「extreme region」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Extreme differences in elevation have given rise to a variety of natural habitats in the region.例文帳に追加

極端な標高差により，この地域では，様々な自然の生息環境が生み出されてきた。 - 浜島書店 Catch a Wave

The optical device has a plurality of multilayer film reflecting mirrors capable of reflecting electromagnetic waves at an extreme ultraviolet region.例文帳に追加

光学装置は、極端紫外域の電磁波を反射可能な多層膜反射鏡を複数備えている。 - 特許庁

To accurately obtain element distribution in an extreme surface region of 3 nm or smaller, in a depth-wise element analyzing method.例文帳に追加

深さ方向元素分析方法に関し、３ｎｍ以下の極表面領域の元素分布を高精度で取得する。 - 特許庁

According to use history information, the relative positional relationship between the sheet and the recording head is adjusted so that an extreme deviation may not exist in the using nozzle region or the passage region of the sheet.例文帳に追加

使用履歴情報に応じて、使用ノズル領域やシートの通過領域に極端な偏りがなくなるように、シートと記録ヘッドの相対位置関係を調整する。 - 特許庁

An exposure mask 1 using extreme violet light for exposing a desired pattern on a body to be exposed by using the extreme violet light is configured with a stencil structure provided with an opening region 1a through which the extreme violet light made incident onto a mask surface from its vertical direction passes, and a shade area 1b for shading the extreme violet light.例文帳に追加

極短紫外光を用いて被露光体上に所望パターンを露光するための極短紫外光の露光用マスク１を、マスク表面に対して垂直方向から入射する極短紫外光を透過する開口領域１ａと、当該極短紫外光を遮蔽する遮光領域１ｂとを具備したステンシル構造によって構成する。 - 特許庁

Silicon atoms are incorporated into a resist material to obtain a line absorption coefficient of 1.7433 μm^-1 or less in an extreme UV wavelength region.例文帳に追加

極紫外線波長域での線吸収係数が１．７４３３μｍ^-1以下となるように、レジスト材料にシリコン原子を含有させる。 - 特許庁

To provide a method for identifying an extreme interaction pitch region, a method for designing and manufacturing a mask pattern, a device manufacturing method and a computer program.例文帳に追加

極端相互作用ピッチ領域を識別する方法、マスクパターンを設計、製造する方法、デバイス製造方法およびコンピュータプログラムを提供すること。 - 特許庁

To provide a projection lens for imaging a pattern arranged in an object plane onto an image plane by employing electromagnetic radiation from an extreme-ultraviolet (EUV) region.例文帳に追加

極遠紫外線（ＥＵＶ）領域の電磁放射を用いて物体平面上に配置されたパターンを像平面上に結像する投影レンズを提供する。 - 特許庁

METHOD OF IDENTIFYING EXTREME INTERACTION PITCH REGION, METHOD OF DESIGNING MASK PATTERNS, METHOD OF MANUFACTURING MASK, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND COMPUTER PROGRAMS例文帳に追加

極端相互作用ピッチ領域を識別する方法、マスクパターンを設計する方法およびマスクを製造する方法、デバイス製造方法およびコンピュータプログラム - 特許庁

An external panel facing the environment of the extreme temperature of the glass panel for the hermetic structure consisting of the package of panels to be exposed to the extremely high temperature gradient in operation and to be used in the cosmos or the extreme region is made of ceramics.例文帳に追加

作業時に極端に高い温度勾配に晒され、宇宙あるいは極領域の環境で使用される、パネルのパッケージから成る密閉構造物用窓ガラスにおいて、本発明では前記環境に面する外パネルがガラスセラミック製とされる。 - 特許庁

To provide a window pane effective for the cosmos or a place closed for the environment in the extreme region to be exposed to an extremely high temperature gradient in operation.例文帳に追加

宇宙、あるいは動作時に極端に高い温度勾配に晒される極領域における環境に対し密閉される場所に有効な窓ガラスを提供する。 - 特許庁

To provide a method of identifying an extreme interaction pitch region, a method of designing mask patterns, a method of manufacturing masks, a device manufacturing method, and a computer program.例文帳に追加

極端相互作用ピッチ領域を識別する方法、マスクパターンを設計する方法およびマスクを製造する方法、デバイス製造方法およびコンピュータプログラムを提供すること。 - 特許庁

These trends show that Japanese affiliates take into account the risks of extreme concentration of functions in China alone and are reluctant to carry out a concentration for the entire East Asian region.例文帳に追加

この傾向からは、中国一極集中リスク等を勘案し、東アジア地域全体での機能集約化に躊躇する日系企業の姿勢がうかがえる。 - 経済産業省

On the other hand, there are many middle-income countries in the LAC region, and more than 120 million people, which accounts for one-fourth of the total population of the region, still live in extreme poverty with a daily income of less than two U.S. dollars. 例文帳に追加

他方、中南米・カリブ海地域には、中所得国が多い中、依然として域内人口の約４分の１を占める１億２千万人以上の人々が１日２ドル以下の厳しい貧困状態に置かれています。 - 財務省

The plurality of multilayer film reflecting mirrors are arranged along the optical path of electromagnetic waves, and reflection wavelength characteristics differ at a wavelength region other than the extreme ultraviolet region in at least two multilayer film reflecting mirrors.例文帳に追加

複数の前記多層膜反射鏡は、前記電磁波の光路に沿ってそれぞれ配置され、少なくとも２つの前記多層膜反射鏡の前記極端紫外域以外の波長域における反射波長特性が相互に異なる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resist material for improving transmittance for light of a resist layer in a wavelength region of extreme UV rays, and to provide a resist material and an exposure method.例文帳に追加

極紫外線の波長域におけるレジスト層の光透過率を向上させることが可能なレジスト材料の製造方法およびレジスト材料ならびに露光方法を提供する。 - 特許庁

By such a flow analyzer 1, it is possible to significantly reduce the number of particles arranged in an analysis region, thereby significantly reducing time required for behavioral analysis of a fluid in a region in which an aspect ratio is extreme.例文帳に追加

このような流動解析装置１によれば、解析領域内に配置される粒子数を大幅に削減することができるので、アスペクト比が極端な領域における流体の挙動解析に要する時間を大幅に短縮することができる。 - 特許庁

A radiation source includes a chamber, a fuel supply configured to supply a fuel to a plasma formation region in the chamber, and a laser configured to emit a radiation beam to the plasma formation region so that plasma for emitting extreme ultraviolet radiation is generated when the radiation beam impacts the fuel.例文帳に追加

放射ソースは、チャンバと、チャンバ内のプラズマ形成部位に燃料を供給するように構成された燃料供給と、放射ビームが燃料と衝突した場合に極端紫外線を放つプラズマが生成されるようにプラズマ形成部位に放射ビームを放つように構成されたレーザとを含む。 - 特許庁

The optical fiber which has a dispersion value of 2≤D≤8 (ps/nm/km) in a range of from 1,400 to 1,700 nm in wavelength and in which the wavelength dispersion is made to have at least one extreme value in this wavelength region is constituted.例文帳に追加

波長１４００ｎｍ〜１７００ｎｍの範囲で分散値が２≦Ｄ≦８（ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ）で、且つ、この波長範囲で波長分散が少なくとも１つの極値を持つようにした光ファイバを構成する。 - 特許庁

To provide an extreme ultraviolet light source device capable of stably supplying tin to a discharge region with high repetition frequency and of achieving stable light emission of EUV without increasing the rotating speed of a rotating electrode.例文帳に追加

回転する電極の回転速度を速くすることなく、高い繰り返し周波数で、安定してスズを放電領域に供給し、ＥＵＶの安定した発光が可能な極端紫外光光源装置を提供する。 - 特許庁

To enable an ultra-microfabrication exceeding the conventional techniques and using a resist material having low absorption in the wavelength region of extreme-ultraviolet radiation (EUV) while ensuring etching resistance by using a specified polymeric material.例文帳に追加

特定の高分子材料を用いることにより、エッチング耐性を確保しつつ極紫外線（ＥＵＶ）の波長領域での吸収の小さいレジスト材料を用い、これまで以上の極微細加工を可能とする。 - 特許庁

The length of the lowermost score line 14 existing on the extreme sole 20 side is set shorter than the width of a score line region in a direction arriving at a heel 18 from a toe 16 and with a head 10 of the iron club of ≤35° in loft angle, the lowermost score line 14 described above is so formed as to exist near the heel 18 in the score line region.例文帳に追加

最もソール２０側に位置する最下スコアライン１４の長さを、トゥ１６からヒール１８に至る方向のスコアライン領域の幅よりも短くし、ロフト角が３５゜以下のアイアンクラブの前記ヘッド１０では、前記最下スコアライン１４が前記スコアライン領域内の前記ヒール１８寄りに位置するように形成する。 - 特許庁

Because a volume of a part protruding from a parting plane 25' coincides with a part recessing from the parting plane 25' in each region on the full surface of the metal mold 26, the projecting and recessing shape of the reflection surface is formed with extreme preciseness (figure 8 (b)).例文帳に追加

金型２６全体の各領域において、分割面２５’よりも突出した部分の体積と、分割面２５’よりも窪んだ部分の体積が一致するために、精度良く反射面の凹凸形状を形成することができる（図８（ｂ））。 - 特許庁

The digged portions 156 make the piezoelectric body thin film 15 thin to reduce an extreme decrease in resonance frequency of a fixed region 912 supported by the support 17, thereby serving to suppress the secondary resonance of the piezoelectric thin film resonator 1.例文帳に追加

掘り込み１５６は、圧電体薄膜１５を薄肉化することにより、支持体１７に支持されている固定領域９１２の共振周波数の極端な低下を緩和し、圧電薄膜共振子１の副共振を抑制する役割を果たしている。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device high in reliability and having a small-size nonvolatile memory, by suppressing extreme field concentration on an active layer surface in a channel region and realize a minute semiconductor memory element.例文帳に追加

チャネル領域における活性層表面での極端な電界集中を抑え、かつ微細な半導体記憶素子を実現することで、信頼性が高く小型の不揮発性メモリを有する半導体記憶装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since the discharge gas is uniformly distributed, covering the almost the whole region at a high pressure, extending in the of the optical axis of the discharge space 131 and the value of an initial gas-pressure can be made high, the conversion efficiency is improved and the output power of the extreme-ultraviolet light also becomes large.例文帳に追加

放電ガスは放電空間１３１の光軸方向のぼぼ全域に亘って高い圧力で均一な分布し、また初期ガス圧の値自体も高くできるため、変換効率が向上し、極端紫外光の出力も大きくなる。 - 特許庁

To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure.例文帳に追加

１５７ｎｍの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びＥＵＶリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。 - 特許庁

On the other hand, the populations in Latin America and Africa are increasing. Especially, the proportion of those suffering from extreme poverty is extremely high in Africa (33% percent of the total population in the region in 2004), and it has changed very little since 1981 (see Table 3-5-1).例文帳に追加

一方、中南米、アフリカ両地域におけるその人口は増加傾向にあり、特にアフリカの総人口に占める絶対的貧困層の人口の割合は2004年に33.0％と極めて高い。また、1981年と比較してもその比率がほとんど変化していない（第3-5-1表）。 - 経済産業省

Goal 1 of the Millennium Development Goals (MDGs) is to improve the index of “Eradicate Extreme Poverty and Hunger”, or to reduce by one-half by 2015, the proportion of people who live on less than $1 a day. This goal has improved significantly in the Southeast Asian region, thanks to recent economic growths.例文帳に追加

１日１ドル未満で生活する人々の割合を２０１５年までに半減させるというＭＤＧｓ目標１「極度の貧困と飢餓の撲滅」指標改善は、近年の経済成長の成果により、東南アジア地域においては、相当程度改善しています。 - 厚生労働省

The illumination optical system for illuminating an illuminated region M by extreme ultraviolet light emitted from a light source 2 comprises a first compensation means 16 for correcting the light intensity distribution, in the optical conjugation position or in its vicinity with the pupil of a projection optical system; and a second correction means 14 for correcting the light intensity distribution in the illuminated region M.例文帳に追加

光源２から射出される極端紫外光で照明領域Ｍを照明する照明光学系において、前記照明光学系の瞳位置と光学的に共役な位置またはその近傍の位置における光強度分布を補正する第１補正手段１６と、前記照明領域Ｍにおける光強度分布を補正する第２補正手段１４とを備える。 - 特許庁

To provide a production method of a silicon wafer capable of effectively exercising a gettering effect also in a thin film device while having BMD (Bulk Micro Defect) in a shallow region of, for example, ≤10 μm from a surface layer with high density, but having no defect in an extreme surface layer functioning as a device active layer.例文帳に追加

表層から例えば１０μｍ以内までの浅い領域にＢＭＤ（Ｂｕｌｋ Ｍｉｃｒｏ Ｄｅｆｅｃｔ）が高密度で存在するが、デバイス活性層として機能する極表層には欠陥が存在せず、薄膜デバイスに対してもゲッタリング効果を有効に発揮しうるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To find new possibility for generating extreme ultraviolet rays based on plasma radiating radiant rays wherein technical and financial loads for plasma generation are not practically increased, and the radiation output of an EUV source is increased in a wavelength region higher than the L absorption edge of silicon.例文帳に追加

プラズマ発生のための技術的及び金銭的な負担が実質的に増加されず、ＥＵＶ源の放出出力がシリコンのＬ吸収端よりも高い波長領域内で増加される、放射線放出するプラズマを基礎にして極紫外放射線を発生させるための新たな可能性を見つけること。 - 特許庁

In this manufacturing method, electric field intensity at the tip of an emitter is enhanced by forming the emitter formed of a carbon film 2 into a needle-like projection structure having sharp tips and by forming a gate 3 in its extreme vicinity, and a threshold voltage is lowered and current density is heightened by uniformly forming the minute needle-like emitter all over the region of the emitter.例文帳に追加

炭素膜からなるエミッタを先端が先鋭な針状の突起構造とすること、ごく近傍にゲートを形成することによって、エミッタ先端への電界強度が高くなり、更にその微細な針状エミッタをエミッタ領域一面に均一に形成することにより、しきい値電圧を低くし、電流密度を高くすることができる。 - 特許庁

The electrostatic charge image developing toner includes a binder resin composed of a polyester resin, a core layer including a release agent composed of polyester wax and a colorant, and a shell layer coating the surface of the core layer, in which volume average grain size is 3 to 8 μm and the ratio of the colorant existing in the region within 200 nm from the extreme surface of the toner is ≤10%.例文帳に追加

静電荷像現像用トナーは、ポリエステル樹脂からなる結着樹脂と、エステルワックスからなる離型剤と、着色剤とを含むコア層と、コア層の表面を被覆するシェル層とを備え、体積平均粒径が３μｍ〜８μｍであり、トナーの最表面から２００ｎｍ以内の領域に存在する着色剤の割合が１０％以下とする。 - 特許庁