位が、Yの含有量がY_2O_3換算で99.5質量%以上、X線回折における立方晶Y_2O_3の(222)面帰属ピークの半値幅が0.4°以下である耐食性部材とする。 - 特許庁

Diffraction gratings 13a, 13b are disposed on the partial region of the layer 4, an insulating film 16 is disposed on the layer 8 corresponding to the grating 13a to prevent the injection current from flowing to the grating 13a.例文帳に追加

また、p−InPスペーサ層4の一部領域において回折格子13a、13bを配置し、回折格子13aに対応するp−InGaAsPコンタクト層8上には絶縁膜16を配置して回折格子13aに対して注入電流が流入することを防止する構造とする。 - 特許庁

The resolution of wavelength of light that a light-receiving section 35 receives is changed in a wide range by varying the width of a direction that orthogonally crosses the ruling in a region where light A' to be measured is applied to one surface side of a diffraction grating 30 by an incident angle-varying means (illumination width-varying means) 23.例文帳に追加

入射角可変手段(照射幅可変手段)23によって、被測定光A′が回折格子30の一面側に照射される領域の刻線と直交する方向の幅を可変することで、受光部35が受ける光の波長の分解能を広範囲に変更できるようにした。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an illuminating device capable of making diffraction light incident in an irradiation region precisely by a simple and highly precise positioning adjustment of an element, an illuminating device manufactured by that manufacturing method, and a projector using that illuminating device.例文帳に追加

素子の簡易かつ高精度な位置調整により照射領域へ正確に回折光を入射させることを可能とする照明装置の製造方法、その製造方法により製造された照明装置、及びその照明装置を用いたプロジェクタを提供すること。 - 特許庁

A light source and a holographic optical element (HOE) are established so that the HOE in which a half-wavelength width of diffraction peak in a wavelength region of each color of RGB is narrow and ≤20 nm is used and a video light guided by optical pupil through the HOE has intensity peak near a wavelength where color purity of RGB becomes higher.例文帳に追加

RGBの各色の波長域における回折ピークの半値波長幅がそれぞれ20nm以下と狭いHOEを用い、HOEを介して光学瞳に導かれる映像光が、RGBの色純度が高くなる波長付近に強度ピークを有するように、光源およびHOEを設定する。 - 特許庁

Consequently, a thermal diffusion into a backing-layer region containing the active layer 5 having a multiple quantum well structure progresses when the clad layer 12 is grown in Zn doped as an acceptor during the growth of the clad layer 12 but the thermal diffusion is inhibited largely by Si doped to the diffraction grating layer 8.例文帳に追加

このため、p導電型のクラッド層12の成長中にアクセプタとしてドーピングされたZnは、クラッド層12の成長時に多重量子井戸構造の活性層5を含む下地層領域への熱拡散が進行するが、回折格子層8にドーピングされたSiによってその熱拡散が大幅に抑制される。 - 特許庁

An In-Ga-Zn-O-based film is so formed as to have an incubation state exhibiting an electron beam diffraction pattern different from a conventionally known amorphous state that a halo shape pattern appears, and from a conventionally known crystal state that a spot appears clearly, and the film is used as a channel formation region of a channel etched thin film transistor.例文帳に追加

ハロー状のパターンが現れる従来公知のアモルファス状態とも異なり、スポットが明確に現れる従来公知の結晶状態とも異なる電子線回折パターンを示すインキュベーション状態を有するIn−Ga−Zn−O系膜を形成し、チャネルエッチ型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域として用いる。 - 特許庁

In the second region disposed between the first and third regions, diffraction is not performed, and the converging positions, on an optical disk, of a luminous flux diffracted through the first and third regions are spaced respectively by (2n-1)×t/2 in an optical disk radial direction when n is an integer and the guide groove interval of the optical disk is t.例文帳に追加

第2の領域は回折しない領域であり、それを挟む第1の領域と第3領域を回折した光束の光ディスク上での集光位置はnを整数、光ディスクの案内溝間隔をtとしたとき、光ディスク半径方向に(2n−1)×t/2だけ各々間隔を空け配置させる。 - 特許庁

In the DFB region 10, a gain waveguide 11 generating light by current injection, and a refractive index variable waveguide 12 having a refractive index changing owing to current injection and having a diffraction grating 121a formed thereon, are alternately provided, and current is injected to the waveguides independently.例文帳に追加

DFB領域10では、電流注入により光を発生する利得導波路11と、電流注入により屈折率が変化し回折格子121aが形成された屈折率可変導波路12とが交互に配設されており、これらの導波路には互いに独立して電流が注入される。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle installed with an auxiliary pattern with a function of light intensity reduction, which consists of diffraction grating pattern or semi-translucent film, a barrier rib having portions with different heights is formed on pixel electrodes (also called first electrodes) in a display region and around a pixel electrode layer.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

To provide a relief type diffraction optical device which can be used in not only infrared, near infrared, and visible light regions but also in the ultraviolet light region and has a high flexibility of design because of a high refractive index and doesn't lose a diffracting function even when recesses of a relief surface are filled with other materials, and can be stably used for high power laser.例文帳に追加

赤外、近赤外、および可視の領域だけでなく紫外領域でも使用でき、高い屈折率に起因して高い設計の自由度を有し、レリーフ面の凹部が他の材料で埋められても回折機能が失われず、さらにハイパワーレーザ用途でも安定して使用し得るレリーフ型回折光学素子を提供する。 - 特許庁

Mutually different K pieces (K≥2) of interference patterns having the cycle Λk (k=1 to K) are superposed and formed in the core region 111 of an optical fiber 110 existing in the side of a first surface 310 when a ultraviolet laser beam makes incident from the side of second surface 320 by an optical waveguide type diffraction grating element manufacturing hologram 300.例文帳に追加

光導波路型回折格子素子製造用ホログラム300は、第2面320の側から紫外レーザ光が入射したときに第1面310の側にある光ファイバ110のコア領域111において互いに異なるK個(K≧2)の周期Λ_k(k=1〜K)の干渉パターンを重畳して形成するものである。 - 特許庁

When a phase of the specific diffraction light in the luminous flux of wavelength λ2 passed through the surrounding region R2 coincides with a phase of luminous flux for forming a convergence spot, interference of light is caused, light quantity of luminous flux for forming the convergence spot is increased utilizing interference of this light.例文帳に追加

周辺領域R2を通過した波長λ2の光束における特定の回折光の位相が、集光スポットを形成するための光束の位相と合致するようになると、光の干渉が生じ、この光の干渉を利用して、集光スポットを形成するための光束の光量を増大する。 - 特許庁

A DFB laser device 100 is provided with an n-type InP substrate 101, V grooves 102 having specific periods, diffraction regions 103 composed of InNAsP and formed so as to be padded in respective V grooves 102, an n-type InP clad layer 104, an active region 105, and a p-type In clad layer 106.例文帳に追加

DFBレーザ装置100は、n型InP基板101と、特定周期を有するV溝102と、各V溝を埋め込むように形成されたInNAsPからなる回折領域103と、n型InPクラッド層104と、活性領域105と、p型Inクラッド層106とを備えている。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a partition wall having portions with different film thickness is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of processes.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

To provide a display having a diffraction grating pattern in which a region where recording information for determining truth or falsehood has been recorded is difficult to distinguish, and to which further higher counterfeit prevention effect is imparted and improving of the visibility as a display, and increasing the degree of freedom of design can be realized.例文帳に追加

回折格子パターンを有するディスプレイにおいて、真贋判定を行う情報を記録した領域を判別することが困難であり、より一層高度な偽造防止効果を持たせると共に、ディスプレイとしての可視性の向上、ならびにデザインの自由度の増加を実現することができる回折格子パターンを有するディスプレイを提供することを目的とする。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a barrier rib having portions with different film thicknesses is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of steps.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

The forgery preventing medium is constituted by providing at least a portion of the iris type multilayered film where two or more kinds of thin films are alternately laminated with embossed parts, such as relief type hologram or hologram embossed with the minute ruggedness relating to diffraction grating and disposing a transparent protective layer on a region including the embossed parts such as the hologram so as to be positioned on the uppermost layer.例文帳に追加

二種またはそれ以上の種類の薄膜が交互に積層されてなる虹彩性多層フィルムの少なくとも一部に、レリーフ型ホログラムか回折格子に係る微小な凹凸がエンボスされてなるホログラム等エンボス部を設けると共に、当該ホログラム等エンボス部を含む領域の上には透明保護層を最上層に位置するように設ける。 - 特許庁

A diffraction lens structure formed on the high NA dedicated region RE of the objective lens 10 becomes the large numerical aperture, for the purpose of properly compensating the spherical aberration, when the laser beam with a short wavelength is converged on the optical disk D1, and becomes the small numerical aperture, for the purpose of producing the spherical aberration, when the laser beam with a long wavelength is converged on the optical disk D2.例文帳に追加

対物レンズ10の高NA専用領域REに形成された回折レンズ構造は、短波長のレーザー光を光ディスクD1に集光させる際には球面収差を良好に補正するため開口数が大きくなり、長波長のレーザー光を光ディスクD2に集光させる際には球面収差を発生させるため開口数が小さくなる。 - 特許庁

Moreover, the arranging direction of gratings 5a of a diffraction gratings 5 is set to the up and down direction, the arranging direction of a light emitting element 1 and a light receiving element 3 is set to the up and down direction and the displacement direction of the spot caused by the change in temperature is set parallel to the direction of the lines of the region to improve the temperature characteristic.例文帳に追加

併せて、回折格子5の格子5aの並び方向を上下方向に設定して発光素子1と受光素子3との並び方向を上下方向に設定し、温度変化により生じる受光スポットの変位方向をフォーカス制御用受光領域9の各分割線8a,8bの向きと平行にして温度特性を良好にしている。 - 特許庁

This OVD medium 22 is equipped with a light transmitting concave-convex pattern forming layer (11), the surface of which keeps the image displayed through the interference and/or diffraction of light, and an optical controlling layer (14), which overlies the image observation side of the concave-convex pattern forming layer and has a region having a light transmittance smaller that its light reflectivity or its light absorptance.例文帳に追加

OVD媒体22は、表面に光の干渉および/または回折により画像を表示する凹凸パターンが形成された光透過性の凹凸パターン形成層(11)と、前記凹凸パターン形成層の、前記画像の観察側に設けられた、光透過率が光反射率または光吸収率より小さい領域を有する光制御層(14)を備えることを特徴とする。 - 特許庁

While the intensity of the laser light is periodically changed, the point of converged light is moved at a constant speed so as to produce a region where the refractive index is periodically changed to form an optical waveguide type Bragg diffraction grating.例文帳に追加

Al_2O_3を含むガラスのような光誘起屈折率変化を起こしやすいガラス材料とB_2O_3を含むガラスのように変化を起こしにくいガラス材料の積層体に対し、集光したレーザ光を照射し、かつレーザ光強度を周期的に変化させながら一定速度で集光点を移動させることにより、周期的屈折率変化領域を生成させて光導波路型ブラッグ回折格子が形成できる。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle formed with an auxiliary pattern having a light intensity reduction function formed of a diffraction grating pattern or a translucent film, the width of a region with a small thickness of a gate electrode can be freely set, and the widths of two LDD regions capable of being formed in a self-aligned manner with the gate electrode as a mask can be different in accordance with the each circuit.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることによって、ゲート電極の膜厚の薄い領域の幅を自由に設定でき、そのゲート電極をマスクとして自己整合的に形成できる2つのLDD領域の幅を個々の回路に応じて異ならせることができる。 - 特許庁

A first stepwise diffraction structure with two levels is provided on a center region.例文帳に追加

2レベルの階段型の第1回折構造を中心領域に設け、波長λ1の光束が周辺領域に最も近い中心領域を通過した時の光の透過率は、波長λ1の光束が中心領域に最も近い周辺領域を通過した時の光の透過率に対して20%以上低くなっており、第1回折構造は、段差面の光軸方向の長さをLとしたときに、以下の条件式を満たす。 - 特許庁

例文

In the method of manufacturing a diffraction optical device having at least two optical materials 1, 3 which are substantially transparent in the wavelength region to be used and having a relief pattern 2 on at least one interface of the two different optical materials, the second material 3 having ≤5,000 mPa.s viscosity is laminated on the first optical material 1 having the relief pattern 2 on at least one surface.例文帳に追加

使用する波長帯域で実質的に透明である少なくとも2つの光学材料1,3と、その少なくとも1つの互いに異なる光学材料1,3の境界面にレリーフパターン3を有する回折光学素子の製造方法において、少なくとも一方の面の上記レリーフパターン2を有した第1の光学材料1の上に、粘度が5000mPa・s以下の第2の光学材料3を積層する。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2025 GRAS Group, Inc.RSS