例文 (999件) |
formation layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4330件
Also, the tin or tin layer reduced in the formation of the whiskers is obtained by forming the layer in such a manner that the ratio of the peak intensity corresponding to the crystal face forming the angle 5 to 22° or the face equivalent thereto to the total peak intensity of all the peaks observed in X-ray diffraction spectra is ≤10%.例文帳に追加
スズまたはスズ合金の層を基体上に電着するときに、スズまたはスズ合金層に隣接する結晶面またはその同等な面と5°〜22°の角度を形成する結晶面またはその同等な面が実質的にないようにする、また、X線回折スペクトルにおいて観察されるすべてのピークの合計ピーク強度に対する5°〜22°の角度を形成する結晶面およびその同等な面に対応するピーク強度の比が10%以下であるようにすることによってホイスカーの形成が減少したスズまたはスズ合金層を得る。 - 特許庁
To provide a transfer film using non-lead glass powder capable of effective formation of a dielectric layer with excellent surface smoothness and transferability (thermal adhesion to the base plate) and flexibility in film forming material layer and elasticity, and favorable manageability (handling ability) without causing a flexing crack (crack) on the surface and can be easily taken up in a roll.例文帳に追加
表面平滑性に優れた誘電体層を効率的に形成することができ、膜形成材料層の可撓性に優れ、当該膜形成材料層の表面に屈曲亀裂(ひび割れ)が生じることがなく、柔軟性に優れ、ロール状に巻き取る操作を容易に行うことができ、膜形成材料層が好適な粘着性を示し、取扱性(ハンドリング性)を良好であり、膜形成材料層の転写性(基板に対する加熱接着性)に優れている、非鉛系ガラス粉末を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁
The semiconductor device has an LSI 1 providing a plurality of power source line connection pads and a plurality of ground line connection pads on the peripheral edge part of a circuit formation face, metal foil leads 5 connected electrically to the pads respectively and adhered to LSI 1 through an insulation layer 3, and the decoupling capacitor 2 mounted on one face of the metal foil leads 5.例文帳に追加
本発明の半導体装置は、回路形成面の周縁部に複数の電源ライン接続用パッドと複数のグランドライン接続用パッドとが設けられたLSI1と、前記パッドのそれぞれに電気的に接続され、絶縁層3を介してLSI1に接着された金属箔リード5と、金属箔リード5の一面に実装されたデカップリングコンデンサ2とを有している。 - 特許庁
The radiation-sensitive composition for colored layer formation includes (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, wherein the polyfunctional monomer (C) is at least one selected from a group composed of tripentaerythritol hepta(meth)acrylate and tripentaerythritol octa(meth)acrylate.例文帳に追加
(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、並びに(D)光重合開始剤を含有する着色層形成用感放射線性組成物にであって、(C)多官能性単量体として、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレートおよびトリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレートよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 - 特許庁
In the semiconductor apparatus where an opening is formed from the back of a semiconductor substrate 1 such that a pad electrode 3 formed thereon is exposed and a wiring layer 10 is formed for the pad electrode 3 through the opening, an opening 6b for monitoring the formation state of the opening is formed on a scribe line.例文帳に追加
本発明の半導体装置は、半導体基板1上に形成されたパッド電極3を露出するように基板裏面から開口部が形成され、この開口部を介して前記パッド電極3に配線層10が形成されて成るものにおいて、前記開口部の形成状態をモニターするためのモニター開口部6bをスクライブライン上に形成することを特徴とするものである。 - 特許庁
A method for manufacturing a conductive pattern-formed substrate of the present invention includes: a conductive pattern formation step of irradiating a transparent conductive layer provided on an insulation substrate with a pulse-form laser beam in a predetermined pattern to form an insulation portion and forming at least a conductive pattern; and a re-irradiation step of re-irradiating a part of the insulation portion with the pulse-form laser beam.例文帳に追加
本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、絶縁基板上に設けられた透明導電層にパルス状レーザ光を所定パターンで照射することにより絶縁部を形成して、少なくとも導電パターンを形成する導電パターン形成工程と、前記絶縁部の一部にパルス状レーザ光を再照射する再照射工程とを有する。 - 特許庁
To provide a color filter for semitransmissive liquid crystal display, which makes a semitransmissive liquid crystal display manufactured by using the color filter display colors with excellent brightness and chroma both in transmissive and in reflective displays even when coloring pixels are formed by using an identical material for coloring layer formation in one pixel.例文帳に追加
着色画素が1画素内にて同一の着色層形成材料を用いて形成された着色画素であっても、そのカラーフィルタを用いて製造した半透過型液晶表示装置は、透過型として優れた明度、彩度を有し、また、反射型として優れた明度、彩度を有するカラー表示をすることが可能な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供すること。 - 特許庁
The coating composition for the formation of an inorganic layer on the surface of a substrate comprises at least an efficient amount of photocatalytic titanium dioxide particles, an opacifying agent, particles of an inorganic binder, an organic binder, and a solvent, wherein the organic binder and photocatalytic titanium dioxide particles are present in a weight ratio, photocatalytic titanium dioxide/organic binder ranging from 0.1 to 6.例文帳に追加
少なくとも−有効な量の光触媒性二酸化チタン粒子、−不透明化剤、−無機バインダーの粒子、−有機バインダー、および−溶媒を含み、当該有機バインダーおよび光触媒性二酸化チタン粒子が、0.1〜6の範囲の光触媒性二酸化チタン/有機バインダーの重量比で存在する、基体の表面上に無機層を形成するためのコーティング組成物。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an electric solid device substrate, wherein a large glass substrate obtained after the formation of a functional layer is allowed to be thinned and cut without forming a panel by sticking large glass substrates together, and the electric solid device substrate is prevented from being scatted when the large glass substrate is cut, and to provide an electric solid device.例文帳に追加
大型ガラス基板同士を貼り合わせてパネルとしなくても、機能層を形成した後の大型ガラス基板に対する薄手化および切断を行なうことのできるとともに、大型ガラス基板を切断した際に電気的固体装置用基板が分散することを防止することができる電気的固体装置用基板の製造方法および電気的固体装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a mold for formation of an antiglare layer useful for production of an antiglare film showing a high antiglare function and methods of manufacturing, by using the mold, an antiglare film and an antiglare plate which prevent lowering of visibility due to whitening sufficiently while showing an excellent antiglare function and cause no glaring when arranged on the surface of a high-precision image display device.例文帳に追加
高い防眩機能を示す防眩性フィルムの製作に有用な、防眩層形成用金型を提供し、さらに、その金型を用いて、優れた防眩機能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が十分に防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにぎらつきの発生しない防眩性フィルム、及び防眩性板を製造する方法を提供する。 - 特許庁
The analog circuit is formed with the use of a thin-film transistor including an oxide semiconductor which has a function as a channel formation layer, has a hydrogen concentration of 5×10^19 atoms/cm^3 or less, and substantially functions as an insulator in the state where no electric field is generated, whereby this semiconductor device having high signal detection sensitivity and a wide dynamic range can be provided.例文帳に追加
チャネル形成層としての機能を有し、水素濃度が5×10^19(atoms/cm^3)以下であり、電界が発生していない状態においては、実質的に絶縁体として機能する酸化物半導体を有する薄膜トランジスタを用いてアナログ回路を構成することで、信号検出感度が高く、ダイナミックレンジの広い半導体装置を得ることができる。 - 特許庁
To provide a composite film and a method for forming the composite film for a solar cell capable of improving conversion efficiency of the solar cell by decreasing the contact resistance between a photoelectric conversion layer and a transparent conductive film, and between the transparent conductive film and a conductive reflection film, decreasing the serial resistance of the solar cell in power generation, and provide a composition for transparent conductive film formation.例文帳に追加
光電変換層と透明導電膜間、透明導電膜と導電性反射膜間の接触抵抗を低下させ、発電の際の太陽電池における直列抵抗を低下させることにより、太陽電池の変換効率を向上させ得る太陽電池用の複合膜の形成方法及び複合膜並びに透明導電膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁
In a first working groove formation step, a first laser beam is radiated to a functional layer 13 along a division scheduled line 12 of a semiconductor wafer 1 to form a pair of first working grooves 141 and 142 along the division scheduled line 12 with an interval wider than the width of a cutting blade that is used for a cutting step at a later stage.例文帳に追加
本発明のある実施の形態における切削方法において、第1の加工溝形成工程は、半導体ウェーハ1の分割予定ライン12に沿って機能層13に第1のレーザー光線を照射し、後段の切削工程で用いる切削ブレードの幅より広い間隔で分割予定ライン12に沿った一対の第1の加工溝141,142を形成する。 - 特許庁
To provide a new kind of dye-sensitized solar cell of high photoelectric conversion rate, in which component amount that contributes to power generation is not decreased, contact resistance is low, necking formation between metal oxide particulates such as titanium oxide or the like is not hindered, and an ink in order to form a semiconductor layer in the solar cell, and the dye-sensitized solar cell module.例文帳に追加
発電に寄与する成分量を減少させることなく、また接触抵抗が低く、酸化チタン等の金属酸化物微粒子同士のネッキング形成が阻害されない、光電変換率の高い新規な色素増感型太陽電池、及びその太陽電池における半導体層を形成するためのインキ、並びに色素増感型太陽電池モジュールを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a color solid-state imaging element that has a pixel portion where a plurality of photoelectric conversion elements are arranged on a plane in a recess region on a semiconductor substrate, the color solid-state imaging element being characterized in securing a wide normal film formation region free of a quality defect such as frame color unevenness, peeling, etc., of a color filter colored layer, having excellent color characteristics, and being made fine.例文帳に追加
半導体基板上の凹部領域に複数の光電変換素子を平面配置した画素部を有するカラー固体撮像素子において、カラーフィルタ着色層の枠色ムラや剥がれ等の品質不良の生じない正常な膜形成領域を広く確保するとともに、良好な色特性を有する微細化したカラー固体撮像素子を提供すること。 - 特許庁
To provide a developing device that enables a satisfactory image to be formed by preventing, through a simple configuration, blotch caused by failure in developer layer formation under a low-temperature, low humidity environment, stably maintains image density over long term use, has an excellent development characteristic with stable environment stability, and enables an image of a high image quality to be formed all the time.例文帳に追加
低温低湿環境下における、現像剤の層形成不良によるブロッチの発生を簡易な構成で防止し良好な画像を形成することができるとともに、長期の使用にわたって画像濃度を安定的に維持し、良好な環境安定性を有する優れた現像特性を備え、常に高画質の画像を形成することが可能な現像装置を提供すること。 - 特許庁
In a protruding part formation step, a second laser beam is radiated to the functional layer 13 inside the pair of first working grooves 141 and 142 along the division scheduled line 12 to form a second working groove 15 of such a depth as the surface of a substrate 10 is so exposed as to be separated from the pair of first working grooves 141 and 142, and thus a pair of protruding parts 161 and 162 are formed.例文帳に追加
凸部形成工程は、分割予定ライン12に沿って一対の第1の加工溝141,142の内側の機能層13に第2のレーザー光線を照射し、一対の第1の加工溝141,142と離間するように基板10の表面が露出する深さの第2の加工溝15を形成することで一対の凸部161,162を形成する。 - 特許庁
A low impedance loss line structure is formed by the insulator layer 14 consisting of an etched formation foil, the conductor layers 11 and 17 and the soft magnetic material layers 12 and 16 consisting of the soft magnetic material thin film formed on one surface of the conductor foil by the PVD, and the semiconductor layers 13 and 15 consisting of a conductive polymer and carbon paste for adhesion, and is used for a power-supply distribution circuit.例文帳に追加
低インピーダンス損失線路構造は、エッチド化成箔から成る絶縁体層14と、PVDによって導体箔の一面に形成される軟磁性体薄膜から成る導体層11、17および軟磁性体層12、16と、導電性ポリマーと接着用のカーボンペーストとから成る半導体層13、15によって形成され、電源分配回路に使用される。 - 特許庁
To provide a manufacturing method that obtains stable discharge for the formation of a film of uniform thickness on the periphery of a cylindrical substrate and a smooth surface after the curing of a coating film, in the case where a liquid rubber mixture containing hollow filler that has an external wall made of an inorganic material is used as a material for forming an elastic layer, in order to mold an elastic roller of low thermal conductivity.例文帳に追加
低熱伝導性弾性ローラを成形するために、外壁が無機質材料からなる中空フィラーを含有した液状ゴム混合物を弾性層の形成材料に用いた場合において、円筒状基材周面に均一な膜厚を形成するための安定した吐出と、塗膜硬化後に平滑な表面性が得られる製造方法の提供。 - 特許庁
In forming the image with an electrophotographic system, image formation is performed by bringing a contact electrostatic charging member to which an AC superposition voltage of a rectangular shape is applied into contact with a positive charge type organic photoreceptor having the single photoconductive layer containing a charge generating agent, a hole transport agent, an electron transport agent, and an organic binder.例文帳に追加
電子写真方式により画像を形成するに、電荷発生剤、正孔輸送剤、電子輸送剤、有機結着剤を含有する単一の光導電層を備える正帯電型有機感光体に対して、矩形のAC重畳電圧を印加された接触帯電部材を接触させ、前記正帯電型有機感光体を接触帯電させて画像形成を行う。 - 特許庁
In the semiconductor laser, where the active layer is formed consisting of the self-formation quantum dots 6A, a high reflection film HR is formed on one end face and a low reflection film LR is formed on the other end face, the density of quantum dots 6A on the high reflection film HR side is larger than that of quantum dots 6A on the low reflection film LR side.例文帳に追加
自己形成型量子ドット6Aからなる活性層が形成され、一方の端面に高反射膜HRが、また、他方の端面に低反射膜LRが形成された半導体レーザであって、高反射膜HR側に於ける量子ドット6Aの密度が低反射膜LR側に於ける量子ドット6Aの密度に比較して大きいことを特徴とする。 - 特許庁
The radiation-sensitive composition for colored layer formation includes (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, (D) a polyfunctional monomer and (E) a photopolymerization initiator, wherein the radiation-sensitive composition for red color filters includes C.I. Pigment Orange 38 as the colorant (A) and a cationic comb graft polymer as the dispersant (B).例文帳に追加
(A)着色剤、(B)分散剤、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)多官能性単量体、並びに(E)光重合開始剤を含有する着色層形成用感放射線性組成物であって、(A)着色剤としてC.I.ピグメントオレンジ38を含有し、(B)分散剤としてカチオン性櫛型グラフトポリマーを含有することを特徴とする赤色カラーフィルタ用感放射線性組成物。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which causes neither reduction of film retention nor chipping or undercut of a pattern even under low exposure energy, yields pixels and a black matrix excellent in solvent resistance and adhesion to a substrate, and has excellent storage stability as a liquid composition even if a pigment is contained in high concentration.例文帳に追加
低露光量でも、残膜率が低下したり、パターンの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与え、また顔料を高濃度に含有する条件下でも、液状組成物としての保存安定性に優れる新規な着色層形成用感放射線性組成物等を提供すること。 - 特許庁
To provide a semiconductive member which constitutes a contact charging means for image formation, and prevents contamination of a photoreceptor, causes neither deterioration of conductivity nor image degradation, has superior durability by suppressing adhesion of paper dust, toner, etc., and preventing bleeding from within the means or from within the means and from an outermost layer film, in a contact charging means of an electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加
電子写真方式画像形成装置の接触帯電手段において、紙粉・トナー等の付着を抑制し、内部、或いは内部及び最外層膜からのブリードを防止することにより、感光体汚染を防止し、導電性を損なわず、画像劣化もなく、耐久性にも優れた、画像形成用接触帯電手段を構成する半導電性部材を提供する。 - 特許庁
To provide an exterior container which constitutes a vacuum heat insulating material improving the effect on an ethylene/vinyl ester copolymer saponified film due to plasma etching, preventing the yellowing thereof and the formation of a weak interface layer and superior in its adhesion and gas barrier properties.例文帳に追加
エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物フィルムへのプラズマエッチングによる影響を改善し、その黄変、弱界面層の形成を防止し、エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物フィルムと無機酸化物からなる薄膜層との密着強度等を改良し、その密着性に優れ、かつ、ガスバリア性に優れ、更に、これを使用した真空断熱材を構成する外装容器を提供する。 - 特許庁
The semiconductor device includes a silicon layer formed with first and second circuits including respective electrodes; an SOI chip 1 having an embedded insulating film, and a supporting substrate in which a concave portion 1d where the embedded insulating film is exposed is formed in a portion corresponding to a formation region of the first circuit; and a base silicon substrate 14 formed with a compensating oxide film 15 on the surface.例文帳に追加
半導体装置は、それぞれ電極を含む第1および第2の回路が形成されたシリコン層と、埋め込み絶縁膜と、当該埋め込み絶縁膜が露出する凹み部1dが前記第1の回路の形成領域に対応する部分に形成された支持基板とを有するSOIチップ1と、表面に補償酸化膜15が形成された台座シリコン基板14とを備える。 - 特許庁
A component body 2 having a plurality of ceramic layers 95 and the plurality of internal electrodes 91-93, in which each portion of the plurality of internal electrodes is exposed, is formed to have conductive regions 96-98 with diffused formation of conductive components included in the internal electrodes, on the end face of the ceramic layer 95 located between the neighboring exposed terminals of the plurality of internal electrodes.例文帳に追加
複数のセラミック層95および複数の内部電極91〜93を備え、複数の内部電極の各一部が露出している、部品本体2として、複数の内部電極の隣り合う露出端間に位置するセラミック層95の端面に、内部電極に含まれる導電成分が拡散して形成された導電領域96〜98が存在しているものが作製される。 - 特許庁
To provide a conductive paste which has a high suppression effect of sintering contraction, and suppresses occurrence of cracks due to contraction difference between an inner electrode and a ceramic layer when used for formation of an inner electrode of a laminated ceramic electronic component, and can suppress and prevent increase of thickness of a product due to sintering contraction of the inner electrode, and a manufacturing method of the laminated ceramic electronic component.例文帳に追加
焼結収縮の抑制効果が高く、例えば、積層セラミック電子部品の内部電極の形成に用いた場合に、内部電極とセラミック層との収縮差によるクラックの発生を抑制し、かつ、内部電極の焼結収縮による製品の厚みの増大を抑制、防止することが可能な導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To realize a temperature measuring function by forming a semiconductor material layer on a glass face covering a time display face of a wrist watch, and by forming thereon a temperature sensor, a temperature detection circuit and a semiconductor memory in a membrane shape in micron order by a membrane formation process of a semiconductor device, almost without changing the thickness and the weight of the whole wrist watch from that of the conventional wrist watch.例文帳に追加
腕時計の時刻表示面を覆うガラス面に半導体材料層を形成し、その上に半導体デバイスの薄膜形成プロセスにより、ミクロンオーダーの薄膜状に、温度センサー、温度検出回路、および半導体メモリーを形成し、これにより腕時計全体の厚みや重量を従来の腕時計とほとんど変えることなく、温度測定機能を実現する。 - 特許庁
This ink composition used in the method for producing a color filter by forming a color pattern on a transparent substrate plate by the inkjet method is characterized by using the ink composition for the color filter, containing a coloring pigment, a thermosetting resin, a solvent and a silicone-based surfactant for the formation of the colored ink layer of the color filter.例文帳に追加
透明基板上にインクジェット方式にて色パターンを形成するカラーフィルタの製造方法において用いられるインキ組成物であって、着色顔料、熱硬化性樹脂、溶剤、およびシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用インキ組成物をカラーフィルタの着色インク層形成に使用することで課題を解決することができる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device where semiconductor circuit wiring is provided in the form of multilayer wiring structure through via holes provided one over the other in plural stages, and upper wiring, lower wiring, and a diffused layer are electrically continuous, and the device which has multilayer wiring structure which does not cause trouble concerned with voids occurring at formation of a wiring plug embedded in a lower via hole.例文帳に追加
基板上に複数段に重なて設けるビアホールを介して、半導体回路配線が多層配線構造で設けられ、上層配線、下層配線及び拡散層とが電気的に導通され、下部ビアホールの埋込み配線プラグ形成時に生ずるボイドに係わる障害を発生させない多層配線構造を有する半導体装置及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁
On a transparent substrate 1, for example, blue and green minute color filter areas 3B and 3G are arranged by gapping by a photolithography method, next, formation of a red minute color filter area 3R and filling in the gap are performed by application and polish of composite and the color filter substrate 10 without the gap and with flat surface of a color filter layer 3 is obtained.例文帳に追加
透明基板1上に、例えば、青色および緑色の微細カラーフィルター領域3Bおよび3Gをフォトリソグラフィー法により隙間をあけて配列し、次に、赤色の微細カラーフィルター領域3Rの形成と隙間への充填を、組成物の塗布と研磨により行ない、隙間が無く、カラーフィルター層3の表面が平坦なカラーフィルター基板10を得ることができた。 - 特許庁
At least in a display region 20 where a plurality of display pixels PIX (respective color pixels PXr, PXg, PXb) are two-dimensionally arranged, a partition wall layer 17 is formed to include boundary regions among the display pixels PIX, and cover regions other than EL element formation regions Rel (corresponding to application regions of an organic compound-containing liquid) of the respective display elements PIX.例文帳に追加
少なくとも、複数の表示画素PIX(各色画素PXr、PXg、PXb)が2次元配列された表示領域20において、隔壁層17は、表示画素PIX相互の境界領域を含み、各表示画素PIXのEL素子形成領域Rel(有機化合物含有液の塗布領域に相当する)以外の領域を被覆するように設けられている。 - 特許庁
In the transparent photocatalyst layer formation composition containing a silica compound, the photocatalyst particles have a crystal structure composed of a crystal part and an amorphous part surrounding the crystal part, 10-80% crystallinity, 3-30 nm average particle diameter, and (9 : 1) to (7.5 : 2.5) content ratio of the photocatalyst particles and the silica compound.例文帳に追加
光触媒粒子と、シリカ化合物とを含有する透明光触媒層形成組成物において、光触媒粒子は、結晶部をアモルファス部が囲んでなる結晶構造からなり、その結晶化度は10〜80%であり、かつ、当該光触媒粒子の平均粒子径は3nm〜30nmであり、かつ当該光触媒とシリカ化合物の含有比率が9:1〜7.5:2.5である。 - 特許庁
A strip of thin-film layer 4 is formed at the upper section of the high-breakdown-voltage junction terminator structure for potentially separating the section between first and second reference circuit formation regions 1 and 2.例文帳に追加
第1、第2基準回路形成領域1、2間を電位的に分離する高耐圧接合終端構造上部に帯状の薄膜層4が形成され、この薄膜層4に形成されるツェナーダイオードは、高耐圧NMOS5、高耐圧PMOS6が設けられている箇所やコーナ箇所の曲線部分Bと、基準回路形成領域1、2端部と平行している直線部分Cとに形成される。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.例文帳に追加
高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
A mask insulating film 3 serving as a mask for forming the trench 4 has a thinner film thickness portion at least at a periphery of an opening portion 6d for trench formation than at other parts, and the p-type epitaxial semiconductor layer 5 is buried in the trench 4 after the thinner film thickness portion of the mask insulating film 3 is etched away.例文帳に追加
トレンチ4を形成するためのマスクとなるマスク絶縁膜3が少なくとも前記トレンチ形成用開口部6d周辺で、他の部分より薄い膜厚部分を有し、前記トレンチ4にp型エピタキシャル半導体層5を埋め込む前に、前記マスク絶縁膜3の膜厚の薄い部分をエッチングして除去した後に、前記トレンチ4にp型エピタキシャル半導体層5を埋め込む。 - 特許庁
Polymer-based primer is added to paper made of nonwoven fabric or woven fibers made of heat-resistant synthetic fiber, a middle layer is provided, a base that is formed by impregnating the paper with resin is subjected to thermally mold with copper foil, and the copper foil is subjected to pattern etching, thus obtaining a circuit formation substrate that has excellent copper foil coherency and base interlayer peeling strength.例文帳に追加
耐熱性合成繊維からなる不織布あるいは織布繊維からなるペーパーにポリマー系プライマーを付与し、中間層を設けた後、ペーパーに樹脂を含浸させて形成した基材を銅箔とともに圧熱成型して銅箔基材を形成した後、前記銅箔にパターンエッチングを施すことにより銅箔密着性、基材層間剥離強度に優れた回路形成基板を得る。 - 特許庁
To provide an image forming method and an image forming apparatus which prevent lowering of image density and occurrence of image blur, a dash mark or transfer memory liable to occur in electrophotographic image formation using an organic photoreceptor containing inorganic particles in a surface layer, so that stable electrophotographic images can be formed over a prolonged period of time, and an organic photoreceptor used in the image forming method.例文帳に追加
無機粒子を表面層に含有する有機感光体を用いて、電子写真画像を形成する際に発生しやすい画像濃度の低下や画像ボケ、ダッシュマーク或いは転写メモリーの発生を防止し、長期に亘り安定した電子写真画像を形成できる画像形成方法及び画像形成装置、画像形成方法に用いられる有機感光体を提供する。 - 特許庁
A semiconductor substrate has a structure in which embedded insulating layers 12 and 13 consisting of oxide films are made on both sides of a silicon substrate 11, and that silicon layers 14 and 15 to serve as element forming regions for the formation of circuit elements are made severally thereon, and it becomes possible to form twice as many circuit elements as before by forming circuit elements in each silicon layer 14 and 15.例文帳に追加
本発明は、シリコン基板11の両面に酸化膜からなる埋め込み絶縁層12,13を形成し、さらにそれぞれ上層に回路素子を形成するための素子形成領域となるシリコン層14,15を形成した構造を有し、各シリコン層14,15に回路素子を形成することにより、2倍の回路素子数を形成することが可能となる半導体基板である。 - 特許庁
A stratified clay compound in which the quaternary ammonium salts added of an active chemical bond or a functional group exist between layers is mixed with the thermosetting resin, thereby reaction formation with the resin is made or interaction is added, and a silicate layer of the stratified clay compound is made to be homogeneously dispersed in the resin, and a superior dielectric property in a high-temperature range is exhibited.例文帳に追加
活性な化学結合あるいは官能基が付加された四級アンモニウム塩が層間に存在する層状粘土化合物を熱硬化性樹脂と混合することで、樹脂との反応の生起あるいは相互作用を付与させ、層状粘土化合物のシリケート層を樹脂中に均一分散させると共に、高温域における優れた誘電特性を発現させる。 - 特許庁
In the semiconductor device wherein an outside connection terminal 50 electrically connecting the electrode 12 of a semiconductor element through a wiring pattern 52 to the electrode formation face of the semiconductor element is formed, the outside connection terminal 50 is formed of a wire consisting of an electrically conductive material, and the bonding part side of the wire is provided to be buried in a metal layer forming the wiring pattern 52.例文帳に追加
半導体素子の電極形成面に、配線パターン52を介して半導体素子の電極12と電気的に接続する外部接続端子50が形成された半導体装置において、前記外部接続端子50が、導電材からなるワイヤにより形成され、該ワイヤのボンディング部側が前記配線パターン50を形成する金属層に埋没して設けられていることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a lithium secondary battery electrode in which charge and discharge cycle characteristics are enhanced by improving the adhesiveness of an active material layer to a current collector by suppressing the occurrence of deformation such as a wrinkle in the current collector, and the manufacturing cost of the battery can be reduced by forming the active material on the current collector at a high formation speed.例文帳に追加
集電体にしわなどの変形が生じるのを抑制しつつ、集電体に対する活物質層の密着性を向上させることにより充放電サイクル特性を向上させ、且つ、高い形成速度で活物質を集電体上に形成することにより電池の製造コストを低減できるリチウム二次電池用電極の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
The manufacturing method for the inkjet recording paper includes a preservative process of heating for more than one day after the formation of an ink absorbing layer including a polyvinyl alcohol, 250 to 800 mass % of at least one of fine particulate silica, to the polyvinyl alcohol and 1 to 15 mass % of non-ionic water-soluble low molecular organic compound on a plastic resin film support.例文帳に追加
プラスチック樹脂フィルム支持体上に、ポリビニルアルコールと、該ポリビニルアルコールに対して250〜800質量%の少なくとも1種の微粒子シリカと、該シリカに対して1〜15質量%の非イオン性の水溶性低分子有機化合物とを含有するインク吸収層を形成した後に、1日以上加温する保存工程を設けることを特徴とするインクジェット記録用紙の製造方法。 - 特許庁
To provide a dielectric formation glass paste for a plasma display panel capable of providing a baked film hardly leaving a trace of a screen mesh even when dried and baked immediately after forming a coating film by a screen printing method, having a smooth and uniform film thickness, and hardly including remaining foam, and capable of forming a dielectric layer high in transparency and withstand voltage.例文帳に追加
スクリーン印刷法により、塗付膜を形成後、直ちに乾燥、焼成しても、スクリーンメッシュの跡が残り難く平滑で均一な膜厚を有し、しかも、残存する泡が殆どない焼成膜を得ることができ、透明性及び耐電圧の高い誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストを提供することである。 - 特許庁
The body part 30 of the film formation apparatus 100, used for forming an epitaxial layer of e.g. SiC and Si on one main surface of a substrate 11, is equipped with a film deposition region 21 conducting film deposition using a raw material gas supplied from a gas supply part 9, and a decomposition region 22 decomposing unreacted residual gas not used for film deposition.例文帳に追加
基板11の一方の主表面上にたとえばSiCやSiのエピタキシャル層を形成するために用いる成膜装置100の本体部30は、ガス供給部9から供給される、成膜の原料となるガスを用いて成膜を行なう成膜領域21と、成膜に用いられなかった未反応の残留ガスを分解する分解領域22とを備えている。 - 特許庁
This program for extracting the partial document comprises an extraction condition acquisition procedure for acquiring the extraction condition such as the appearance frequency of a tag or layer number designated by the user, an analysis procedure for analyzing the structured document of the object based on the extraction condition, and a document formation procedure for forming the partial document while retaining the document structure based on the analysis result.例文帳に追加
本発明の部分文書の抽出プログラムは、ユーザが指定したタグの出現回数や階層数などの抽出条件を取得する抽出条件取得手順と、抽出条件にも基づいて対象の構造化文書を解析する解析手順と、解析結果に基づいて文書構造を保持しながら部分文書を作成する文書作成手順とで構成する。 - 特許庁
To provide a gas diffusion electrode joint and a PEFC allowing the use of a perfluorosulfonic ionomer having high proton conductivity and superior performance in a gas diffusion electrode joint producing method for a polymer fuel cell, and the uniform formation of a thin polymer electrolytic membrane on a catalyst layer, having lower internal resistance, low-humidification or non-humidification operating adaptability and high output.例文帳に追加
高分子型燃料電池のガス拡散電極接合体の製造方法において、プロトン伝導度の高い性能の優れたパーフロオロスルホン酸イオノマーを使用でき、かつ膜厚の薄い高分子電解質膜を触媒層上に均一に形成でき、内部抵抗の低い、低加湿または無加湿作動に適した、高出力のガス拡散電極接合体、およびPEFCを提供する。 - 特許庁
To provide an inorganic powder-containing resin composition which achieves high solvent resistance of a pattern after development and can form a black matrix suitable for batch formation of a plurality of members; a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition; and a method for manufacturing a flat panel display in which a plurality of members including a black matrix are batch-formed.例文帳に追加
本発明は、現像後のパターンの耐溶剤性が高く、複数部材の一括形成に適したブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、ブラックマトリクスを含む複数部材を一括形成するフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The wiring formation method includes: a process for forming a coating layer 3 having a dispersed solution including conductive fine particles, on a resin substrate 1; a process for forming a conductive fine wiring 4 by consecutively irradiating a specific area of the coating layer 3 with a laser beam 6; and a process for removing material in the area other than the conductive fine wiring 4.例文帳に追加
樹脂基板1上に、導電性微粒子を含有する分散溶液の塗布層3を形成する工程と、レーザ光6を塗布層3の特定領域に連続的に照射していくことで、導電性微細配線4を形成する工程と、導電性微細配線4以外の領域の材料を除去する工程とを備え、塗布層3の厚さをd、塗布層3の光吸収係数をα、レーザ光6の入射光強度をI_0、樹脂基板1上に到達するレーザ光6の透過光強度をI_1とするとき、以下の関係式から成り立つことを特徴とする。 - 特許庁
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