「effect correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for making an exposure mask which enables transfer formation of a real pattern with high dimensional accuracy with respect to the design pattern onto a wafer by proximity effect correction considering the loading effect arisen in a dry etching process for making an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク作製のドライエッチング工程で発生するローディング効果も考慮した近接効果補正により、設計パターンに対する寸法精度の良好な実パターンをウェハ上に転写形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting optical proximity effect permitting to efficiently extract a mask pattern for OPC (Optical Proximity Effect Correction) within a short time and capable of subjecting the extracted mask pattern to the OPC processing at the time of forming a semiconductor circuit.例文帳に追加

半導体集積回路を形成する場合のＯＰＣの対象とすべきマスクパターンを短時間の内に効率良く抽出できるようにし、かつ、抽出されたマスクパターンを精度良くＯＰＣ処理できる光学的近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern for exposure by which a high accuracy corrected shape can be obtained at a high speed in correction of the optical proximity effect of a mask pattern for exposure.例文帳に追加

露光用マスクパターンの光近接効果の補正処理において、高精度な補正形状を高速に得ることが可能な露光用マスクパターンの補正方法等を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging device which improves the operability for long exposure photography while taking into consideration the noise effect due to temperature, an image data correction method, programs and a recording medium.例文帳に追加

温度によるノイズの影響も考慮して長時間露光撮影における使い勝手を向上させる撮像装置、画像データ補正方法、プログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

To highly accurately perform drawing of a fine pattern to be formed on a magnetic disk medium at high speed, to easily perform proximity effect correction and to perform writing at a fixed dose amount on the whole substrate.例文帳に追加

磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。 - 特許庁

To provide a mask data generating method for easily confirming whether an optical proximity effect correction pattern is automatically generated or not in the prescribed part of an arbitrary layer.例文帳に追加

任意のレイヤーの所定の箇所において、光学近接効果補正パターンが自動発生されたか否かを簡単に確認することができるマスクデータ作成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a camera with a red-eye effect reduction function which eliminates such trouble that correction is not possible when an object is so far and light quantity is absolutely insufficient, and which eliminates underexposure.例文帳に追加

距離が遠く絶対的に光量が不足してしまう場合においては補正が出来ないような不具合を無くし、かつ、露光不足を解消する赤目軽減機能付きカメラを提供する。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus for properly carrying out a shading correction by eliminating the effect due to a dirt caused by dust or the like on a white reference part read by a fixed read means.例文帳に追加

本発明は固定の読取手段の読み取る白基準部上のゴミ、埃等の汚れによる影響を除去して適切にシェーディング補正する画像読取装置を提供する。 - 特許庁

This eddy current displacement gauge 10 comprises a memory 16 for storing a primary measurement quantity in the state where the coil of a sensor head 11 does not have the effect of metal as a correction parameter.例文帳に追加

渦電流式変位計１０は、センサヘッド１１のコイルが金属の影響を受けない状態にあるときの一次測定量を補正パラメータとして記憶するメモリ１６を備えている。 - 特許庁

To provide an evaluation method for mask pattern capable of evaluating accurately a proximity-effect by considering a change in the amount of flare deteriorating the dimension of the circuit pattern, a pattern correction method and a mask pattern generator.例文帳に追加

パターン評価方法、パターン補正方法及びパターン発生装置に関し、回路パターン寸法を劣化させるフレア量変化を考慮して近接効果を精密に評価する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of, when an adhered matter adhered between an imaging optical system and an image sensor is dropped, stopping image correction processing to remove an effect by the adhered matter.例文帳に追加

撮像光学系とイメージセンサ間に付着した付着物が脱落した場合に、その付着物による影響を除去する画像補正処理を停止できる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

Through the configuration above, the imaging apparatus reduces the effect of shake and reproduces a smooth motion of the moving object by overlapping the images after the correction.例文帳に追加

このように構成することにより、揺れの影響を軽減することができ、また補正後の画像を重ね合わせることで動きのある被写体の滑らかな動きを再現することができる。 - 特許庁

To set an optimum arithmetic coefficient so as to reduce the effect of noise on white reference data such as flaw and dirt or so as to generate shading correction data on small numbers of lines.例文帳に追加

傷、汚れなどの白基準のノイズの影響を低減できるように、あるいは、少ないライン数でシェーディング補正データを作成できるように、演算係数を最適なものに設定する。 - 特許庁

A plurality of patterns different in area density are drawn by changing a proximity effect correction coefficient for every reference emission amount of a charged particle beam, and dimensions of the patterns after the drawing are measured.例文帳に追加

面積密度の異なる複数のパターンを荷電粒子ビームの基準照射量毎に近接効果補正係数を変えて描画し、描画後のパターンの寸法を測定する。 - 特許庁

A stereoscopic effect correction part performs processing for correcting stereoscopic effects on an enlarged image and an enlarged depth image supplied from an enlargement processing part so as to obtain motion parallax approximating the real world.例文帳に追加

立体感補正部は、拡大処理部から供給される拡大画像と拡大デプス画像に対して、実世界に近似した運動視差を得るために立体感を補正する処理を行う。 - 特許庁

To obtain a sufficient definition correction effect for an object even when the object of high luminance and contrast is present in an image.例文帳に追加

画像内に輝度とコントラストの高い物体が存在していても、目標物に対して十分な精細度補正効果が得られる画像の精細度補正方法および装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, since the axial end of the rectifier piece 7 that is out of a range where a brush contacts with the piece is eliminated, without having effect upon rectifying performance, thus enabling the correction of the dynamic balance.例文帳に追加

更に、ブラシが接触する範囲から外れた整流子片７の軸方向端部を除去するので、整流性能に影響を与えることなく、動バランスの修正が可能である。 - 特許庁

To improve a correcting effect further in a dentition correcting mouthpiece for accelerating dentition correction by applying vibrations generated by an excitation actuator to the dentition of a user wearing the mouthpiece.例文帳に追加

起振アクチュエータの発生した振動が装着した使用者の歯列に加わることで、歯列矯正を促進する歯列矯正マウスピースにおいて、矯正効果をより一層高める。 - 特許庁

Then, optical proximity effect correction is made to each of the two rectangular aperture patterns 1, 2, which are each rotated by the prescribed angles, to form two corrected rectangular aperture patterns 3, 4.例文帳に追加

次に、所定の角度だけ回転させた２つの矩形の開口パターン１，２のそれぞれに光近接効果補正を行って、２つの矩形の補正開口パターン３，４を形成する。 - 特許庁

To provide a refraction objective optical system which is simply constituted and can be easily manufactured, can form very small near field light with high light utilizing efficiency, and has a good aberration correction effect.例文帳に追加

簡単な構成からなり製造が容易で、高い光利用効率で微小な近接場光を形成することができ、収差補正効果のよい屈折対物光学系を得る。 - 特許庁

To provide a camera-shake correcting apparatus for a camera not giving an adverse effect such as optical deterioration or mechanical accuracy when correcting the camera shake, capable of easily performing the correction control, and achieving the miniaturization.例文帳に追加

カメラの手振れを補正する際に、光学的劣化や機械精度への悪影響がなく、補正の制御が容易で、小型化ができるカメラの手ぶれ補正装置を提供すること。 - 特許庁

If the applicant files a correction of the translation referred to in section 83, the Patent Authority of this country shall make an advertisement to that effect and shall make the corrected translation available to the public. 例文帳に追加

出願人が，第83条にいう翻訳文の訂正を提出した場合は，デンマークの特許当局は，その旨を公告し，かつ，訂正翻訳文を公衆の利用に供さなければならない。 - 特許庁

A time stamp part 232 imparts time information to received data a2, b2, an effect part 233 executes the correction (for enhancing the image quality and the sound quality) in at least one thereof.例文帳に追加

タイムスタンプ部２３２は、受け取ったデータａ２，ｂ２に対して時間情報を付与し、エフェクト部２３３は、これらの少なくとも一方に対して（高画質化・高音質化のための）補正を実行する。 - 特許庁

The scanner 1 may improve error correction performance of two-dimensional code or may generate warning information to the effect that the input data does not coincide with the decryption data.例文帳に追加

スキャン装置１は、二次元コードの誤り訂正能力を向上させてもよく、または、入力データおよび復号データが一致しなかった旨の警告情報を生成させてもよい。 - 特許庁

To obtain an excellent contour enhancement effect even if dynamic γ correction processing is performed on a contour enhanced video signal, and to obtain excellent contour enhancement effects even in various γ characteristics.例文帳に追加

輪郭強調済みの映像信号にダイナミックγ補正処理を行っても良好な輪郭強調効果を得、且つ、様々なγ特性にも良好な輪郭強調効果を得る。 - 特許庁

(vii) matters stated in the corrected description and scope of claims and the contents of drawings (limited to those corrected following a final and binding trial decision to the effect that the correction was to be made); 例文帳に追加

七　訂正した明細書及び特許請求の範囲に記載した事項並びに図面の内容（訂正をすべき旨の確定した決定又は確定審決があつたものに限る。） - 日本法令外国語訳データベースシステム

A mask defect inspecting machine obtains EB data 3 (after SUB) corresponding to OPC pattern parts by SUB-calculating the EB data 1 before OPC from the EB data 2 after optical proximity effect correction (OPC).例文帳に追加

光学近接効果補正（ＯＰＣ）後のＥＢデータ２からＯＰＣ前のＥＢデータ１をＳＵＢ演算して、ＯＰＣパターン部分に対応するＥＢデータ（ＳＵＢ後）３を得る。 - 特許庁

To provide a digital camera capable of providing gray scale image data subjected to color correction with a similar effect to that obtained by photographing with mount of a color lens filter.例文帳に追加

色レンズフィルタを装着して撮影した際に得られる効果と同様の効果を奏する色補正が施されたグレースケール画像データを得ることのできるデジタルカメラを提供する。 - 特許庁

A pattern smaller than four times as large as the amount of fading of a charged particle beam used in a primary exposure process is extracted from the design patterns, and a pattern shape correction for correcting a proximity effect is calculated.例文帳に追加

この設計パターンの内、一次露光を行う際の荷電粒子ビームのボケ量の４倍より小さいパターンを抽出し、近接効果補正のためのパターン形状補正を計算する。 - 特許庁

To provide an expected effect in a dentition correcting mouthpiece for accelerating dentition correction by applying vibrations generated by an excitation actuator to the dentition of a user wearing the mouthpiece.例文帳に追加

起振アクチュエータの発生した振動が装着した使用者の歯列に加わることで、歯列矯正を促進する歯列矯正マウスピースにおいて、期待した効果を得られるようにする。 - 特許庁

To shorten the processing time for photo proximity effect correction and to suppress an increase of TATs in formation of pattern data even if the variations in the line widths and base widths of photomask patterns increase.例文帳に追加

光近接効果補正の処理時間の短縮を図り、フォトマスクパターンの線幅やスペース幅のバリエーションが増加しても、パターンデータの作成におけるＴＡＴの増加を抑制する。 - 特許庁

To provide electronic beam lithography method and apparatus capable of performing a proximity effect correction with higher accuracy as charged particle beam method and apparatus.例文帳に追加

本発明は荷電粒子ビーム描画方法及び装置に関し、より高精度に近接効果補正が実施できる電子ビーム描画方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

Correction of an adverse effect of offset is achieved either by correcting an offset or allotting a mass at a peak in such a method as an offset is evaded.例文帳に追加

オフセットの影響の補償は、オフセットを補正することによるか、あるいはオフセットが回避されるような方法で質量をピークに割り当てることによるか、いずれかによって達成できる。 - 特許庁

The trim exposure dose can be regulated, and/or the trim width used on the trim mask can be optimized, to compensate for iso-dense bias so as to achieve optical proximity effect correction.例文帳に追加

光学近接効果補正を実現するように等密度バイアスを補償するために、トリム露光線量を調整したり、トリムマスク上で使用するトリム幅を最適化したりすることができる。 - 特許庁

To provide a cathode-ray tube which is free from any color irregularity, and capable of obtaining a display screen excellent in uniformity of color purity without impairing the cathode-ray track correction effect by the magnetic transfer.例文帳に追加

磁気転写による陰極線軌道修正効果を損なわずに色ムラをなくして、色純度均一性に優れた表示画面が得られる陰極線管を提供する。 - 特許庁

To provide a horizontal contour corrector capable of improving the effect of horizontal contour correction of a video without increasing the gains of a video signal correcting circuit and a speed modulating circuit.例文帳に追加

映像信号補正回路および速度変調回路のゲインを上げることなく、映像の水平輪郭補正の効果を高めることができる水平輪郭補正装置を提供する。 - 特許庁

When it is judged that the condition is the high light volume imaging condition, data correction is performed so that output data may become the one in which an adverse effect resulting from the high light volume imaging condition is suppressed.例文帳に追加

高光量撮像条件であると判定されたときには、出力データが高光量撮像条件に起因する弊害が抑制されたものとなるように、データ補正を行なう。 - 特許庁

To provide an optical scanning optical apparatus capable of performing correction, minimizing deviation of the generatrix in adjustment of the tilt of the sub-scanning direction of scan line without causing adverse effect such as aberration deterioration.例文帳に追加

走査線の副走査方向の傾きを、母線のずれを極力小さくするとともに、収差の劣化などの副作用を伴うことなく補正できる光走査光学装置を得る。 - 特許庁

To provide a device for correcting unbalance of a propeller shaft, specifically an unbalance correction device of a propeller shaft capable of securing a considerable amount of correction, reducing generation of noise and the like, and preventing any adverse effect of welding heat caused by welding and fixing the balance weight from exerting on a vibration absorbing rubber member.例文帳に追加

プロペラシャフトのアンバランスを修正する装置であって、その修正量を多く確保でき、騒音等の発生を低減し、バランスウェイトの溶接固着による溶接熱の悪影響が防振用ゴム材へ及ぶことを防止できるプロペラシャフトのアンバランス修正装置とすること。 - 特許庁

To provide an acoustic characteristic correction apparatus for correcting the effect of reflection faces in a space wherein speakers are arranged and excellently correcting a sound field characteristic cost-effectively at less expense in a job load of a user and to provide an acoustic reproduction system using the acoustic characteristic correction apparatus.例文帳に追加

スピーカーが配置される空間における反射面の影響を補正する音響特性補正装置に関し、低コストで使用者の作業負担が少なく、良好に音場特性を補正する音響特性補正装置、および、これを用いた音響再生システムを提供する。 - 特許庁

To provide a polarization beam splitter which performs the correction of light intensity distribution in an optional direction and the correction of wavefront aberration, makes a monitor light quantity in a front monitoring system and a super resolution effect thereof variable, and which is easily manufactured and has high productivity, and to provide an optical pickup and a phase plate.例文帳に追加

任意の方向の光強度分布の補正および波面収差の補正が可能で、フロントモニタ方式でのモニタ光の光量および超解像効果の異なるものを簡単に製造でき、生産性の高い偏光ビームスプリッタ、光ピックアップおよび位相板を提供する。 - 特許庁

To provide a pulse counter, wherein the correction result is not output low due to noise correction, statistical fluctuation is not increased at a low count rate, and the effect of noise is reduced in a range permitting real-time processing even when the noise having a frequency band substantially the same as a signal band is superimposed.例文帳に追加

パルス計数計で、ノイズ補正により補正結果が低く出力されることがなく、低い計数率での統計的な揺らぎが増加せず、信号帯域とほぼ同じ周波数帯域のノイズが重畳した場合でも、リアルタイム処理可能な範囲で、ノイズの影響を低減する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR CREATING CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DATA, SHOT NUMBER CALCULATION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM, PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE, FOGGING CORRECTION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE, AND SHOT DIVISION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画データ作成方法およびプログラム、荷電粒子ビームのショット数算出プログラム、荷電粒子ビーム描画装置の近接効果補正プログラム、荷電粒子ビーム描画装置のかぶり補正プログラム、並びに、荷電粒子ビームのショット分割プログラム - 特許庁

In order to obtain a resist pattern of a first exposure pattern in a proximity effect correction process 3, the proximity effect is corrected in respect with the first exposure pattern based on the distribution function of exposure intensity to obtain a second exposure pattern whose pattern size is further changed and to obtain exposure data.例文帳に追加

近接効果補正工程３では、該第１露光パターンのレジストパターンが得られるように、露光強度分布関数に基づき該第１露光パターンに対し近接効果補正して、パターンサイズをさらに変更した第２露光パターンを得るとともに露光量のデータを得る。 - 特許庁

A second amount of dimensional fluctuation which is the total of the first amount of dimensional fluctuation and an amount of dimensional fluctuation caused by the loading effect depending upon the pattern distribution of a second area smaller than the first area is obtained in accordance with the amount of irradiation for proximity effect correction, the first amount of dimensional fluctuation, and the ratio.例文帳に追加

近接効果補正照射量、第１の寸法変動量及び比率に応じて、第１の寸法変動量と、第１の領域よりも小さい第２の領域のパターン分布に依存するローディング効果による寸法変動量との和である第２の寸法変動量を取得する。 - 特許庁