例文 (17件) |
excitation processesの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 17件
Energy of electrons is conserved for all inelastic scattering processes, such as phonon excitation, plasmon excitation and core electron excitation. 例文帳に追加
電子のエネルギーは、フォノン散乱、プラズモン散乱および内殻電子励起のようなすべての非弾性散乱過程に対しては保存される。 - 科学技術論文動詞集
An excitation current processor 51 of a current controller 5 processes an excitation current corresponding to a magnetic flux command from the magnetic flux command processor 4.例文帳に追加
電流制御器5の励磁電流演算部51は、磁束指令演算部4からの磁束指令に対応する励磁電流を演算する。 - 特許庁
An excitation light absorption member 10 which mainly absorbs excitation light and a connecting member 20 in which amplified laser light loops are made by separate processes.例文帳に追加
励起光を主に吸収する励起光吸収部材10と、増幅したレーザ光がループする接続部材20を別工程で作製する。 - 特許庁
The electromagnetic induction type rotary encoder 1 includes an excitation substrate 5 including the excitation coil 4, a detection substrate 8 which is fixed to a movable body facing the excitation substrate 5 and includes the detection coil 7 which is arranged facing the excitation coil 4 through a gap, and a controller 9 which outputs an excitation signal to the excitation coil 4 and processes a detection signal from the detection coil 7.例文帳に追加
電磁誘導式ロータリーエンコーダ1は、励磁コイル4を含む励磁基板5と、励磁基板5に対向して可動体に固定され、励磁コイル4と隙間を介して対向配置された検出コイル7を含む検出基板5と、励磁コイル4に励磁信号を出力し、検出コイル7からの検出信号を処理するコントローラ9とを備える。 - 特許庁
The important inelastic processes that contribute to the background in CBED patterns are phonon scattering, plasmon scattering and single-electron excitation. 例文帳に追加
CBED図形の中のバックグラウンドに寄与する重要な非弾性(散乱)過程は、フォノン散乱、プラズモン散乱および一電子励起である。 - 科学技術論文動詞集
To provide a semiconductor optical element which can suppress characteristic deterioration of a laser due to excitation of a substrate mode and reduce manufacturing processes.例文帳に追加
基板モードの励振に起因するレーザの特性劣化を抑制することができるとともに、製造工程を少なくできる半導体光素子を提供する。 - 特許庁
The SWP processing apparatus 100 is equipped with a processing chamber which generates surface wave excitation plasmas in an airtight space by the microwaves introduced from the microwave introduction section 10, and processes a workpiece with the surface wave excitation plasmas.例文帳に追加
SWP処理装置100は、マイクロ波導入部10により導入されたマイクロ波により気密空間に表面波励起プラズマを生成し、該表面波励起プラズマにより被処理物を処理する処理室とを備える。 - 特許庁
An image system and a method includes excitation processes (112 and 114) of water-exchangeable spin in oxygen-transmittable molecules in ROI (region of interest) having change in an oxygen status.例文帳に追加
酸素ステータスの変化を有するROI内の酸素搬送可能な分子において水交換可能なスピンを励起する工程(112、114)を含む撮像システム及び方法を提唱する。 - 特許庁
The method of coating the solution, in which the solution is applied on the substrate by the ink jet system, consists of the processes of excitation-treating a plate face to be coated with the solution in the substrate, and of applying the solution on the excitation-treated plate face of the substrate by the ink jet system.例文帳に追加
基板に溶液をインクジェット方式によって塗布する溶液の塗布方法において、上記基板の上記溶液が塗布される板面を励起処理する工程と、上記基板の励起処理された板面に上記溶液をインクジェット方式によって塗布する工程とを備えている。 - 特許庁
Thereafter, a gas having no relation with processes nor etching is introduced into the chamber 4 by using an inert gas of N2, Ar, He, etc., excited by means of a power source 9 for excitation installed to a gas introducing pipeline 8.例文帳に追加
その後、ガス導入配管8に設置された励起用電源9により励起されたN_2、Ar、Heなどの不活性ガスでプロセスおよびエッチングに関係のないガスをプロセスチャンバ4内に導入する。 - 特許庁
To prevent a quench of a superconducting magnet and reduce a consumption of a cryogen such as liquid helium by reducing the number of demagnetization and excitation of the superconducting magnet, and to achieve a reduction in the number of shimming adjusting processes.例文帳に追加
超電導磁石の消磁や励磁回数を少なくして、超電導磁石のクエンチの防止および液体ヘリウムなどの寒剤の消費低減を図り、かつシミング調整工数の低減を可能にする。 - 特許庁
Then, by conductively controlling and sequentially changing over excitation patterns of the operation coils on the way of the operation processes, the handle of the circuit breaker is made driven in steps toward a switching terminal position by making the movable unit go forward by step-by-step motion.例文帳に追加
そして、操作行程の途上で操作コイルの励磁パターンを順次切換えて通電制御することにより、可動子を歩進動作させて回路遮断器のハンドルを切換終端位置に向けてステップ状に駆動させるようにする。 - 特許庁
An arithmetic circuit T28 processes a B-image signal, a G-image signal, an R-image signal and an F-image signal respectively acquired during the irradiation of blue light, green light, red light and excitation light (UV light) to the subject.例文帳に追加
演算回路T28は、被検体に青色光,緑色光,赤色光,及び励起光(UV光)が照射されている期間中に夫々取得されたB画像信号,G画像信号,R画像信号,及びF画像信号を処理する。 - 特許庁
To provide an information storage device having a chip which processes a normal signal obtained through contact or non-contact communication while performing prescribed and more complicated processing that requires excitation of a chip sensor by a CPU, and a plurality of chip sensors.例文帳に追加
CPUにより、接触または非接触式の通信から得られる通常の信号を処理するだけでなく、チップセンサの励起を要求する、所定の、より複合的な処理をも行うことのできる、チップおよび複数のチップセンサを有する情報記憶装置を提供する。 - 特許庁
To provide a piezoelectric wafer with less characteristic variation in manufacturing processes and a method of manufacturing an acoustic wave device using the same, regarding the piezoelectric wafer used for excitation of acoustic wave such as surface acoustic wave and surface boundary wave, and to provide an acoustic wave device using the same.例文帳に追加
本発明は、弾性表面波や弾性境界波などの弾性波の励起に用いられる圧電ウエハ及びそれを用いた弾性波デバイスの製造方法に関し、製造過程における特性バラツキの少ない圧電ウエハ及びそれを用いた弾性波デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
A peak value detecting circuit 27 processes W-image signals obtained during the irradiation of white light to a subject and F-image signals obtained during the irradiation of excitation light to the subject, frame by frame to acquire the maximum value (reference peak value) of the W-image signal in one frame and the maximum value (fluorescent peak value) of the F-image signal in one frame.例文帳に追加
ピーク値検出回路T27は、被検体への白色光照射中に得られたW画像信号,励起光照射中に得られたF画像信号を、1フレームずつ処理することにより、1フレーム中のW画像信号の最大値(参照ピーク値)及び1フレーム中のF画像信号の最大値(蛍光ピーク値)を、取得する。 - 特許庁
The processing machine 1 is equipped with: a self-excitation discharge power source device 2 for discharging by impressing voltage on a wire electrode 21; an NC device 3 for rotating the columnar workpiece around the axis and moving the wire electrode 21 along the axial direction of the workpiece; and a control device 4 for controlling a speed for moving the wire electrode 21, and processes the workpiece by discharging by the wire electrode 21.例文帳に追加
加工機械1は、ワイヤ電極21に電圧を印加して放電させる自励式の放電電源装置2と、円柱状の被加工物を軸回りに回転させるとともに、被加工物の軸方向に沿ってワイヤ電極21を移動させるNC装置3と、ワイヤ電極21を移動させる速度を制御する制御装置4とを備え、ワイヤ電極21に放電させることで被加工物を加工する。 - 特許庁
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